"RF Magnetron Sputter" 검색결과 41-60 / 144건

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  AFM 실험결과보고서

  실험과정RF magnetron Sputtering system 실험 조건ParameterSubstrateFTO glass (2x2 cm²)Base vacuum3x10-6 torrTargetTiO2 ... 연구주제- RF Sputtering system의 시간 변수에 따른 TiO2 증착실험2. 연구자-3. ... (pure 99.9%)Sputtering gasArworking pressure5x10-3 torrPre-Sputtering RF power100WDeposition RF power300WSubstrate

  리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.10.12

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  태양전지용 ZnO:Al 투명전도막의 제작

  한국재료학회 탁성주, 강민구, 김동환

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  연속 ECR-CVD 조업하에 RF-magnetron-sputter의 싸이클조업을 통해 PET위에 올려진 구리박막의 특성

  한국재료학회 명종윤, 전법주, 변동진, 이중기

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  실리콘 이종접합 태양전지의 Zn 확산방지층에 의한 TCO/a-Si:H 층간의 계면특성 변화

  한국재료학회 탁성주, 손창식, 김동환

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  RF 마그네트론 스퍼터링법으로 증착된 CdS 박막의 CdCl2 열처리 효과

  한국재료학회 최수영, 천승주, 정영훈, 이승훈, 배수현, 탁성주, 김지현, 김동환

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  PVD

  Magnetron Sputtering 63구성 : Target[cathode] + Substrate[anode] + RF power supply + impedance matching ... box RF Sputtering 6465 e e e e e e + − RF Sputtering66 e e e e e e - + RF Sputtering67 V + − RF Sputtering68 ... e e e e e e + − −+ V B.C RF Sputtering69 절연물질의 박막화 가능 저압 공정 가능 (up to 1 mTorr ) Low sputtering rate

  리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24

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  85화합물 반도체 공정(유전막 증착)

  특징Sputtering의 종류DC 스퍼터링 RF 스퍼터링 Magnetron 스퍼터링 그 밖의 스퍼터링 - 3극 스퍼터링 - Unbalanced magnetron 스퍼터링 - 반응성 ... 증착속도가 느리다 - Magnetron Sputtering이 보완함RF 스퍼터링RF 스퍼터링 장치는 절연체의 박막을 증착시키기 위해서 개발됨.Target이 절연체일 경우 직류 전압을 ... Unbalanced magnetron 스퍼터링 Unbalanced magnetron 스퍼터링 장치는 기본적으로 magnetron 스퍼터링 장치지만 내부 자석과 외부자석의 자장세기가

  리포트 | 43페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  반사방지막코팅

  를 높이는 방법 이다 .RF Magnetron Sputtering 25 RF sputtering 은 금속 이외에도 비금속 , 절연체 , 산화물 , 유전체 , 등 의 sputtering ... 이 가능하며 주로 13.56MHz 의 고주파 전원 을 사용한다 Ar gasRF Magnetron Sputtering 26측정 1 기계적 방법 2 현미경적 방법 3 광학적 방법여러층 ... E-beam evaporation 의 장단점22Sputtering 23 장 점 단 점 1.

  리포트 | 39페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  [공학]Al thin film and PVD

  sputtering ” - RF Sputtering Requirements (a) ~(e)Physical Vapor deposition (PVD) by sputtering(a) Replenish ... dark space VT : negative target voltagePhysical Vapor deposition (PVD) by sputteringCircular planar magnetrons ... Generic Sputtering system 1) Sputtering Targets - circular disk 3~10 mm thick - water-cooled Cu backing

  리포트 | 25페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.02.05

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  Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  sputteringⅣ) Reactivity Sputtering4. ... 열전도성이 좋지 않아 열충격에 약하다.- 제한된 증착 속도로 증착 ⇒ 금속 target을 반응성 증착으로 절연막 형성- 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지 않는다.Ⅲ) magnetron ... RF sputtering은 금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 sputtering이 가능하다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03

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  RF sputtering

  diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 방법이 기본이다.(1) metallic cathodetarget은 ... interaction events occurring at and near the target surface during the sputtering process (after Weissmantel)Sputtering ... Structure-zone diagram showing schematic microstructures of films deposited by cylindrical magnetron

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  박막증착

  아마도 단원자들은 DC 스퍼터링에 반응하고 화합물은 RF/Pulsed DC Sputtering이나 반응성 DC Sputtering에 반응한다. ... 것) 그리고 (2) 복합target이 Sputtering하는 동안에 분해되서 화학양론이 복원되어야 할때이다.(4)균형/비균형 Sputtering만약 마그네트론 스퍼터 소스에 있는 ... 이러한 배열은 균형 잡힌(Balanced) 마그네트론으로 불리며 가장 일반적으로 사용된다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01

