"이온 플레이팅법" 검색결과 61-80 / 93건

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  [공학]디스플레이 재료및 공정

  최근에 이온이 갖는 에너지를 효과적으로 사용하여 저온영역에서 우수한 피막을 형성할 수 있는 것으로서, 이온플레이팅, 이온주입, 이온빔믹싱 등의 방법이 주목을 받고 있다.(1) 진공증착금속은 ... ①이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation), ②이온을 이용하는 스퍼터링(sputtering), 이온플레이팅(ion plating), 이온주입(ion mplantation ... 이온화된 증발원자는 가스이온과 함께 다크 스페이스에서 가속되어 기판에 충격적으로 입사하여 피복된다. 이것이 Mattox법으로서, 이온화율은 0.1∼0.3%정도에 불과하다.

  리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.02.22

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  박막증착 장비의 종류 및 원리, GaN LED

  이러한 PVD는 진공 증착법과 스퍼터법, 이온 플레이팅 법으로 나눌 수 있는데, 그중 진공 증착법은 진공중에서 고체 또는 액체를 가열하여 분자 또는 원자로 분해한 후 기판표면상에 응축시키는 ... , 기체액체속의 산화법, 화합물 열분해법, 전자빔 증착법 등에 의해 만들어집니다. ... 스퍼터법은 진공 증착법으로는 제작이 곤란한 고융점 재료 또는 활성 재료막을 조성 특성 등을 엄밀히 제어하면서 제작할 수 있는 방식으로 많이 응용되고 있습니다.(ⅱ) CVD (Chemical

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.11.30

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  [재료공학]Ion Plating ( 이온플레이팅 )

  Mattox는 이것을 ‘증착전이나 증착과정 중에 고에너지의 이온으로 형성되는 유속에 의해 지배되는 증착법‘이라고 풀이하였다.이온플레이팅도 스퍼터링과 비슷하게 플라즈마를 사용한 증착공정이지만 ... 이온플레이팅은 은 박막의 성질을 향상시키기 위하여 glow discharge를 이용하는 물리증착과정의 총칭이라 할 수 있다. ... 스퍼터링과는 달리 보통 증착하고자 하는 물질을 증발 법으로 기상화한 뒤 reactive gas나 불활성 기체들과 함께 이온화하여 음의 전압이 가해진 기판으로 가속하므로 기판의 표면이나

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.06

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  특수가공 완결~

  양극이 되어 전극의 역할을 하므로 이온화된 가스의 스트럼이 집중되어 열전단과 효율이 양호하여 절단에 적합하다. ... 연마시에 연마면은 고온이 되므로 열변형이나 잔류응력이 크다.그러나 전해 연마시에는 전해액 중에서 연마가 이루어지므로 잔류응력이 거의 없다.⑥ 접착성 증가■전해연마의 단점①페인팅, 플레이팅 ... 상용가공법 전기, 전자, 열 등과 같이 실체가 없는 공구에 의한 가공법을 특수가공법으로 분류하는 경우가 있음으로 분류기준에 의미를 두지 말고 각 가공법과 적용범위 및 특징에 관심을

  리포트 | 69페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.11.21

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  [재료과학]전기도금실험(도금의 종류)

  , 고주파 이온화, 복합법; 증발된 입자가 플라즈마 속을 통과하면서 이온화하고 스파터와 같은 고에너지를 가지고 도금이 되므로, 도금속도도 크고, 밀착도 좋으며, 뒷면에도 도금이 된다 ... (직류, 고주파, 반응성 법); 각 입자가 열에너지와 플라즈마에 의해 이온화가 된 가스가 음극에 이끌리면서 충돌하여 튕겨진 입자가 큰 운동에너지를 가지고 있으므로, 진공증발입자보다 ... 진공 증착과 스퍼터링, ion 플레이팅, ion질화, ion 주입등 여러가지 방법이 있고 장식, 기능의 분야에서 활용되고 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.07

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  박막에 대해서 ...

  또한, PVD법은 진공 증착법과 스퍼터법, 이온플레이팅법으로 나눌 수 있다. ... 제작할 수 있는 방식으로, 현재 박막제작의 모든 분야에 있어서 가장 많이 응용되고 있는 방식이다.스퍼터자 등의 이온입자가 큰 운동에너지를 가진 채, 고체(Target)와 충돌할 때 ... , 방출되는 중성원자와 중성분자의 방출현상을 이용하여 박막 증착에 이용하는 방법이다.현재 박막증착에 있어서 가장 많이 사용되는 스퍼터법으로 2극 스퍼터법과 마그네트론 스퍼터법이 있다.RF

