"WET ITO etch" 검색결과 41-56 / 56건

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  OLED 제작 전처리 공정 문서

  따라서 Wet Etching 과 Dry Etching 으로 나눌 수 있다.Wet Etching 은 금속 등과 반응하여 부식시키는 산(Acid) 계열의 화학 약품을 이용하여 노출되어 ... 이후 2 차 세정을 통하여 잔류 금속 불순물들을 제거하여 최종 기판의 이물질을 제거하게 된다.(2) ITO Deposition우리가 Anode(양극) 으로 사용되어 지게 될 ITO ... Hard Bake 는 Soft Bake 에 비해 좀 더 오랜 시간 이루어지게 된다. 30 분에서 1시간 정도의 시간 동안 Hard Bake 과정을 하게 된다.(8) Etching식각

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.03.01

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  OLED 효율성 향상 방안... 간단한 시장조사..

  OLED의 패턴 공정에서는 wet etching 방식을 사용한다.● Stripping 공정ITO가 etching되고 나면 패턴된 ITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야 한다. ... Etching은 그 방법에 따라 크게 wet etching과 dry etching으로 나누어지는데 wet etching은 주로 liquid상태의 chemical을 사용하는 모든 종류의 ... 전면에 형성된 ITO film을 현상과정에서 형성된 PR층의 패턴을 통해 선택적으로 제거해 내는 etching 공정을 진행한다.

  리포트 | 36페이지 | 4,000원 | 등록일 2007.12.03

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  디스플래이공학실험-oled

  HCl을 이용한 wet etching-캡톤 tape는 열과 산에 강하여 ITO Glassdp 덮여진 부분은 산으로부터 보호하여 나머지 부분의 코팅을 벗겨내고 덮여진 부분만 ITO전극을 ... 염산은 휘발성이 강하므로 증기가 바로 나와서 편하며 물에 잘 녹는다.HClWet etching하는 모습4)염산 증기를 쐬여준 ITO Glass에 믇어있는 염산 증기를 제거해준다. ... etching 시에 캡톤 테이프로 전극이 될 부분을 막는 것이 부실해서 etching이 되지 않았을까 생각되어진다.Voltage-Current 그래프를 보면 요하다.

  리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.03.28

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  TFT-LCD

  ITO Pattern 형성은 주로 Wet Etching 방식을 사용한다. ... 이때 형성된 pixel Electrode(ITO)와 Color Filter 기판에 설치된 공통 전극(ITO)사이에 신호 전압을 인가하여 두 전극 사이의 액정 분자 배열 방향을 제어함으로써 ... 위한 pixel Electrode 형성은 투명 전극 재료인 ITO(Indium Tin Oxide)를 이용한다.

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.27

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  OLED 소자 제작공정

  공정 진행 ITO film 을 PR 층의 pattern 을 통해 선택적으로 제거하는 과정 방법 -wet etching 과 dry etching 으로 나뉨 Stripping Patterning ... Development( 현상 ) - 분자구조가 변환된 PR 을 유기 용매를 이용해 용해시키는 과정 열처리 PR 내부에 미미하게 남아있는 slovent 제거와 세척 후의 완전한 수분제거 목적 Etching ... 의 저 저항화 , ITO/ 유기박막 접합계면의 일함수값의 적절한 균형이 중요 Sputtering 이나 ion planting 과 같은 기술을 이용한 유기 EL 전용 ITO 박막 제작

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.12.13

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  LED 조명

  etching 처리Bonding 계면 미분리 → Bonding 재질 온도 압력 재설정Vertichow} ... Semileds (수율 신뢰성 확보 미비) → 삼성,LG : 개발 중→ 단기간에 따라 잡을 수 있음Sapphiren(-) 전극YAGn-GaNp-GaNMQW Active본딩 (+)전극ITO ... metalp-GaNn-GaNDamage free Laser lift-off →248 KrF 엑시머 사용n-GaN roughness optimizer → Ohmic 및 ext 향상 →KOH Wet

  리포트 | 50페이지 | 6,000원 | 등록일 2012.03.27

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  OLED

  Tape를 이용하여 MASK 형성 후 WET ITP Etching- 강산 실험 안전 주의(* Capton Tape : 열에 강해서 반도체에서도 쓰이고, 산에도 강함)1.1.3 ID ... 실험 방법1.1 OLED ITO Etching 및 Evaporation Organic and Metal1.1.1 ITO Glass Cutting - 2 × 2 cm1.1.2 Captone ... 실험 내용 및 결과3.1 실험 내용ITO Etching까지 완성한 기판을 Plasma Treatment 해주어 기판표면의 Rough함을 없애고, 평면화, 세정을 해준다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.02

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  OLED 기술

  사용하는 모든 etching을 의미하며 dry etching은 plasma를 이용한 모든 식각 공정을 포괄적으로 의미한다.OLED 공정에서는 wet etching방식을 사용한다.ITO가 ... 공정을 진행한다.etching은 그 방법에 따라 크게 wet etching과 dry etching으로 나누어지는데 wet etching은 주로 liquid 상태의 chemical을 ... etching되고 나면 patterning된 ITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야 한다이 과정을 stripping이라 하며, stripping은 그 방법에 따라 batch 방식과

