"리소그래피" 검색결과 421-440 / 527건

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  rp의 종류

  이것은 사용가능한 작업재료의 관점에서, 스테레오리소그래피보다 더 용도가 넓은 공정이다. ... 층 두께는 보통 0.075에서 0.50mm정도이다.SLS는 스테레오리소그래피에 대한 대안으로서 Texas대학(Austin)에ㅓ 개발되었고, SLS기계는 현재 DTM사에 의해 판매되고

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.01.19 | 수정일 2014.02.04

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  유비쿼터스 설명

  많은 마이크로머신 처리 단계는 기본적인 IC 공정인 포토리소그래피, 재료 증착, 반응이온 및 화학적 에칭에서 비롯되었다.그러나 CMOS 로드맵이 평면 및 두께로 더욱 많은 디바이스를

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.10.06

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  ITO glass cutting, glass 세정 및 건조공정

  리소그래피 노출장비는 포토마스크의 영상을 웨이퍼상에 투영하기 위해서 사용되며, 투영시 영상을 4배만큼 축사시켜준다. ... 일부 현대적인 레이저를 기반으로 하는 포토마스크 묘화용 플랫폼들은 스테퍼 스캐너라는 리소그래피 노출장비를 기반으로 하고있다. ... 이 장치는 이미 그래픽 아트 산업분야에서 컴퓨터-판 옵셋 리소그래피를 위해 Agfa와 Dai Nippon Screen(DNS) 등이 사용하고 있었다.

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.11.01

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  갈륨비소

  범위의 파장을 가진 빛을 전력으로 변환하거나 보다 단색화된 고강도 빛을 저역치에서 온도 의존성이 없이 발광하는 것을 기대할 수 있기 때문에 그 실용화가 검토되고 있다.그러나, 종래의 리소그래피

  리포트 | 23페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.12

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  포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리

  다음으로 포토리소그래피 과정에 대해 자세히 살펴보도록 하자.2. ... 또한 불순물 침투나 접합이 필요한 곳 어디나 이런 장벽 물질에 구멍이나 창을 뚫게 된다.패턴 창을 가지는 마스크는 포토리소그래피라 불리는 과정을 통하여 실리콘 웨이퍼 표면에 전사된다 ... Photolithography 과정Photolithography 와 금속 배선 기술2.1 웨이퍼와 웨이퍼 세척- 웨이퍼 세척 공정은 리소그래피를 처음하는 각 공정에서 반드시 행해야

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17

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  [공학]박막공정에대해

  Thin Film Process 박막증착과 포토리소그래피기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 형성하는 일련의 과정 덩어리 재료(Bulk Material)에는 없거나 나타나기 어려운 ... 물성을 얻기위하여 덩어리 재료인 기판위에 박막(Thin Film)을 성장시키고 이용박막공정의 순서세척(Cleaning)= 증착(Deposition)= 포토리소그래피(Photolithography ... 예리한 단속 절삭 밀링 가능 500°C 이하에서 고속도강 적용 가능 CVD의 장점: 우수한 내마모성 단점 : 높은 공정 온도 금속 화합물 코팅은 불가능 환경문제-독성 물질의 사용포토리소그래피

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.06.16

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  [전자공학]ELECTROFORMING기술을 이용한 신재료 개발 및 응용

  치수의 정확도는 위에서 설명한 리소그래피를 이용한 LIGA공정이나 SIGA공정 등 여러 방안들이 대두되고 있다.2. ... LIGA process는 리소그래피공정과 도금공정, 주형공정이 일괄적으로 이루어지는데 쉽게 설명하면 micro-molding을 이용해서 micro-device부품을 제조할 수 있다.최근 ... 저항체를 노광 및 현상하는 엑스선 리소그래피공정이 이루어 진다.(3) 엑스선에 노출되어진 PMMA부분은 그림에서와 같이 사라지게 되고 감광저항체에 의해 가려진 부분은 남아있게 된다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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  [디스플레이]전자종이

  일반적으로 빛을 이용한 리소그래피 기술에서는 파장이 해상 한계를 나타내는 하나의 척도이기 때문에, 종래 기술로는 그 이상의 고집적화는 어려운 상황이다. ... 따라서 최근 들어 리소그래피 기술이 발전함에 따라 encapsulation 대신 기판 위에 직접 격막 (micro-cup, micro-wall 또는 micro-rib)을 형성하고, ... 이는 고정밀도의 리소그래피 장비를 사용하므로 균일한 크기의 container 공간을 형성할 수 있고, 추가적인 binder 개발이나 monolayer control 등의 공정이 필요

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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  반도체 나노와이어 특성 및 원리

  SiNW가 분산된 용액을 Si/SiO2 기판 위에 떨어뜨려 SiNW를 정렬 시킨 후, 전자빔 또는 광 리소그래피 방법으로 소스, 드레인 게이트 전극을 형성시킴으로써 소자를 제조한다.박막

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.14

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  포항 방사 가속기

  유감스럽게도 국내에서는 기업체들이 X선 리소그래피에 아직 관심을 보이지 않고 있으나 외국에서는 방사광의 중요한 이용 분야 중 하나로 꼽히고 있다.초고집적 회로보다는 스케일이 큰 편이지만 ... 생산하는데도 이용된다. 1 Giga DRAM이나 그 이상의 고집적 회로의 생산을 위해서는 결국은 파장이 짧은 연X선을 사용해야만 될 것이라는 예견아래 일본, 미국, 유럽 등에서는 X선 리소그래피

