"ETCH" 검색결과 81-100 / 1,972건

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  화공계측실험Pre-Report (10)-Photolithography

  네 번째로 식각(Etching)과정 에서는 substrate의 위 표면을 깎아낸다. PR이 덮이지 않은 부분만 해당되며, 실험자가 원하는 패턴이 그려지게 된다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.06.12

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  부경대학교 VLSI 과제(CMOS 인버터) 실험보고서

  y=-5etch con x=10.5 y=1etch con x=11.5 y=1etch done x=11.5 y=-5etch oxide start x=18.5 y=-5etch con ... x=18.5 y=1etch con x=19.5 y=1etch done x=19.5 y=-5etch oxide start x=24 y=-5etch con x=24 y=1etch con ... y=-15etch alum start x=20.25 y=-10etch cont x=20.25 y=1etch cont x=22 y=1etch done x=22 y=-15etch alum

  리포트 | 16페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.12.24

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  어플라이드 머티리얼즈(AMK) Customer Engineer 최종 합격자소서 [2021 상반기]

  Dry Etch 공정에서 Chamber 내의 웨이퍼 Arm 동작에 이상이 생겨 웨이퍼가 깨지는 문제, LPCVD 공정에서 Tube의 진공도가 맞춰지지 않는 문제를 보았습니다. ... Oxidation, LPCVD, PR Coating, Develop, Etch, Clean 공정들의 장비 오퍼레이션을 담당하며 각 단위공정의 기본 원리와 장비 동작 메커니즘을 이해할

  자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.05.13

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  재료공학기초실험_광학현미경_저탄소강미세구조관찰

  이론적 배경(1) Etching? ... Dry etching? ... 결과[ Gringing 마친 시편 ][ Etching 후 곧바로 시편 관찰 ][ 과 Etching 된 시편 관찰 ][ Etching 후 일주일 정도 경과 후 관찰 ]4.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.05.22

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  PDMS를 이용한 Micro pyramid 제작

  NH4F는 etch rate를 HF에 비해 etch rate를 1/20 정도 늦춰주는 완충제 역할을 하면서 etching의 균일성을 높인다. ... 후 oxide strip까지 하면 아래 그림과 같이 나오기 때문이다.2)SEM image를 보고 해당 이미지의 etching에 대해 설명Wet etching으로 (100) si wafer을 ... 플라즈마 식각, 스퍼터링, 반응성 이온 식각(RIE, Reactive Ion Etching) 등을 포괄하는 명칭에 가깝다.3.

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2023.08.03 | 수정일 2023.11.08

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  [물리전자2] 과제2 단원 요약 Fabrication of pn junctions

  Wet etching tends to be an isotropic process, etching equally in all directions. ... Wet etching encompasses impression and spray methods, while dry etching includes plasma sputter methods ... In contrast, dry etching can achieve highly anisotropic etching profiles, which helps avoid undercutting

  리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2023.12.21 | 수정일 2023.12.30

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  Semiconductor_Device_and_Design -5_

  Etch nitride Step 11. Deposit metal Step 12. Etch metal4. ... Etch oxide for pMOSFET Step 3. Diffuse n-well3. CMOS Step 4. Etch oxide for nMOSFET Step 5. ... Etch polysilicon and oxide Step 8. Implant sources and drains Step 9. Grow nitride3. CMOS Step 10.

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.22

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  정보디스플레이학과 광전자공학 3차 준비 보고서 리소그라피 장비 종류 및 구동 방법

  추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있다. ... Wet etch는 크게 분사 방식과 담금 방식이 있다.Wet etch 의 공정 흐름과 장비 구성Glass loading-유기세정(이 모듈은 excimer UV 또는 상압 plasma ... 장비를 이용하고, 반응물이 막으로부터 제거되어 막 표면이 etching된다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30

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  2020하반기TEL 합격자소서

  TEL은 ETCH, DEPO 장비의 기술력을 바탕으로 지속적인 성장을 해왔습니다. 이러한 기술력의 근원은 주인의식을 가진 TEL의 엔지니어로부터 시작된다고 생각합니다.

  자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.04.12

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  [재료공학기초실험]광학현미경 조직검사

  , potentiostatic etching, magnetic etching, ion etching, thermal etching 등이 있으며 이 중에서 가장 많이 쓰이는 방법이 단순히 ... 그 방법과 원리에 따라 precipitating(deposit) etching, heat tinting, chemical etching, electrolytic etching, anodizing ... 부식액을 표면에 묻혀 부식시키는 chemical etching과 전해연마 같은 방법이나 낮은 전류(전압)로 상을 나타내는 electrolytic etching방법이 가장 많이 쓰인다.나

  리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.07.17

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  영문양해각서, MOU샘플, 미국회사와 반도체 식각 장비 구입 협상MOU샘플

  B hand over exclusive rights to semiconductor etching equipment to A.5. ... A and B cooperate in purchase of B’s product, semiconductor etching equipment.3. ... Memorandum of Understanding(MOU)for semiconductor etching equipment purchase.This MOU is made and entered

  서식 | 2페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.10.12 | 수정일 2024.09.06

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  [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트

