"electron-beam evapor" 검색결과 81-100 / 124건

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  박막 증착 기술 (Thin Film Deposition Technology)

  Conventional CVDApplication of Atomic Layer DepositionTransistor Gate Dielectrics MEMS Opto-Electronics ... Hardness Modify Film Stress Improve Step Coverage Reduce Adsorbed Residual Gas ContaminantsThermal Evaporated ... Deposition TechnologyFilm microstructure and interface control with IBD: - Primary beam and Assist beam

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.21

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  [금속공학]건식증착법

  화학증착 Physical Vapor Deposition(PVD)(1) 열증착법, 전자빔증착법evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation ... ), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed ... 다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.PVD에 대해 언급하면, PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.30

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  pvd 실험 보고서

  이 방식은 증착 속도가 크고, 오염이 없고, 합금물질을 증착시킬 수 있으나 고융점 물질 증착시는 적합하지 않다.(3) 전자빔 증착 (Electron Beam Evaporation)필라멘트에 ... 확산계수(擴散係數) 등은 평균자유행로로서 나타낼 수 있다. 0℃, 1atm 하에서의 기체분자의 평균자유행로는 10-5cm 정도이다.1)증발에 의한 증착방법 (Evaporation Method ... )(1) 필라멘트 증착 (Filament Evaporation)저항이 큰 물질로 만든 코일이나 보트에 증착물질을 Ring으로 걸든지, 보트 위에 놓고 고전류를 흐르게 하면 저항열에

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.03

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  [반도체][ppt 자료] 박막 증착 방법

  증착법 (electron-beam evaporation deposition)특성 증발 과정 시, 증발체는 보통 높은 진공 상태에서 열이 가해짐. ... 열이온 전자빔 건(thermoionic electron beam guns) AC나 DC의 낮은 전류에서 발광하는 열원(주로 텅스텐)에 의해 전자빔 발생. ... 플라즈마 전자빔 건(plasma electron beam guns) 플라즈마를 이용한 전자 방출로 focusing을 임의로 효과적으로 통제할 수 있고 열 전자빔 타입보다 고압에서 사용

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.10.24

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  [공업화학 실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거

  금속층은 다음의 방법에 의해서 wafer에 vacuum - deposit 된다.1) Filament Evaporation2) Flash Evaporation3) Electron-beam ... 설계한다.-5단계 Mask(Reticle) 제작설계된 회로패턴을 E-beam설비로 유리판 위에 그려 Mask(Reticle)를 만든다..-6단계 산화(Oxidation) 공정고온( ... Evaporation4) Sputtering(4) 식각(etching)의 정의와 종류 (식각 장비의 종류와 원리를 중점적으로)①식각의 정의-여러 종류의 막이나 Si 기판의 일부 또는

  리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.01.28

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  [실험보고서] 표면저항측정

  deposition)유도열 증발 증착법 (inductive thermal evaporation deposition)전자빔 증발 증착법 (electron-beam evaporation ... 종류물리 기상 증착법(Physical Vapor Deposition, PVD)화학 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)분자 빔 결정법(Molecular Beam ... 1.서론실험 목적우리는 실리콘 웨이퍼의 표면 저항을 측정하는 방법 중의 하나인 Van der pauw을 이용하여 실리콘 웨이퍼의 온도에 따른 표면 저항 값을 구하고, 증착법(evaporation

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2005.06.27

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  Lithography

  )beam of electrons. ... A 60-400KeV beam of electrons is used to illuminate a thin sample only 0.how} ... Scanning electron microscopy (SEM) The surface of the sample is bombarded with a low-energy(0.5-40KeV

  리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.01.18

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  [전자재료]SEM&XPS에 대하여

  , Backscattered electron by incident electron beam Instrument Electron gun, electromagnetic lens, specimen ... 초점 맞춤Vacuum system Remove air molecules Electrical Optical System Focus and control the e-beam Specimen ... supplementWhere the receiving surface is spherical having radius r0, (for the plane source)sourceΦr0r0rθMass evaporation

  리포트 | 41페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.08.07

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  Thin film Deposition(박막 제조) - 대본

  파티클들의 직진하는 경향으로 인해 다이렉셔널한 증착이 된다.: Evaporative deposition - electrically resistive heating: Electron ... Beam Physical Vapor Deposition - 이 방법은 증착 재료에 전자선을 조사해서 가열, 증발시킨다. ... CVD (LPCVD) -대기보다 낮은 압력Ultrahigh vacuum CVD (UHVCVD) -대기보다 한참낮은 압력(below 10-6Pa (~ 10-8torr)- 증기의 물리적

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.03 | 수정일 2017.02.17

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  SEPARATION OF PIGMENT BY TLC AND THEIR IDENTIFICATION USING SPECTROSCOPY

  A monochromatic incident light beam of intensity I0 traverses a sample contained in a cuvette of length ... acetate, liquid nitrogen, TLC plate, TLC developing chamber, mortar, beaker, funnel, filter paper, evaporating ... wavelength of fluorescence is almost always slightly longer than the wavelength of absorption of the same electron

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.20

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  PVD의 정의 및 공정

  PVD의 종류① 이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation)금속은 진공중에서 가열하면 가스로서 증발하는데, 이 원리를 응용한 방법이 진공증착법(眞空蒸着法, evaporation ... -이온플레이팅의 종류진공용기내의 압력을 1×10-2∼1×10-3Torr 정도의 Ar가스 분위기에서 기판에는 증발원 및 진공용기의 벽(접지전위)에 대해 -0.5∼2kV 정도의 (-)전압을 ... beam evaporaToyota Diffusion Process)에 대해서만 서술하고자 한다.TD처리는 일본의 (株)豊田中央硏究所에서 개발된 확산법에 의한 탄화물피복법의 일종으로서

