"pvd코팅" 검색결과 81-100 / 267건

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  반도체 공동 연구소 기본 공정교육(3일) 실습보고서(MOS Capacitor 제작 및 C-V 측정 보고서)

  ▷HMDS를 먼저 코팅하여 PR과 웨이퍼의 접착력을 좋게 하고 Photoresist 코팅 후 soft bake. ... Target sputter장비이므로 정확한 두께로 증착가능(300nm 두께의 Al deposition)step사진실습 내용사진식각▷MSX1000 장비(PR Track) : PR coating ... 두께 측정. (1000Å=100nm 두께의 산화막)▷Backside oxide는 Ground로 사용하기 위해 Dry Etcher로 제거.금속증착▷Endura sputter 장비(PVD

  리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.08.31

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  자동차엔진공학 자동차 부품 개선 사항 피스톤링

  크롬코팅에 비해 고가이며 훨씬 내마모성이 뛰어나다.3. PVD 코팅 - 도요타의 하이브리드 차량에 도입되는 시기. 내마모도 뿐만이 아니라 마찰손실을 줄여 연비향상에 기여.4. ... 특히 세라믹과 Ti 등의 PVD(물리 증착)법의 표면처리 등이 주목된다)* 피스톤의 열가에 영향을 끼치는 인자들..1. ... 따라서 마모와 마찰을 줄이고, 실링(sealing)을 개선하며 파탄저항성(fracture resistance)을 증가시키는 것이 필요하다.3.피스톤의 종류1) 압축링(compression

  리포트 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2013.10.09

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  CBD실험 예비레포트

  - Langmuir and Langmuir-Blodgett films- Self-assembled monolayers- Polyelectrolyte adsorption- Spin coating ... formation of biofilmsFunctionalized surfaces- Creation of selective surfaces- Lipid membranes- Polymer coatings ... Surfactant interactions with surfaces- Effectiveness of surfactantsDrug Research- Dissolution of polymer coatings

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.01.16

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  반도체 공정의 이해

  Dark ClearPhoto Lithography process (2) PR( photoresist ) A Si wafer cleaning PR coating Pre-bake soft-bake ... 높은 RPM( 3000rpm 이상 ) 으로 spin 하는 wafer 에 PR 용매액을 떨어뜨리면 원심력에 의해 균일하게 기판 전체에 coating 됨 Wafer 를 90℃ 이상의 oven ... /Sol-gel ) (4) PVD 란 ?

  리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.18

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  기업탐방보고서 : 대구텍을 다녀와서..학교에서하는 탐방프로그램 결과보고서 입니다

  대구텍은 현재 다양한 피삭재에 적합한 최적화된 PVD와 CVD 코팅 재종들을 보유하고 있으며 이 재종들에 Gold Rush 표면처리를 더함으로써 완벽을 추구하고 있습니다. ... 동종업계 대비 기술력대구텍에서 자신있게 선보이고 있는 Gold Rush기술(특수 표면 코팅 기술)은 새로운 초경 코팅 재종에 신개념 표면 처리 기술을 개발 적용하여 최고의 생산성과 ... T-캐스트 라인의 초경코팅 재종 중에서도 새로운 Gold Rush 재종은 주철가공에서 획기적인 성능을 입증했습니다.

  시험자료 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.10.06

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  (결과보고서)복합재료

  브론섬유는 CVD공정으로 탄화규소나 탄화브론의 얇은 층으로 코팅된다. ... 적당히 배열된 섬유에 기지재를 CVD 혹은 PVD 하는 플라즈마 스프레이는 MMC를 만드는 또 다른 고상 공정이다.㉯ 액상제조기술 : 연속섬유는 처음에 적당히 정렬되고 배열된다. ... TiB{} _{2}코팅은 탄소섬유에서와 유사하게 처리된다.㉮ 고상제조기술 : 적당한 공간을 가진 브론섬유와 알미늄 박판의층을 한 층씩 교대로 적층하고, 고분자 바탕의 결합제는 적당한

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.18

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  반도체공학의 공정

  Photo(Photolithography)Photoresist coat (PR 코팅): PR coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 ... Physical Vapor Deposition (PVD)? Diffusion? Photo? Etch? ... (Plasma assisted PVD, 이하 PAPVD)의 분류에 속하지 않는다.