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  Cu 박막 전기적 특성 분석

  Magnetron sputtering은 Target의 뒷면에영구자석이나 전자석을 배열함으로써 전기장에 의해(RF 또는 DC)target로부터 방출되는 전자를target 바깥으로 형성되는 ... 1x1 기판을 꺼냄(O인 지점에 Ar+를 가속시키는 Magnetron과 증착시키고자하는 Cu가 있다)③ 열처리? ... RF sputtering는 교류전원을 이용하며 13.56Hz의 주파수를 가지며, 전도체뿐만 아니라 절연체, 비금속, 유전체를 target으로 하여 이용할 수 있으나, 증착속도가 제한되며

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2012.09.21 | 수정일 2015.09.17

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  ICP ( 고주파유도결합플라즈마)

  현재 상용화되어 증착 공정에서 많이 사용되는 마그네트론-Sputtering의 경우 입자의 이온화율이 10%를 넘지 못하는데 반하여 ICP-Sputtering의 경우 약 80%까지 증가시킬 ... SputteringSputtering은 고진공의 진공챔버내에 불활성 가스인 아르곤가스를 일정한 분위기의 압력이 되도록 채운 다음에 DC 및 RF Power를 타겟이 음극이 되도록 인가하여 ... 최근 ICP 발생 코일을 Sputtering 장치 내부에 삽입하여 실리콘 기판 위에 금속물질을 증착하였는데 이때 금속의 이온화 율이 기존의 Sputtering법보다 월등히 증가하는

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.05.30

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  플라즈마, Chemical Vapor Deposition 와 Physical Vapor Deposition

  Ionization of RF magnetron sputtering is mainly affected electrons which perform an oscillating motion ... Sputtering ProcessEffect of target poisoning during reactive magnetron sputtering Schematic representations ... Vf (RF DC) Ref.

  리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.18

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  반도체 공정의 이해

  ( DC/RF/magnetron ) Evaporation( Thermal/E-beam ) LPCVD( Low pressure CVD ) PECVD( Plasma Enhanced CVD ... Generic logic + Analog( Mixed ) + RF ….. Low power logic( LP ) + Analog( Mixed ) + RF …. ... Ar, O2 진공 챔버 plasma Substrate heater 형성된 박막 이온화된 Ar magnetron 전원장치 evaporation 은 sputtering 대비 높은 증착률을

  리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.18

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  Sputter 원리 및 종류 영어 발표자료

  RF Sputter..PAGE:12Plasma++Vacuum pumpTargetNNS자기장+eCathodeeePowerSupplyType of Sputter Magnetron SputterMagnetron ... crystallinityLow temperature (compared to high temperature)High deposition rateLow crystallinityDC/RF ... mobility Electrons & Ions..PAGE:5Deposition Parameters of SputterSputtering yieldSubstrate TemperatureDC/RF

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.02.06

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  ZnO의 성장 및 열처리 조건이 물질 특성에 미치는 영향

  RF Magnetron Sputter 모식도3) RF Magnetron Sputter 장점과 단점RF Magnetron Sputter는 막 두께의 균일성을 만드는데 좋은 장비이다. ... .2) 방법그림 4는 RF Magnetron Sputter를 나타낸 그림이다. ... 시료제작 방법 (Sputtering)4.

  리포트 | 48페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.12.18

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  59스퍼터링02

  All Rights Reserved.Plasma++Magnetron Sputtering진공펌프TargetNNS타겟 뒤에 자석을 설치하여 전자가 타겟주위의 전기 및 자기장에 머무르게 ... All Rights Reserved.RF SputteringTargetRF Power Supply진공펌프타겟 홀더Plasma교류 전원을 이용한 스퍼터 방법(13.56MHz)❏ 장 점 ... Yield이온 `에너지에 따른 결정방향별 Sputter YieldMt/Mi가 클수록 Sputter Yield 증가이온의 입사각 : 약 80°에서 Max Sputter Yield값을

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  ITO Glass

  , Pulsed laser deposition 등이 있는데, 가장 많이 사용되는 방법은 DC/RF Magnetron sputtering이다.* Magnetron SputteringSputtering은 ... 기판이 과열되기 쉽다.2) RF Sputtering : DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering이 되지 않는다. ... ITO 박막 제조ITO 박막의 제조는 Chemical vapor deposition, DC/RF Magnetron sputtering, Evaporation, Spray pyrolysis

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.17

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