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.02.02

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  [재료공학실험]리쏘그래피 (lithography)

  이러한 문제점들을 해결할 수 있는 방법으로는 상온저압 프린팅 공정기술인 UV나노임프린트 리소그래피(ultraviolet nanoimprint lithography, UV-NIL)를 ... 가지고 있으나 고압 공정시에 패턴형상이 변하고 alignment가 어려운 등의 앞으로 해결해야 할 여러가지 단점도 가지고 있다1996년 Chou교수가 개발한 가열방식의 나노임프린트 리소그래피 ... 방식으로 전체 웨이퍼를 한번에 임프린트하는 것이 아니라 소 단위 크기의 스탬프로 여러 번 반복하여 임프린트하는 방식을 채택Multi-dispensing 방법에 의한UV-나노임프린트 리소그래피하고

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.24

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  로터스 이펙트 Lotus Effect

  하지만 규칙적인 나노 구조물 제작을 위하여 전자빔리소그래피 공정이 필요하게 되어, 고가의 공정비와 더불어 긴 공정소요시간 및 대 면적 공정의 어려움이 있다.4.

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.24

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  자성나노입자의 특성 및 응용

  기술혁명을 가져올 것이라는 기대 때문에 우리나라를 위해서 미국,일본 등 선진국들이 연구개발에 막대한 예산을 투자하고 있는 분야이다.100나노미터 이하의 크기를 다루는 나노기술은 특히 리소그래피기술에 ... 21세기 제3의 기술혁명을 주도할 것이라는 인식이 확산되면서 이분야에서 기술 우위를 선정하기 위한 선진국들의 기술경쟁이 치열하게 전개되고 있는데 특히 실리콘을 기반으로 하는 현재 리소그래피

  리포트 | 27페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.10

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  [생명공학] 유전자 칩(DNA chip)

  미국의 아피메트릭스사가 컴퓨터 칩을 만들기 위해 사용하는 포토 리소그래피(photolithography)를 응용 ④ 일렉트릭 어레(electronic array) dna가 (-)전하를 ... 원리를 이용하여 Dna chip을 만드는 방법 -cartridge를 사용함 각각의 cartridg안에는 유전자가 들어 있음 -전기적인 힘으로서 유전자를 고 형체 위에 뿌림③ 포토리소그래피칩

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.01.11

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  [공학]나노임프린터 공정과 연구동향

  .● 나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography, NIL)나노임프린트 리소그래피(Nanoimprint lithography, NIL) 기술은 경제적이고도 효과적으로 ... 따라서 UV-NIL은 상온 저압공정이 가능하여 다층화공정 및 대량생산에 적합하다는 장점을 갖고 있다.● 몰드-어시스티드 리소그래피 (Mold-Assisted Lithography, ... ITRS)에는 NIL기술이 신규로 추가되었는데 이는 extreme ultraviolet lithography(EUV), mask-less lithography(ML2)와 더불어 차세대 리소그래피로서의

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.21

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  유기 태양전지 (Organic Solar Cell)

  계량, 폰테인 롤러가 추가되기도 한다.그림 2.8 롤코팅과 프린팅 시스템의 설계도면한편, 플렉소그래피 인쇄와 옵셋 인쇄의 경우 잉크를 여러 개의 공급 롤러가 코팅 롤러에 공급하며, 리소그래피

  리포트 | 27페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.11.01 | 수정일 2016.05.11

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  반도체공정 ppt

  베이스폭은 두번의 확산 리소그래피 간격에 측면 확산의 정도를 더해서 결정되고 이는 npn 트랜지스터의 그것보다 휠씬 높다 .

  리포트 | 34페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.06.12 | 수정일 2014.05.02

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  [과학] 나노 테크놀리지

  각인(Nano-imprint)을 이용하는 방법나노 각인 리소그래피(Nano-Imprint Lithography : NIL)는 나노 패터닝 기술의 하나이는 리소그래피에서 나타나는 회절 ... SPM SPM은 100nm에서 0.1nm에 이르는 영역을 관찰 나노 리소그래피, 나노 영역에서의 조작 빛 핸들링 등의 기능SPM의 종류원자현미경 중 최초인 STM 부도체 시료의 측정을 ... DRAM(Dynamic Random Access Memory)를 기준으로, 2005년에는 16Gbit-0.1㎛ 즉,100nm의 시대 예상 - 차세대 리소그래피(Next Generation

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.06.01

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  [공학기술]공명터널링 다이오드

  기판의 윗면에 AuGe, Ni 층을 적층 (11번 층 ) 리소그래피를 통해 AuGe/Ni 점을 형성 (OHMIC LIFT-OFF)공명 터널링 다이오드식각 비등방 RIE (Reactive ... 250Ån+-GaAs0.5 μm재료두께공명 터널링 다이오드Deposition 기판의 뒷면에 AuGe, Ni 층을 적층 (10번 층, OHMIC BACK) 컬렉터에 접촉하는 단자 역할 리소그래피

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.02

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  포토 예비

  사진 기술을 응용한 것이어서 포토리소그래피라고도 한다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.19

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