"리소그라피" 검색결과 41-60 / 111건

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  EUVL (Extreme Ultraviolet Lithography) for semiconductor processing

  이승윤, 안진호, 차세대 극자외선 리소그라피(EUVL) 기술, 전자공학회지, 제33권, 제5호 (2006).2. ... 진윤식, 박도영, 전정우, 정영민, 극자외선(EUV) 리소그라피를 위한 광원 및 스테이지 기술, 전기의 세계, 제51권, 제2호 (2002).4.

  리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.06.26

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  [2015 년도 A+] 패터닝 결과레포트

  (실험에서 사용된 웨이퍼는 Si로 이루어진 웨이퍼에Thermal Oxidation 반응을 일으켜서, 그 위에 얇게 SiO2가입혀지고, 또 PR 공정을 거쳐서 총 3단의 층을 가지며리소그라피

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.03.11

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  탄소나노튜브를 이용한 기술특허

  또한, 간단한 포토리소그라피 공정 및 에칭 공정을 이용하여 원하는 모양의 패턴을 제작할 수 있는, 탄소나노튜브를 이용하여 투명 전도성 필름을 제작하는 방법 및 그 방법을 이용하여 생성된 ... 여기서 포토리소그라피란 석판인쇄술을 뜻하며, 빛을 이용하여 원하는대로 디자인하여 그릴 수 있으며 주로 반도체와 LCD공정에 이용되는 공정이다.본 발명이 해결하고자 하는 과제들은 이상에서 ... 생성된 투명 전도성 필름의 후처리를 통해 불순물을 용이하게 제거함으로써 투명 전도성 필름의 투과도를 유지하면서도 전도도를 향상시킬 수 있다.셋째, 생성된 투명 전도성 필름을 포토리소그라피

  리포트 | 23페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.27

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  photolithography introduction and process details

  PhotolithographyContentsIntroductionIProcess detailsIIPhoto resist techniqueIIIApplication in researchIVIntroductionIWhat is the Photolithography???Ph..

  리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2009.11.17

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  [반도체공정]반도체공정

  리소그라피 기술은 패턴을 형성하는 방법에 따라 광 리소그라피(photo lithography), 전자 빔 리소그라피(Electron Beam Lithography, EBL), X-레이 ... 리소그라피(X-ray lithography) 방법으로 구분한다. ... 광 리소그라피 방법은 빛을 이용하여 패턴을 훼이퍼 표면에 형성하는 기술이다.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.12.23

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  나노과학의 발달과 이에 따른 생활의 변화

  향후 세계시장을 선점할 10대 소재’본의 이지마 연구팀에서 전지 방전법을 이용하여 탄소나노튜브를 발견.물리적 성질탄소나노튜브비교재료크기0.6~20nm(직경)50nm 미세공정(전자빔 리소그라피

  리포트 | 24페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.04.22

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  지식정보화사회 완벽정리

  : 광, 전자빔, 이온빔 등을 사용하는 리소그라피기술- MENS 제작공정기술 : 나노미터 크기의 기계적 구조물을 형성하기 위한 다양한 공정기술반도체 나노 소자기술- SOI MOSFET ... 관련기술- 나노 에칭기술 : 나노미터 크기의 미세패턴 형성에 적용되는 손상을 최소화하는 식각기술- 나노 박막기술 : 나노미터 두께의 박막의 증착 및 특성을 제어하는 기술- 나노 리소그라피기술

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.09.19

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  반도체공정에 관한 작성 문서

  리소그라피기술은 패턴을 형성하는 방법에 따라 광 리소그라피(photo lithography), 전자빔 리소그라피(Electron Beam Lithography, EBL), X-레이 ... 리소그라피(X-raylithography) 방법으로 구분한다. ... 광 리소그라피 방법은 빛을 이용하여 패턴을훼이퍼 표면에 형성하는 기술이다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.04.30

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  [과제물]MEMS - 파인만 강의 요약 및 논문 요약 1

  또한 리소그라피 공정과 마스크 제작, 에칭 공정의 개발에 대한 연구도 계속적으로 진행되고 있다.Microfabricated design은 일련의 마스크 세트와 공정 순서를 거친다. ... 디자인 툴도 매우 밀접한 관련이 있다.Silicon micromachining은 다양한 금속, 반도체, 절연 필름 등의 물질을 실리콘 웨이퍼에 평탄하게 입히고, 마스크를 사용하여 리소그라피