  리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.24

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  CNT와Graphene이용

  또한, 실린더를 구성하는 블록의 제거는 습식에칭(wet etching)과 UV 조사(UV radiation)를 함께 적용하여 수행될 수 있다.본 발명에 있어서, 상기 (b)단계의 블록공중합체는 ... Key Point- Graphene 층 만들기투명전극용 재료로서 자주 응용되는 ITO(Indium Tin Oxide)는 높은 전도도 및 우수한 광투과도를 지니지만 구부릴 경우 쉽게

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.11.27

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  [반도체공학]OLED시장분석 및 기술동향

  유기재료의 특성상 일반적으로 Wet Etching 공정이 적용되기 어려운 점을 감안하여 ITO 양극전극 위에 유기물을 적층하기에 앞서 Photo-Lithography를 이용한 음극분리 ... 첫째는 ITO의 일함수를 증가시키는 방법이며, 나머지는 ITO와 유기물 층 사이에 ITO의 일함수보다 크고 유기물 층의 LUMO 준위보다는 작거나 같은 유기 혹은 무기 전하 주입층을 ... 삽입하는 방법이다.ITO 전극의 일함수를 증가시키기 위해서 여러 가지 방법이 시도되고 있으며 그 중 가장 일반적인 방법은 ITO 전극의 표면처리를 통해 ITO 전극 표면의 일함수를

  리포트 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.10.24

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  TFT-LCD의 원리와 제조 공정

  이때 형성된 pixel Electrode(ITO)와 Color Filter 기판에 설치된 공통 전극(ITO)사이에 신호 전압을 인가하여 두 전극 사이의 액정 분자 배열 방향을 제어함으로써 ... 액정 Cell의 동작이 이루어진다.Data선과 TFT의 Source와 Drain전극의 형성은 금속 박막의 증착과 Photo 공정 및 Etching 공정에 의해 형성된다. ... 하는 방법을 사용한다.TFT Channel 부의 Back Channel은 불안정한 Energy 상태 및 Etching Residue 에 의하여 TFT 특성에 나쁜 영향을 미칠 수

  리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.05.14 | 수정일 2016.07.27

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  [CNT, 탄소나노튜브, 나노기술, FFL, 면광원]CNT를 이용한 평면광원 개발

  습식(Wet Etching)과 건식(Dry Etching)이 있으나, 두가지 방법 모두 비용이 높기 때문에 현재로는 Sand Brast(Sanding)로 Etching하는 방법을 검토했다 ... 공정순서ITO Glass Ethching에칭(Etching)에는 두가지 방법이 있다. ... ITO Glass cutting 규격 및 Etching 규격은 대략적인 것은 아래의 그림 3.을 참조하고,자세한것은별첨CD자료에 CA을 참조하기 바람. 그림 3.

  리포트 | 10페이지 | 28,000원 | 등록일 2005.01.07

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  [고학]lcd제조공정

  금속막의 경우는 용제를 사용하는 습식 식각(Wet Etching), 반도체와 절연체는 플라즈마를 이용하는 건식 식각(Dry Etching)을 이용⑦PR 박리(Strip 공정)남은 PR을 ... 공정ITO(Indum Tin Oxide)를 BM공정처럼 패턴 공정을 통해 생성한다.이 외에도 패널의 타입(VA, IPS, TN 등등)에 따라 몇 가지 공정이 더 추가 되기도 한다. ... 패턴 공정은 앞서 했던 2가지 공정과는 약간 다른 공정으로 증착, 세정 과정이 필요 없이 컬러를 갖는 감광 물질을 도포하여 노광, 현상의 공정을 거치면 된다...PAGE:263) ITO

  리포트 | 36페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.09.29

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  습식에칭(Wet Etching)

  기판에 회로 패턴을 만들어주기 위해 화공약품이나 부식성 가스를 이용해 필요 없는 부분을 선택적으로 없애는 과정 Etching( 식각 ) 공정 3/201. ... 기술의 소개 ● 이방성에칭 결정면 중에서 일정 방향의 특수한 면이 매우 빠른 식각 속도를 나타내는 경우 이러한 방향성을 갖는 식각 Etching ( 식각 ) ● 등방성에칭 일차적으로

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.22

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  [공학]LCD기술및 원리

  )박 리(Strip)Color PR도포(Colored PR Coating)노 광(Exposure)현 상(Develop)BA습식 식각(Wet Etch)건식 식각(Dry Etch)FOSiSiF4SiPLASMAGasRFB ... 하는 역할◆ Over Coat MembraneColor filter 표면의 평탄화를 위해 사용됨◆ 공통전극(Common Electrode)액정셀에 전압을 인가함 (투명 전기전도체인 ITO ... SUBSTRATEAlDCAlAlAlAlAr+AlAr+TARGETSPUTTER증 착(Deposition)PR도포(PR Coating)노 광(Exposure)현 상(Develop)식 각(Etch

  리포트 | 35페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.04.27

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  LCD와 VFD

  금속막의 경우는 용제를 사용하는 습식 식각(Wet Etching), 반도체와 절연체는 플라즈마를 이용하는 건식 식각(Dry Etching)을 이용한다.⑦PR 박리(Strip 공정)- ... 이 패턴 공정은 앞서 했던 2가지 공정과는 약간 다른 공정으로 증착, 세정 과정이 필요 없이 컬러를 갖는 감광 물질을 도포하여 노광, 현상의 공정을 거치면 된다.③ITO 공정- ITO

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.09.27

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