"pulsed DC magnetron sputtering." 검색결과 81-100 / 145건

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  lcd 개론

  (통상적으로 RF 방전 이용)• Magnetron Sputtering 방법: DC Plasma 이용. ... Sputtering금속막 및 투명전극의 박막 증착에 사용• 원리: Ar 가스에 플라즈마 방전을 일으켜 이 때 생성되는 Ar+ 이온으로 target 금속(증착 물질)을 sputtering ... Target의 둘레와 뒷 쪽에 자석을 설치하여Magnetic Field 가 Secondary Electron 을 격리시켜 sputtering이 원할히 일어나도록 함.• Reactive

  리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.09.24

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  evaporator의 원리 및 이론

  LaserDC RF Pulsed DC Magnetron ReactiveReactive Cathodic arc3. ... E-beam Evaporation증착방법에 따른 굴절률 (TiO2)- E-beam evaporation, ARE : 2.2~2.35 IAD : 2.35~2.5 IP, Ion beam sputter ... Plasma Asun power supply DC power supply MFC lead out Thickness monitor RF generator Vacuum gauge controllerPAEBE

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  타켓이 전도체일 경우에는 DC 바이어스를 사용할 수 있지만 부도체인 경우에는 공간전하(Space charge)가 축적되는 것을 막기 위해서 RF(13.56MHz)나 Pulsed DC ... 스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)24p4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)34p4.4.2. ... 또한 step coverage가 좋아서 균일한 성막이 가능하다. sputter 방법이 갖는 단점인 낮은 성막 속도는 magnetron 이나 ECR (Electron Cyclotron

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  모터제어

  - 스텝 모터(stepping motor, pulse motor, stepper motor)는 다른 AC servo, DC servo motor에 비하여 정확한 각도제어에 유리하여방식과 ... 비례하고, 모터의 속도가 1초간의 입력 pulse수에 비례한다.- 1 step당 각도 오차가 +5% 이내이며 회전각의 오차가 step마다 누적되지 않는다.- 정지 시에 높은 유지 ... 반발력.3) 탈조(脫調)- 스타팅 특성 또는 slewing 특성을 벗어난 주파수의 pulse를 주었을 경우경우 1상만 여자하며, 또한 그 측정법은 일반적으로 정항법을 이용한다.5)

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.18

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  CVD 와 PVD 코팅

  PVD의 종류 및 원리1) Evaporation(2원 증착법, 플래쉬 증착법) - 진공중에 박막 물질을 가열, 증발시켜 그 증기를 증착 - 증발 과정이 열교환 과정으로 sputtering와 ... 교환빈도가 적어 연속화 작업이 용이 5) 반응성 가스를 혼합시켜 화합물의 증착이 가능 단점 1) Sputter 조건을 결정하는 인자를 독립적으로 변화시키는것이 어려움 2) 형성되는 막에 sputter ... , RF, Magnetron, Reactive) 진공 챔버내에 불활성 기체(Ar, He, Ne, Kr)을 채워 고전압내에서 방전시키면 이온화된 불활성 기체가 타겟에 충돌하게 되고 이때

  리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.05

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  DC 마그네트론 스퍼터링 장치를 이용한 Cu 증착률의 스퍼터링 압력 및 Power 의존성 조사

  갖는 가스에 high-impedence DC power supply를 이용하여 전압을 인가함으로써 방전이 일어난다. ... 스퍼터링(sputtering)스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다 ... 만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive-ion)이라면 cathode sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathode sputtering이다.보통 스퍼터링에는

