"반도체 공정 클리닝" 검색결과 81-100 / 131건

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  새로운 재료 제거 가공 방법 아이디어

  대규모 집적 회로(LSI) 등 반도체 소자를 제조하는 공정에서 반도체 단결정 웨이퍼에 박막 형성, 포토리소그래피(photolithography), 에칭, 이온 주입 등의 기술이 가해지는 ... Photolithography process④용어 설명* 에칭반도체 소자의 제조 공정에서 웨이퍼 표면에 회로의 배선 패턴을 형성하여 식각(蝕刻)하는 것. ... * 반도체 제조 공정에서 Al, Si, SiO2, Si3N4, TiN, Mo, Cr막의 식각* NESA막의 식각* Ar gas를 이용한 표면 Cleaning* 절연막의 제거* 기타

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.30

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  MEMS

  QCM 장치의 기본 원리인 압전 효과 및 압전 소재에 대해 알아보고, 반도체 공정에서 QCM이 실제로 활용되고 있는 예와 그 반도체 공정에 대해 조사해 본다.효소 전극(enzyme ... 분자 수준의 결합도를 측정하거나 세포 수준에서 독성물질에 대한 반응정도를 검출하는 기술과 동물실험 대체용 in vitro 스크리닝 기술 개발이 한 예이다.- 바이오센서의 종류바이오센서에서 ... 공정을 이용한 MEMS(Micro-Electro-Mechanical System) 기술을 도입하여 소형화 및 시스템화 되어가는 추세이며, 특히 단일분자 검출과 관련된 새로운 분석도구

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.12

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  플라즈마 공정

  / 비용절감장점플라즈마 챔버 클리닝플라즈마 챔버 클리닝 – 플라즈마를 이용해 CVD 또는 PVD 증착 챔버 벽에 형성된 증착층을 제거하는 공정. ... 플라즈마 공정개요1. 플라즈마의 정의 2. 구분 및 응용 – 산업적 – 고온플라즈마 – 저온플라즈마 3. 식각과 클리닝 4. ... (주로 반도체 분야의 thin film 형성에 적용). Plasma 중합 : 플라즈마에 모노머를 주입시켜 polimerization을 통하여 기판에 고분자막 을 생성시킴.

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.16

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  Type별 Scrubber 원리 및 반도체 공정,반도체 Gas 특성

  Type별 Scrubber 원리 및 반도체 공정, 반도체 Gas 특성Scrubber란? ... 제조공정의 최후반부에 진행 SiO2가 보호막 역할반도체 공정별 사용 GAS반도체 공정사용되는 특수 Gas식각(Etching)공정 (Dry etching)기상 에칭HCl, HF, HBr ... , SF6, Cl2플라즈마 에칭SiF4, CF4, C3F8, C2F6, CHF3, CClF3, O2이온빔 에칭C3F8, CHF3, CClF3, CF4클리닝(Cleaning)NF3,

  리포트 | 23페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.02.26

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  신제품개발전략과 아이디어 수집

  아이디어는 신소재(반도체), 합성섬유 등과 같이 기초연구로부터 얻어지는 경우가 많다. ... 기획단계는 개발정보의 수집, 아이디어 제안, 아이디어 스크리닝, 제품의 컨셉확정 단계 등으로 구분할 수 있다.연구개발 시작단계는 연구활동, 제품컨셉 개발, 시작과 테스트, 마케팅전략 ... ) 신제품의 개발과정신제품의 개발과정신제품 발상, 기획1) 개발정보 수립: 사내연구자 · 판매담당자, 고객 · 경쟁자 · 유통 · 특허정보2) 아이디어 창출: 발상기법 활용3) 스크리닝

  리포트 | 8페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.09.06

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  mosfet제조 공정

  처음 웨이퍼 통(직경 4인치, 10cm정도)을 보면 100 웨이퍼가 있는데 한번 클리닝 하는 게 좋다. 그리고 황산+과산화수소 용액에 담가둔다. ... 작게 만들 수 있고, 제조공정이 상대적으로 간단하며, 비교적 적은 전력으로 동작해서 효율이 좋은 공정이다.MOSFET은 형성되는 채널의 종류에 따라 nMOSFET이나 pMOSFET으로 ... 증가형이라는 단어는 산화물 아래의 반도체 기판이 게이트 전압이 인가되지 않았을 때에는 반전되지 않는다는 것을 나타내고 있다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.21

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  [바이오칩]바이오칩의 정의 및 특징과 주요 응용 분야 이해, 바이오칩 기술 동향 및 시장 전망과 산업 발전을 위한 해결과제

  반도체 나노공정기술, 발광 고분자 활용기술, 미소광학소자 제작기술, 미소광학부품 평가기술표준화기술? ... 살아있는 세포와 실제 상호작용하는 물질을 찾거나 신약개발과정 중 임상 전 단계의 스크리닝(screening) 과정을 획기적으로 줄일 수 있어 그 이용범위가 대단히 광범위함? ... 따라서 바이오 칩을 통해 질병 관련 유전자 검색, 신약후보 물질의 스크리닝 등을 신속히 수행할 수 있어 신약의 발굴 과정을 단축시키는 데 기여하고 있다.그림 암 등 각종 질환 진단?