  Etching은 그 방법에 따라 크게 wet etching과 dry etching으로 나누어지는데 wet etching은 주로 liquid상태의 chemical을 사용하는 모든 종류의 ... etching을 의미하며 dry etching은 plasma를 이용한 모든 식각 공정을 포괄적으로 의미한다. ... Mask와 같은 패턴으로 형성되고 이후 etching 등의 과정에서도 PR과 같은 패턴이 나타난다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  [A+] 성균관대 고역실 Microscope 레포트

  7. x500 Etching Sample Figure 8. x1000 Etching SampleFigure 4를 포함하여 다섯 장의 사진을 살펴보면, polishing과 etching을 ... , 1,000배율로 조절하여 시료 표면을 확대 촬영한 결과이다.Figure 5. x100 Etching Sample Figure 6. x200 Etching SampleFigure ... Polishing Steel Figure 4. x50 Etching SteelFigure 2~4는 각각 bare steel, polishing 후의 강, Etching 후의 강을 광학현미경으로

  리포트 | 12페이지 | 3,500원 | 등록일 2022.12.16

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  반도체 8대 공정 정리

  일반적으로 Wet Etching 은 등방성 , Dry Etching 은 이방 성으로 이분화시키지만 , Dry Etching 방식 또한 여러가지 방법이 있기 때문에 , 단순히 Dry ... 식각 공정의 종류에는 용액을 이용하는 습식 식각 (Wet Etch) 와 플라즈마를 이용하는 건식 식각 (Dry Etch) 가 있다 . ... Etching 이 무조건 이방성 식각을 한다고 볼 수는 없다 .

  리포트 | 56페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.06.09

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  [반도체공학실험]반도체 패터닝

  박막(2,3번 박막)Etching 과정을300W로 식각한 박막(4,5번 박막)V _{PR-Etching}(㎛/min)0.048650.08165V _{SiO _{2} -Etching ... }(㎛/min)0.073150.1072V _{PR-Ashing}(㎛/min)0.10620.09957Selectivity(V _{SiO _{2} -Etching}/V _{PR-Etching ... 이 산화막을 씌운 실리콘 웨이퍼에 감광액(PR)을 코팅하여 패턴을 새기면서 만들어진다.3) Etching gas (Ar,C _{2} F _{6},O _{2}) : Ar,C _{2}

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.08.28

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  TEL(도쿄일렉트론코리아) FE 최종합격 자기소개서

  하겠습니다.TEL은 미세화 구현에 있어 Etching의 중요성을 인지하고 Etching장비 개발에 주력하고 있습니다. ... Etching장비에 전문성을 키우고자 반도체 기업에서 주관한 반도체 교육 프로그램과 NCS반도체/Etching공정 강의를 수강했습니다. ... (최소 100자, 최대 500자 입력가능)[고객 만족 실현 : Etching장비의 주치의]Etching장비 전문가로서 장비 문제에 발빠르게 대응해 고객이 TEL의 장비와 서비스에 만족하도록

  자기소개서 | 3페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

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  반도체 공정 정리본

  Ion assisted etch(IAE)라고도 불린다. ... 높은 anisotropic etching이 가능하지만 selectivity나 throughput은 좋지 못하다.RIE (Reactive Ion Etching)위 두 가지 방법을 합친 ... Etching은 이렇게 화학 반응을 포함하지 않고 순수하게 물리적으로 Wafer의 원자들을 떼어내면서 이루어진다.

  리포트 | 61페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.07.15 | 수정일 2023.07.02

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  인하대학교 집적회로공정(전자공학과) FINFET레포트

  이때 Fin구조를 형성할 때 사용되었던 mask layer와 dielectric layer를 제거한다.Etching 공정을 통해 절연막의 일부를 etch back하여 fin의 옆면이 ... Etching시 Si 기판이 노출될 정도로 etching함으로써 Fin사이에 있는 절연물질, gate dielectric layer, gate spacer가 앞 뒷면에 노출된다.마지막으로 ... PR과 mask layer를 patterning하며 RIE와 같은 etching공정을 이용하여 식각한다.

  리포트 | 5페이지 | 4,900원 | 등록일 2021.09.26

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  부산대학교 MEMS 실험 3 (박막형 반도체 가스센서) 결과 보고서

  실험 결과그림 10) 1분 Etching 그림 11) 3분 Etching 그림 12) 5분 Etching그림 10), 11), 12)의 색변화를 통해 plasma Etching시 공정 ... 분석 및 고찰8p1) Image reverse를 하는 이유2) Al을 Etching mask로 선정한 이유3) 증착이 완벽하게 되지 않은 이유4) Plasma Etching 조건 중 ... SnO{}_{2}가 약 140 ~150nm Etch될 때 Al은 1nm밖에 Etch되지 않는다. 두 번째는 반응성이다. Al은 CF{}_{4}와 Ar과 반응을 하지 않는다.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.05.17 | 수정일 2023.05.10

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  [신소재기초실험] 탄소강(SM45C)의 경도 측정 - 철강재료 열처리에 따른 미세조직 관찰

  S45C탄소강의 미세조직을 관찰하기 위한 기본적인 열처리를 한 후, Polishing과 Etching을 거쳐 광학현미경을 통해 미세조직을 관찰하고 경도를 측정한다.

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.04.30 | 수정일 2020.08.13

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