  리포트 | 37페이지 | 6,000원 | 등록일 2008.01.16 | 수정일 2014.08.20

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  플라즈마 공정

  (D.C Glow Discharge sputtering) →가장 간단한 스퍼터링 구조로서 전도성 물질의 스퍼터링에 사용된다. ... 또한 이 장치는 반응성 스퍼터링(reactive sputtering)에는 적합하지 않은데, 특히 타겟 표면에 절연물을 형성함으로써 타겟의 오염을 유발시킬 수 있기 때문이다.RF스퍼터링RF스퍼터링 ... 낮은 압력에서도 사용 가능 - 단점 : 생성된 막이 타겟 물질의 조성과 반드시 일치하지는 않음 공정상 정밀제어와 주의 요함 ▶Magnetron 스퍼터링 - 소스 타겟 뒷면에 영구자석이나

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.16

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  스퍼터링(sputtering)

  직류 3극 스퍼터링 장치의 개략도DC Sputtering의 특징을 요약 해 보면? 구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.? ... 스퍼터링(sputtering)1. ... 이러한 현상을 물리학에서는 “sputtering”이라고 말한다.2) 스퍼터링 박막형성박막 증착에서 sputtering이라 하면 target 원자의 방출과 그 원자의 substrate에의

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.18

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  진공증착 (Sputtering)_pre

  이 과정을 스퍼터 식각, 리버스 스퍼터링(reverse sputtering) 또는 이온 밀링(ion milling)이라 한다.트라이오드 스퍼터링은 가스를 이온화시키는데 필요한 전자를 ... 마그네트론 스퍼터링 시스템은 타겟의 뒤, 때로는 옆에도 자석을 설치해서 이러한 전자들을 제거한다. 이 자석은 떠도는 전자를 타겟 근처에 가두어 놓는다. ... 금속막의 스퍼터링에는 DC 바이어스를 건다.RF 바이어스는 노출된 웨이퍼를 식각하고 세척한다는 또 다른 정점을 준다.

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2011.06.10

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  전기전자공학 - 주파수특성과 기계(마이크로폰, 스텝모터, 라디오, 어탐기, 송신기)

  스텝모터스텝 모터(stepping motor, pulse motor, stepper motor)는 다른 AC servo, DC servo motor에 비하여 정확한 각도제어에 유리하여 ... 비례하고, 모터의 속도가 1초간의 입력 pulse수에 비례한다.- 1 step당 각도 오차가 +5% 이내이며 회전각의 오차가 step마다 누적되지 않는다.- 정지 시에 높은 유지 ... 상승함에 따라 torque가 저하하며 DC motor에 비해 효율이 떨어진다.2.2.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

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  MOS소자

  직류가 아닌 교류를 가함.- Magnetron Sputter : DC Sputtering과 유사. ... sputter를 이용하여 상부전극 Pt를 증착(5) lift-off: 원치않는 부분의 Pt를 아세톤을 이용하여 제거(6) C-V parameter를 이용하여 Capacitance-voltage ... 제거하여 감광막 성질을 유지After spinning; 15% solvent & Built-in stress- 감광막의 건조- 접착력 향상- annealing 효과 ⇒ 응력 완화장비

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.07.04 | 수정일 2016.04.25

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  [박막공학]이온빔의 원리와 스퍼터링

  이온빔 보조 DC 반응이온 마그네트론 스퍼터링 장비 모식도PlasmaTarget-Ion Beam source그림11. ... 증착시 이온빔의 역활그림12.보조이온빔의 역활보조이온총에서의 이온빔 divergence(발산)가 적어야 되는 이유는 보조빔에 의해 증착된 박막의 선택적인 sputtering이 일어나게 ... 되며 이 선택적 sputtering이 박막의 집합조직 형성에 결정적인 역할을 하기 때문TaegetIon beamIon beamSubstrate그림13.이온빔 스퍼터링 공정Ion Beam

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.27

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  Investigation on microstructure and anti-wear performance of TiN-WC/TiN films prepared by the hybrid technique of arc ion plating and magnetron sputtering

  prepared on AIP TiN coatings using the hybrid technique of arc ion plating and DC & RF magnetron sputtering ... sputtering.The TiN-WC films are composed with TiN, Ti and WC phases. ... and anti-wear performance of TiN-WC/TiN films prepared by the hybrid technique of arc ion plating and magnetron