  리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.03.02

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  현대인과 생활환경 정리노트-1(중간)

  , 반도체나 정밀부품 세척제, 스프레이 같은 분사제 등에 이용★● 농도가 높을 경우...○ 오존농도(ppm)가...· 0.18 - 호흡이 가쁘고, 기침· 0.37 - 가벼운 운동 중에도 ... 1968년 5월8일에 일본 후생성이 공해병으로 인정한 이 병은 1945년 일본의 도야마현 (부산현) 진쯔으천(신통천) 상류지역에 위치한 미쓰이금속 주식회사 광업소에서 선광, 정련공정에서 ... 경우, 생활환경에 대한 관심을 높여 바람직한 인식을 할 수 있도록 교육 및 홍보기회를 많이 가지는 것 소화기에 사용되는 할론가스 등프레온 가스는 냉장고, 에어컨 등의 냉매, 드라이클리닝용제

  시험자료 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.05

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  이산화탄소 초임계 상태 보고서

  드라이크리닝의 독성 유기용제를 초임계 이산화탄소로 대치하는 기술 또한 상용화되어 성공적으로 운전 중에 있으며 반도체 세정에도 초임계유체를 이용하려는 연구 또한 활발히 진행되고 있다.초임계 ... 활용 분야는 지속적으로 확대될 것이다.국내에서는 한화석유화학이 개발한 TNT제조공정 폐수처리(남해화학), TPA제조공정 폐수처리(삼남석유화학), 세라믹 나노입자제조공정(한화석유화학 ... 이산화itical water oxidation, SCWO) 반응을 활용하는 공정이다.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.10.23

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  산화공정 (Oxidation)

  반면 CVD법은 화학 반응을 수반하는 증착기술로서 부도체, 반도체, 그리고 도체 박막의 증착에 있어 모두 사용될 수 있는 기술이다. ... 무기 잔여물 제거- 화학 청소 (습식 프로세스 또는 습식 클리닝)● 황산(Sulfuric acid)- H₂SO₄ + 산화제 H₂O₂- 황산에 과산화수소 더함 -> 발열 반응은 H₂O₂ ... 있어서는 매우 중요한 단위공정이다.

  리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.05.10

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  바이오 산업의 이해(전망,동향,개발) A+

  전문가들의 견해에 의하면 앞으로 5, 6년 후면 생명공학 분야의 시장이 지금의 반도체 규모가 될 것이고, 15 – 20년이면 지금의 IT시장을 넘어설 것으로 전망하고 있습니다.o 향후 ... 화합물 라이브러리에서 신약후보물질을 일일이 합성해 탐색해나가는 고전적인 방법은 퇴조하고 이제는 한번에 수 천 개, 수 만개 이상의 물질을 스크리닝 해내는 HTS 시스템으로 진화하고 ... •생물체의 유용한 특성을 이용하여 이루어지는 생화학적 공정을 연구하는 학문을 말하는 것입니다.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.12.27

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  TFT Array 제조공정 (LCD)

  아바코는 2000년에 설립되어 경기도 파주와 대구에 공장을 가지고 있으며, Sputter 장비 이외에 TFT-LCD 액정 주입기, 플라즈마 클리닝 시스템 등을 생산하고 있다. ... ORC Manufacturing은 1968년 설립되어, LCD 제조 공정 상의 Stepper(Exposure) 외, 각종 반도체 제조용 장비 및 전자회로 기판 제조용 장비 등을 생산 ... MFG.CO.,LTD), Toray Engineering Co., Ltd 등이 있다.케이씨텍은 1990년에 경기도 안성에 설립된 회사로 반도체 제조용 기계 제조를 주 업종으로 하고

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.18

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  PC청소대행업체

  시장조사1.1 PC 클리닝의 필요성컴퓨터를 사용함에 있어 윈도우의게 되고 정전기로 인한 반도체를 손상시키는 주원인이 된다.열 : 반도체의 수많은 회로들은 전기의 흐름으로 동작합니다. ... 이때 열이 발생하는데 이온도가 과다하게 상승하면 반도체는 오작동을 일으키고 심할 경우 반도체소자가 손상됩니다. ... 하며 경쟁우위를 창출할 것이다.6.2 신제품 개발전략청소시간에는 영업을 할 수 없기 때문에 되도록 손님이 뜸한 시간에 하겠지만 보다 신속한 작업을 위해 장비의 지속적인 성능향상과 공정단계의

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.03.26

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  21세기 신기술을 주도할 화공신소재

  표면이 초(超)친수성이라 셀프클리닝 효과유리나 타일, 청소기, 공기청정기, 냉장고, 도로포장블록, 커튼, 벽지, 속옷 등에 적용? ... 고속응답 가능, 자체 발광 가능: 시야, 각에 문제없이 동영상 표시가 가능한 매체로 최적- 소비전력 적고, 박막형태 제작이 가능하여 평판디스플레이에 적합- 저온에서 제작 가능, 제조공정 ... 전자신분증 등의 스마트카드로 현재 활용 중이다.- 대면적화, 투명성, 유연성, 저렴한 제조공정 등의 장점으로 다양한 분야 활용 가능성 제시[머니투데이] 삼성전자는 21.3인치의 저온