  리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.04.22

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  신소재 용어 정리 기계적 기능 강도 경도

  용사법(spray), 진공증착(vacuum plating), 스퍼터링법(sputtering), 이온 플레이팅(ion plating), 물리증착법(PVD, physical vapor ... deposition), 화학증착법(CVD, chemical vapor deposition)으로 기판에 박막을 형성 시킨다. ... .* 동박(copper foil)은 전해도금법과 냉간 압연법으로 제조한다. 전해도금법으로 제조하는 경우, 도금 우선방위에 따라, 표면 조도가 커진다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.21

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  No.62 Chemical Method에 의한 박막 증착 중 Electroplating

  '하드 크롬 도금'(hard chromium plating)은 기계 부품의 내마모성을 높여주는 새로운 도금법으로 우수한 내마모성과 내열성을 가진다. ... 진공 증착과 스팩터링, ion 플레이팅, ion질화, ion 주입등 으러가지 방법이있고 장식, 기능의 분야에서 활용되고 있다. 특히 반도체 제조에 불가결의 기술이다. ... 전자를 양이온 전착도장, 후자를 음이온 전착도장이라고 말한다. 방녹 목적으로는 흑색이 많이 이용되고 있다.(장점) 피처리물의 형상에 좌우되지 않고 균일한 도장을 할 수 있다.

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.24

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  전도성고분자(한글)

  표면 처리계에서 만드는 투명 전도성 필름으로서는 진공증착,스퍼터링, 이온플레이팅과 같은 물리적인 방법이나 용액도포, CVD, 알콕시드법, 유기금속분해법 등이 사용되고 있다.한편 폴리머 ... PA 분자의 산화 및 환원은 PA의 결정구조 안에 반대하전을 띤 반대이온이 형성되면서 도핑이 일어난다. 이 dopant 이온은 전자이동 반응 중에 형성된다. ... 고분자 사슬의 밀집적층평면과 분리되어 있는 음이온으로 구성되어 있다. I3- dopant가 PA 사슬의 밀집 적층 평명과 분리되어 있는 음이온으로 구성되어 있다.

  리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.02.11

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  [박막공학] Sputtering

  이온 플레이팅의 개념도증착입자는 도가니의 가열이나 전자빈에 의한 가열로 생성한다. ... 이에 대하여 열속도보다도 큰 운동 에너지로 가속된 이온을 증착 입자에 포함시켜 박막 형성을 하는 기술로 개발된 것이 이온 플레이팅이다. ... 이온 플레이팅은 생성한 증착 입자의 일부를 이온화하여 가속하고 진공 중에 놓여진 기판에 증착 입자와 그 이온을 조사하여 기판 위에 박막을 형성한다.Fig 3.

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.22

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  전해 동 도금 실험 보고서

  금속이온을 함유한 수용액 ·융해염에서 전해에 의해 금속을 음극면에 석출시키는 것은 금속정제법에서도 이용된다. ... 플레이팅이 있다.도금의 전처리로는 연마, 탈청(녹제거), 활성화 처리 등이 있다.1-3-2. ... : 도금법의 중심이 되는 방법이며, 입히는 것은 순금속뿐만 아니라 합금도 가 능하다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.05.05

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  금속의 열처리

  불량 매우양호100~500℃ 없음 없음 양호 양호처리온도 후처리 변형 내충격성 부착력화학증착법(CVD)이온플레이팅법(PVD법)구분각종 경질 피막 피복법의 비교불필요불필요불필요Ni-B ... - 침탄법=케이스하드닝 : Ac1이상으로 가열, 탄소와 접촉 밀폐침탄법(두터운 처리, 1-4mm) 가스침탄(얇은 처리, 0.1-0.7mm) 액체침탄(시안화염욕에서 가열) : 탄소와 ... 작업이 어렵고 장시간 소요노내압력 장비 결정석출속도 코팅형상 균일성 노내유효면적 운용비 작업능률저압CVD 시스템고압CVD시스템구분코팅처리방법의 종류PVD법과 CVD법의 비교800~1100

  리포트 | 50페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.10.29

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  [공학]반도체 박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거

  또한 공구의 내마모 코팅, 장식용 코팅, 반도체 소자의 제조시 접점에서 확산장벽으로 이용되는 TiN은 Ti의 반응성 이온 플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법등을 통해 건식법으로 ... )와 중성입자의 집합체로 이온의 밀도 ni 와 전자의 밀도 ne 가 ni ? ... 다이아몬드의 인공적인 합성은 1950년대에 미국의 GE에서 개발한 고온, 고압법이 주로 쓰여져 왔으나 80년대초에 소련에서 메탄가스 플라즈마로부터 저압에서 다이아몬드를 박막 형태로

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.15

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  [전자재료]E-beam Evaporator

  전자빔 증착의 원리와 특징박막을 형성시키는 방법에는 크게 PVD법과 CVD법이 있는데, 특히 PVD법은 증착, 스퍼터링, 이온플레이팅법으로 나누어지며 증착에는 저항열, 아크방전,전자빔 ... 이러한 문제를 피하기 위하여 고안된 방법이 전자빔을 이용한 증착법이다.전자빔을 이용한 진공증착(electron beam evaporation)(그림 1)은 매우 높은 전압을 가하여