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.10.05

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  [반도체공정] 스퍼터링

  이번 리소그라피와 스퍼터링 증착을 이용한 실험에서 이론적인 지식들에서 나의 경험적인 지식들로 받아들일 수 있어 부뜻했다.{nameOfApplication=Show}

  리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.22

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  40나노_기술_응용(소자)

  대량처리가 가능하다 단점- 기판과 증학 재료간의 열팽창계수 차이를 고려 비용이 비쌈종류 : AP CVD , LP CVD , PE CVD1.EUV를 사용한 리소그라피기존 반도체 디바이스의

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  경제학-석유화학산업에 대한 이해

  에칭, 도핑 등에 사용되는 다종의 가스화학 약품-세정, 에칭, 리소그라피 공정에 사용배선 재료-웨이퍼 상에 주입되어 회로로 사용c.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.04.07

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  lithography

  LithographyContents◈ Photolithography process ◈ Etching Technique ◈ Exposure System ◈ Exposure Source ◈ Optical and Electron Microscopy ◈ SummaryPhoto..

  리포트 | 39페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.01.18

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  lotus effect와 공정

  이 기술은 2단계 열성형 모세관리소그라피 방식에 의한 것으로, 먼저 기관위에 스핀코팅을 하여 균일한 고분자 박막을 형성하고, 형성된 고분자 박막위에 음각의 패턴을 가진 PDMS 몰드를

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.06.17

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  Bottom Up 기술, 나노기술을 설명 해보았습니다.

  없는 부분을 깎아 내려가면서 만드는 방법이고 Bottom Up방식은 나노입자를 차곡차곡 쌓아서 원하는 형태의 패턴을 만들어 내는 방식이다.나노전자소자의 제조공정 방식은 큰 물체를 리소그라피

  리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.24

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  Nanowire 기술동향 및 AlN nanowire by HVPE

  그러나 실리콘 기반으로 하는 반도체 기술은 마이크로 리소그라피를 기반으로 하는데, 이 방법으로는 나노미터 규모의 선폭을 구현하는데 한계가 있다.

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2012.05.01

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  논문 요약 숙제 Nanoletters 2008 Vol. 8, No. 11 3865-3869

  NANO LETTERS 2008 Vol. 8, No. 11 3865-3869Sub-10 nm Nanoimprint Lithography by Wafer BowingWei Wu,*,†† William M. Tong,††,‡‡ Jonathan Bartman,‡‡ Yufen..

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.04

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  [반도체공학]반도체공학 요점정리

  리소그라피 기술은 패턴을 형성하는 방법에 따라 광 리소그라피, 전자 빔 리소그라피, X-레이 리소그라피 방법으로 구분한다. ... 하지만 이는 어닐링으로 해결이 가능하다.4 리소그라피 기술-리소그라피 기술은 그래픽 이미지를 가진 마스크를 실리콘 웨이퍼의 표면 위에 그대로 옮겨서 원하는 패턴을 형성하는 기술이다. ... 광 리소그라피 방법은 빛을 이용하여 패턴을 훼이퍼 표면에 형성하는 기술이다.

  시험자료 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.27 | 수정일 2014.06.30

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  LCD 제조공정 비용절감 기술 및 특허동향

  나노 임프린팅 공정으로 대체하는 공정으로 가격이 비싸고 까다로운 노광 공정을 없애고 간단히 도장 찍는 것과 같은 원리로 TFT 패턴을 형성하는 방법이다.장점 : 기존의 포토 리소그라피 ... 제거하여 TFT 형성함.2) TFT_ array 분야에서의 잉크젯 프린팅 공정1) APEM ( Anti Photo Exposure Method )TFT LCD 기판의 공정을 기존의 포토리소그라피에서

  리포트 | 21페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.03.25

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  Photo Lithography

  2. Photo Lithography(0) 리소그래피 기술의 개요2-리소그래피는 포토마스크 기판에 그려진 VLSI의 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 수단이다. 포토레지스트(감광성 수지)의 도포에서 시작되어 스테퍼(노광장치))에 의한 패턴의 축소투영노광, 현상을 거쳐 포토레..

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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