  리포트 | 17페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.09.19

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  반도체 공정에 사용되는 가스들의 특징

  ) : 완성된 반도체를 포장하기 직전에 오염물질로부터 반도체를 보호하기 위한 공정※ 패시베이션(Passivation) : 반도체 칩의 표면에 보호막을 코팅하는 작업으로 반도체 제조공정의 ... 에칭HCl, HF, HBr, SF6, Cl2기상 에칭식각(Etching)공정 (Dry etching)사용되는 특수 Gas반도체 공정반도체 공정 GAS공정별 GAS의 성질 IDry가스 ... 반도체 공정별 가스 특징반도체 공정 순서도모래로부터 고순도 단결정 실리콘 웨이퍼를 만들어내는 과정웨이퍼 제조(Ingot)웨이퍼의 표면에 여러 종류의 막을 형성시켜, 이미 만든 마스크를

  리포트 | 16페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.12.09 | 수정일 2020.11.03

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  녹색성장시대의 공학도

  폐가전 제품의 재활용을 위해 해체, 선별 및 희귀금속 추출 기술이 필요하며, 설계 시 재활용을 고려해야 한다.전기전자 산업은 크게 반도체와 가전으로 발해 앞으로 단계적으로 공정에 적용할 ... 언컨 샤워 슈트는 드라이클리닝에 들어가는 세탁비용을 줄이고 관련 환경오염도 예방할 수 있는 친환경 정장이다. ... 자동차, 항공기 등의 경량화를 위한 탄소섬유 복학소재 개발과 공정개선, 특히 염색 공정의 개선이 필요하다.패션 의류 산업은 옥수수, 대나무, 키토산 등 주로 천연원료나 비석유계 원료를

  리포트 | 11페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.03.20

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  솔젤법을 통한 밴드갭에너지 측정

  나타내어 진다.Ti(OR)4 + 4H2O → TiO2 + 4ROH + 2H2O이러한 솔젤법은 전구체의 선택, 수화반응의 속도 및 온도 제어, 침전반응 후의 산이나 염기처리 등의 공정 ... 첨가.e.비이커를 sealing한 후 약 1~2시간동안 계속 stirring 후 nalgen병에 옮긴후 냉장보관(2) TiO2 thin film 제조a. 2cm*2cm 수정기판 클리닝 ... 광흡수는 빛이 반도체 내를 지나갈 때 생기는 흡수정도의 척도인 α (흡수계수)에 결정되며, 이는 반도체를 통과하는 빛의 투과량을 입사빔의 에너지 (hυ)에 대한 함수를 측정함으로써

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.11.13

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  방향제 성분의 유해성과 이를 받아들이는 우리들의 자세

  특유한 냄새가 나며 휘방성이 있으며 화학 공정에서 중요한 용매로서 많이 사용된다. ... 납, 고무 등을 잘 녹이기 때문에 유지류의 추출 용제나 드라이 클리닝 용제, 산업용 용매로 사용 된다. ... 이소프로필-알콜은 무극성 물질을 용해하며 자기 얼룩을 남기지 않고 쉽게 증발하는 특징이 있어 반도체, LCD등 IT 부품 세정액으로 많이 활용되며, 페인트, 잉크 등의 용제로도 사용되는

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.05.26

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  석유및정밀화학에서 등산화에대한 레포트입니다.

  분리기시트:전자기 간섭 개스킷, 실링 개스킷, 의료용 패치PTFE를 이용한 다양한 개스킷⑤ 섬유:제직/재봉사, 치실, 패킹, 여과 펠트⑥ 튜브:연동 펌프 튜브, 혈관 이식, 환경 스크리닝 ... 쉬운 성형품일 경우에는 사출시간을 길게 하여 제품의 밀도가 충분하도록 유지시켜 준다.⑤ 사출 속도가능한성이 요구되는 가교저력케이블(ex.고압인하선) 절연, 자케트, 고압전력케이블의 반도체층 ... 원유정제공정/석유화학단계별공정도/기술적주요공정1.석유화학산업공정2.석유화학제품 계열도/주요화합물의 관련공정3.나프타 분해(NCC) 공정4.방향족(BTX) 공정IV.

  리포트 | 58페이지 | 5,000원 | 등록일 2010.06.27

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  박막재료와 그 증착공정의 종류

  또한 박막 증착 공정은 반도체 제조 공정 중의 하나로써 크게 보면 세정공정, 열처리 공정, 불순물 도입공정 다음으로 이루어지는 프로세스 이다. ... 클리닝과 표면반응을 얼마나효과적으로 하느냐에 따라 금형과 공구의 성능과 수명을 올릴 수 있다. ... 금속물질을 증발시키는 방법과코팅될 때의 분위기와 반응성을 증대시키는 방법에 따라 여러 방법들이 있다.특히 공구나 금형 등의 하중과 충격이 큰 부품은 밀착력을 올리기 위해 플라즈마클리닝과

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.22

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