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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  Plasma Nitriding, Plasma Radical Nitriding, Duplex coating

  또, DLC 등의 경질탄소막 처리에도 응용되고 있다.듀플렉스(Duplex coating)듀플렉스 코팅은 모재에 얇은 질화층을 형성한 후 그 위에 질화박막을 형성하는 증착방법을 말한다 ... 라디칼 질화처리는 금형, 기계부품, 공구에 있어서 TiN, CrN 등의 PVD처리를 할 제품의 표면을 강화시키고, PVD 피막의 특성과 내구성을 향상시키는 처리로써 높은 평가를 받고 ... 모재의 질화층은 플라즈마 radical 질화법을 이용하여 코팅하고자 하는 나이크라이드 계열의 박막과 유사한 화학적, 기계적 물성을 가진다.

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.19

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  ITO Glass에 대한 소개와 쓰임

  resistivity & high density) : 원자층의 적층형 성장으로 인하여 낮은 저항과 고밀도의 ITO층을 형성할 수 있음.● 계면간의 강력한 접착성(Strong adhesion of coating ... 특히 PVD법은 증착, 스퍼터링, 이온플레이팅법으로 나누어지며 증착에는 저항열, 아면에 아르곤 이온이 충돌하는 이온폭격을 일으켜 표적재료 원자가 증기상으로 방출되게 된다. ... 흡착시켜 만든다.● 박막을 형성시키는 방법에는 크게 PVD(Physical Vapor Deposition)법과 CVD(Chemical Vapor Deposition)법이 있는데,

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.14

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  고려대학교 재료공학실험1 진공 증착기를 이용한 Ohmic Contact 형성용 Metal 박막 증착

  내마모나 내식성 코팅 등의 여러 산업에도 다양하게 되고 있다. ... 한다.Referenceshttp://www.kemco.or.kr/up_load/blog/%EC%A7%84%EA%B3%B5%EC%A6%9D%EC%B0%A9.pdfhttp://marriott.tistory.com ... 박막제조 방식이다.PVD 방식으로 제조할 수 있는 박막재료는 금속, 합금을 비롯하여 화합물, 비금속 산화물 등이 있다.

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.07.16

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  반도체 제조 공정 (P-N Junction) 반도체 공학

  금속화 공정 (PVD) 을 완료 . ... 광 노광 공정 P-type Si Wafer SiO ₂ Spinner 감광제 Photo Resist(PR) PR 을 고속 Spinner 로 SiO ₂ 표면에 고르게 도포 코팅된 감광제는 ... ³] Post Annealing Ion Implantation 은 확산을 위한 가열은 필요없지만 격자 완화를 위한 Annealing 이 필요하다 b) Annealing 전 c) Annealing

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.18 | 수정일 2013.11.21

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  CIGS 나노 파티클

  필수요건 고효율(노하우와 생산기술) 저비용의 대면적 고가의 PVD 공정을 사용 제조단가가 높다 사용재료의 20~50% 손실 비 진공 코팅방법에 의한 CIGS 광 흡수층 제조 기술 사용 ... 높아 소량의 source로도 박막 제작이 가능해 공정 단가 절감에 큰 효과가 기대된다정전기 스프레이 방법 (a) Ethanol (b) Diethylene Glycol (c) ... Glycol 용매에 따른 분류 CIGS-NANO POWDER 11 닥터블레이드 방법 Copper nitrate hydrate (Cu(NO3)2·3H2O; 99.999%) indium chloride

  리포트 | 21페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  반도체 솔라셀 기말발표

  Photor과하여 PR 을 감광시킴으로서 coating 된 PR 에 미세회로 형상을 전사시킨다 . ... 두 방법은 특정 목적을 달성하기 위해서 사용되는 보조적인 장치의 다양한 기술들로 분류된다 .1) PVD (Physical Vapor Deposition) PVD(Physical Vapor ... 주요한 PVD 기술은 Sputtering , E-Beam, Evaporation 그리고 Thermal Evaporation 이다 . 1) Sputtering 박막 증착에서 sputtering