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.18 | 수정일 2018.06.02

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  [전자재료]E-beam Evaporator

  Electron Beam Evaporator1. ... 이러한 문제를 피하기 위하여 고안된 방법이 전자빔을 이용한 증착법이다.전자빔을 이용한 진공증착(electron beam evaporation)(그림 1)은 매우 높은 전압을 가하여 ... 필라멘트에서 방출된 열전자들을 증발원에 충돌시킴으로써 발생되는 열에 의해 증착하고자 하는 재료를 증발시켜 기판에 증착시키는 방법으로서 이는 고진공(10-5torr 이하)하에서 수냉도가니를

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.11.13

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  또한 step coverage가 좋아서 균일한 성막이 가능하다. sputter 방법이 갖는 단점인 낮은 성막 속도는 magnetron 이나 ECR (Electron Cyclotron ... 웨이퍼tep coverage, 그리고 불순물의 영향 등이 있다. thermal evaporation은 성막 속도는 크나 박막의 밀착 강도가 작고 균일한 박막제조에는 불리하다. ... 이온빔 스퍼트링(Ion Beam Sputtering)39p4.4.5. Bias Sputtering39p4.5. 이온도금40p4.6. 이온 빔 증착40p5.

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  cvd 와 pvd의 특징과 비교

  evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 ... CVDVD , plasma-enhanced CVD, photochemical CVD, laser-induced CVD, and electron-beam assisted CVD로 분류될 ... MOMBE라고 Metal-Organic Molecular Beam Epitaxy인데 원료를 Metal-organic 소스를 써서 PVD와 같이 열이나 전자빔, 레이저 등으로 날려보내서

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.14

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  박막의 제조방법

  증발(Ion-beam Evaporation동시간을 줄일 수 있다. ... CVD , plasma-enhanced CVD, photochemical CVD, laser-induced CVD, and electron-beam assisted CVD로 분류될 ... 스퍼터링(Diode Sputtering)(나) 삼극 스퍼터링(Triode Sputtering)(다) 자기 스퍼터링(Magnetron Sputtering)(라) 이온빔 스퍼터링(Iom-beam

  리포트 | 52페이지 | 3,000원 | 등록일 2006.12.06

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  박막 증착 방법의 종류

  증착법 (electron-beam evaporation deposition)물리 기상 증착법 : 증발 증착법특성 증발 과정 시, 증발체는 보통 높은 진공 상태에서 열이 가해짐. ... 열 증발 증착법 (thermal evaporation deposition) 유도열 증발 증착법 (inductive thermal evaporation deposition) 전자빔 증발 ... id=data http://www.seongwooinst.com/data/thin-film-intro.pdf{nameOfApplication=Show}

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.16

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  디스플레이 공정 레포트,

  , electron beam evaporation 등 다양한 방법이 있으나, 그 중 sol-gel법은 넓은 면적의 기판위에 코팅이 가능하며, 진공의 유지가 필요 없으므로 장치가 간단하고 ... Sputtering, spray pyrolysis, sol-gel, PLD(Pulsed Laser Deposition), CVD, laser molecular beam epitaxy ... 이 방출된 열전자 혹은 전계전자(Field-emitted electron)들은 집광렌즈(condenser lens)에 의해서 모아지고 대물렌즈(objective lens)에 의해서

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.22

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  이온 플레팅_ION PLATING

  용도- 입자 광 가속의 electron source 제조- 반도체 photo mask 제작- 광학 렌즈, 필터 등의 기능성 박막 coating- electron beam welding ... to evaporate materials- Excellent adhesion- Reduction of macroparticles● multi-arc ion plating :증발원을 ... Beam Ion plaing진공중에서 전자총으로 전자빔을 발생시켜 금속 또는 무기물을 때리면 용해되면서 이온화되고 그 이온화된 물질이 또 서로 충돌하면서 플라즈마가 발생된다.

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.24

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  박막의증착

  박막증착은 특히 반도체 산업에서 핵심적인 분야인데그동안 ion-beam, 전자 빔(electron-beam) 또는 RF(Radio-Frequency) 스퍼터링(sputtering) ... photochemical CVD , laser-induced CVD, electron-beam assisted CVD로 분류될 수 있다.3.2 ALCVD(Atomi 고온을 생성하는데 ... ☞ 증착막 두께의 균일성.☞ 큰 면적의 타겟 이용 가능.☞ 열적 증발(Thermal evaporation)이 없다.☞ 아아크 증착(Arc deposition)시와 같은 macro-particle이

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26

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  [박막공학]박막공정

  특성 증착 속도는 표면의 증발 흐름 빔 증발 증착법 (electron-beam evaporation deposition)특성 증발 과정 시, 증발체는 보통 높은 진공 상태에서 열이 ... 취급이 불편하고 작업 시 튜닝의 어려움 등이 단점임.RF inductlasma electron beam guns) 플라즈마를 이용한 전자 방출로 focusing을 임의로 효과적으로 ... Evaporation 온도: 증발 증착법은 높은 온도를 필요로 한다. 물질: 증발 증착법은 금속만 가능한 반면 sputtering 증착법은 어떤 물질이나 가능함.

  리포트 | 43페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.29

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