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.13

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  소결 - Ti3N4

  이중 화학반응을 동반하는 방법을 CVD법, 이온 플레이팅(ion plating)이나 스퍼터링(sputtering) 등 물리적 수단을 이용하는 방법을 PVD(physical vapor ... 고강도품이 얻어지게 되었다.상압소결법에서는 소결조제의 도움을 빌어 일부 용액을 포함한 액상소결 내지는 이온성의 결정을 입계에 배열하는 방법 들이 취해지고 있다. ... 균일성을 향상시키기 위한 방법으로는 기계적 밀링 뿐 아니라 화학적 분말 가공법(sol-gel법이나 공침법 등)등이 연구, 이용되고 있다.이러한 변수들은 소결전의 초기 분체 제어에서

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.24

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  [반도체]플라즈마, 진공, 펌프

  플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법등을 통해 건식법으로 만들 수 있다.[2] 고분자의 표면처: 또한 고분자의 표면을 질소나 산소 플라즈마 등으로 처리하면 고분자의 표면에 치수성이나 ... 다이아몬드의 인공적인 합성은 1950년대에 미국의 GE에서 개발한 고온, 고압법이 주로 쓰여져 왔으나 80년대초에 소련에서 메탄가스 플라즈마로부터 저압에서 다이아몬드를 박막 형태로 ... VACUUM)Torr ～ (Less)10μPa (Less)2) 응용전구나 각종 펌프들은 응축된 오일을 정제 할 수 있도록 간단한 분류 공정을 이용하게끔 설계되는데 이공정이 본류법이다

  리포트 | 43페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.05.16

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  [금속의 도금]도금의 종류와 특징

  전자를 양이온 전착도장, 후자를 음이온 전착도장이라고 말한다. 방녹 목적으로는 흑색이 많이 이용되고 있다...(장점) 피처리물의 형상에 좌우되지 않고 균일한 도장을 할 수 있다. ... 진공 증착과 스팩터링, ion 플레이팅, ion질화, ion 주입등 으러가지 방법이있고 장식, 기능의 분야에서 활용되고 있다. 특히 반도체 제조에 불가결의 기술이다. ... 폐수 처리가 어렵다.진공 도금용기 내를 진공으로 하여, 금속과 산화물, 등을 가스화 혹은 이온화해 물건 표면에 증착 시키는 것으로.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.10.12

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  [유체역학] 플라즈마

  플레이팅이나 스퍼터링, PECVD 방법 등을 통해 건식법으로 만들 수 있다.2. ... 다이아몬드의 인공적인 합성은 1950년대에 미국의 GE에서 개발한 고온, 고압법이 주로 쓰여져 왔으나 80년대초에 소련에서 메탄가스 플라즈마로부터 저압에서 다이아몬드를 박막 형태로 ... 전리도(이온화도)라는 것은 이온의 수를 중성입자와 이온의 수의 합으로 나눈 것이므로 전리도가 1인 것은 플라즈마 중의 입자가 전부 전리되어 있는 것이고, 전리도가 0인 것은 전혀 전리되지

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.03.26

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  [전자공학] 박막형성법과 박막특성

  물리적인 방법으로는 진공증착법, 스퍼터법, 이온 플레이팅법 등이 있다.화학적인 방법으로는 CVD법, 졸겔법, 액상 에피택시얼법, 용사법 등이 있다...PAGE:4물리적 방법중 스퍼터법스퍼터 ... (sputter)법은 박막이 되어야 할 재료의 target을 glow방전으로 이온화시킨 가스를 충돌시켜 끌어낸 입자를 기판에 붙이는 방법으로 진공증착법으로는 붙이기 어려운 고융점재료의 ... 종류충분한 기체농도(1∼500×10-4mbar)에서 큰 전압(300∼5000V)을 걸어줄때 diode plasma 형성→ 가스 원자들의 적은 양이 이온화 되고, 이온이 가속되어 cathode

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18

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  [재료특성] mems 재료특성

  DLC막의 형성법과 특징또 PVD법의 sputtering, arc 이온 플레이팅(AIP) 등에서는 고체의 카본원 으로 물리적으로 증발시켜 막을 형성하기 때문에 수소 함유량이 적은 DLC막이 ... 또 plasma를 베이스로 3차원 이온 주입이 가능한 플라즈마 마베스이온주입(PBII)법에 의해 부착력의 큰 DLC막을 형성할 수 있고, 엄격한 조건으로 사용한 접동(摺動)부품에의 ... 한편, 양산성을 살려 탄화수소 가스를 사용한 plasmaCVD법이 많이 검토 되어있다. plasma 여기법으로서는 직류(DC), 고주파(RF),마이크로파, 전자 싸이클로트론 공명(ECR

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.02

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