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.07.07

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  [금속재료공학]스퍼터링

  여기서 인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering methode)라 하며 일반적으로 전도체의 sputtering에 사용된다 ... 인가된 전원에 따라 RF·DC magne tron sputtering이라 한다.(3) 스퍼터링의 장? ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.마그네트론 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.15

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  Sputter

  이러한 현상은 DC-sputtering 의 경우 sputter 초기부터 target 뒷면의 영구자석을 회전시켜 주거나, 전자석의 전류를 변화시키면 개선될 수 있다. ... 그러나 reactive sputtering에서는 진공압력 gauge나 glow discharge용 filament의 수명을 짧게하고 DC sputter동안 target 표면에 산화물 ... Magnetron SputteringMagnetron Sputtering이란 target(cathode)의 뒷면에 영구자???

  리포트 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.24

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  박막 증착 방법, 종류

  sputtering, magnetron sputtering 등이 있는데, 특히 magnetron sputtering은 고속 스퍼터링 방법으로서 다방면에서 주목받고 있다.스퍼터링의 응용분야는 ... 이 이온충격에 의해서 튀어 나온 분자 또는 원자가 (+)극의 기판에 붙어서 박막이 형성되는 것이다.스퍼터링의 종류에는 DC sputtering, RF sputtering, bias ... 얻을 수 있기 때문에 최근 표면경화의 한 수단으로 주목을 받고 있다.PVD법을 크게 분류하면 ① 이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation), ② 이온을 이용하는 스퍼터링(sputtering

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.14

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  [금속공학실험]ZnO박막 실험

  만일 충돌하는 입자들이 양의 이온(positive -ion)이라면 cathodic sputtering이라고 부르는데, 대부분의 스퍼터링은 cathodic sputtering이다. ... 스퍼터링(sputtering) 현상은 1852년 Grove에 의하여 처음 발견되었으며[3], 현재는 여러 가지 박막의 형성에 광범위하게 사용되어지고 있다. ... etching으로 pre-cleaning이 가능하다.7) O2, N2 등의 reactive sputter로 산화물, 질화물 박막의 형성이 가능하다.3.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.25

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  ITO Glass에 대한 소개와 쓰임

  다른 진공 코팅방법에 비하여 작업조절이 용이하고 0.50.60.70.61.00.60.7금속의 sputtering yield(atom/ion)NSIB(Negative Sputtering ... 100tons/㎡의 접착력)NSIB의 원리● Cs 환경에서 target 표면의 work function이 감소되어 표면에서의 전자의 밀도가 현격하게 증가하게 된다.● 이 전자들은 sputtering시 ... 이 방법은 화학적 혹은 열적 반응과정이 아니며, 기계적 과정에 의해 증기상을 만드는 방법으로 어느 재료의 표적재료도 사용할수 있는 장점이 있으며, 일반적으로 DC방법을 사용하나 비전도성

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.14

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  박막증착 (박막공정)

  DC 또는 RF magnetron을 이용하여 증착하고자 하는 물질의 target으로부터 입자를 떼어내어 특정 기판 상에 옮겨 붙이는 공정이다. ... 물리 증착은 증발(evaporation), 스퍼터링(sputtering), 이온 플레이팅(ion plating), 아크증착(arc deposition), 이온 빔 보조증착 (ion ... PVD (Physical Vapor Deposititon)PVD(physical vapor deposition, 물리 기상 증착)은 보통 evaporation, sputtering

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.13

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  [공학]Al thin film and PVD

  Power supply - dc power :~20Kw , higher deposition rate , arc (demage) - ad power : ~3Kw , non arcPhysical ... planar magnetrons 1) issues : (trade off) film deposition rate and film thickness uniformity - deposition ... Reactive sputtering ex.

  리포트 | 25페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.02.05

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