  리포트 | 32페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.01.23

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  나노 구조 제작 방법

  정확도 떨어짐 건식식각 습식식각의 가장 큰 단점인 마스크 아래를 녹이는 언더컷을 유발하는 것을 보완한 것Photo LithographyPR coating wafer PR 도포 산화막 ... Photo LithographyPR coating wafer PR 도포 산화막 Photo LithographyExposure wafer UV Mask 산화막 Photo LithographyResist ... pressure CVD진공증착의 개요 증착하고 싶은 필름을 gas 형태로 웨이퍼 표면으로 이동시켜 gas 의 반응으로 표면에 필름을 증착시키는 방법 고순도 flim 형성 가능 , control

  리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.03

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  물질과 충돌시켜 플라즈마를 생성시킨 후 이를 substrate(기판)에 코팅시키는 방법이다. ... 재료공학실험3 2013년 1학기예비보고서RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1) PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해▶PVD (physical ... PVD법은 알루미늄, 티탄이나 고융점 재료의 도금이 가능하고, 진공 중에 금속과 비금속 원자를 이온화하여 반응시키면, 탄화 티탄, 질화 티탄, 알루미나, 질화 알루미늄, 탄화 규소

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  이온플레팅

  1.서론PVD(Physical Vapor Deposition)는 진공(일반적으로 10-1~1Pa) chamber 내에서 물리적인 방법으로 원자, 이온, 분자를 발생시켜 모재에 증착시키는 ... 재료(cathode)에 충돌함으로써 coating 재료의 원자가 밖으로 튀어나와 이것이 모재에 증착되는 것을 말한다. ... 재료를 증발시킨 후, plasma내에서 coating 재료의 원자를 이온화시킨다.

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.07.02

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  합금 제조 및 미세조직 관찰

  , CVD)고체로부터 : 클래딩(cladding), 확산 침투(알루미늄, 아연, 규속 등의 침투층)무기 화합물 피복법 : 각종 세라믹스 코팅, 법랑, 시멘트, 크로메이트 코팅, 인산염 ... 코팅유기 화합물 피복법 : 테프론 코팅, 도장, 고무 피복 등실험 과정합금 제조① 전기 용해로의 온도를 1200 oC로 미리 유지시킨다.② 조성 Al30 wt.% Cu의 합금 100 ... 산세전기 화학적 방법 : 전해 연마, 전해 탈지, 전해 산세수용액으로부터 : 전기 도금, 화학 도금용융 금속으로부터 : 용융 도금, 금속 용사기체로부터 : 각종 기상 도금(진공 증착, PVD

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.25 | 수정일 2016.09.04

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  진공 증착기를 이용한 Ohmic Contact 형성용 Metal 박막 증착 결과보고서

  내마모나 내식성 코팅 등의 여러 산업 < 그림2. 화학적 기상 증착법 개략도 >에도 다양하게 되고 있다. ... 단점(2) CVD와 PVD에 대해 조사하고 둘의 차이점을 설명하시오.① Chemacial Vapor Deposition법② Physical Vapor Deposition(3) 참고문헌 ... The advantages and disadvantages of boat sources >(2) CVD와 PVD에 대해 조사하고 둘의 차이점을 설명하시오.① Chemacial Vapor

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.25

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  32PVD(evaporation)

  PVDDepositionCh1정의진공 중에서 코팅 시키고자 하는 물질을 물리적 방법 또는 화학적 방법을 사용하여 기판 위에 피막을 형성하는 방법DepositionCh1분류증착 시키려는 ... Deposition ;CVD형성시키고자 하는 박막과 같은 재료를 진공 중에서 가열 증발 시켜 기판에 부착 시키는 기술기판에 증착될때 화학반응을 일으켜 고체화됨DepositionCh1compare ... PVD with CVDSputteringThermal evaporationE-beam evaporationPhysical Vapor Deposition ; PVDChemical Vapor

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

  또 TYPEⅡ의 un valanced magnetron sputtering은 hard coating (TiN)에 많이 사용된다.● Hybrid and modified PVD Processes ... ionized cluster들이 끌려가서 부서지면서 코팅된다.이것은 모식도하는 형태? ... ARC로 코팅시키려면 막질이 좋아야한다. ARC로 코팅시키면 adhesion Good (단단하게 붙는다.)● Ionized cluster beam (ICM) deposition?

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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