"E-Beam Evaporator" 검색결과 101-120 / 202건

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  박막 재료

  effects and film surface reactivity* Film materials modified by Ion-Beam processingIonized cluster beam ... evaporation processesIn reactive evaporation the evaporant me tal vapor flux passes through and reacts ... beam.

  리포트 | 31페이지 | 4,000원 | 등록일 2010.05.13

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  열증착

  (단점) - X-ray 발생- e-beam source 위에 원자의 농도가 크므로 와류 또는 discharge 가 심하다.4) 진공증착의 특징- 막형성의 속도가 빠르다. ... CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.1) PVD먼저 PVD에 대해 언급하면, PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam ... 이때 윗부분에 위치한기판에 박막이 형성된다.Electron beam evaporation의 특징을 보면(장점) - 증착속도가 빠르다.- 고융점 재료의 증착이 가능하다.- Multiple

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.02.08

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  금속 박막증착

  rate1000 atomic 작다Cost저렴하다비싸다① 전자빔 증착(electron-beam evaporator): e-beam evaporator는 각종 금속(Au, Al, Ti ... 금속 박막의 증착장비 종류 및 특성- 금속박막 증착에는 일반적으로 물리 기상 증착(PVD)을 많이 사용한다.실험장비는 DC 스퍼터, RF 스퍼터, 마그네트론 스퍼터, E-beam evaporator ... 발생ㆍe-beem source 위에 원자의 농도가크므로 와류 또는 discharge가 심하다※ 작동원리전자빔을 발생시켜 가속시키면 많은 에너지를 갖게 되며, 이 전자빔을 증착시키고자하는

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.08.24 | 수정일 2015.02.12

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  Bioelectrochemistry

  micron) 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam ... 증착(Deposition)1) Sputtering : DC 또는 RF magnetronevaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation ... 증착 (Deposition) - 포토리소그래피 (Photolithography) - 도금 (Plating) -에칭 (Etching) - 다이싱(Dicing)'의 과정을 거칩니다.2.1

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.21

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  Design project for LED fabrication process-조명 white LED 제작 공정

  ]질화물계 LED 제조공정7[그림10]RTP system의 공정설계도8[그림11]E-Beam Evaporator9[그림12]제작된 LED 계 칩 구조10[그림13]LED 램프형 packaging의 ... 각 공정의 세부 사항8a) 투명전극 Au/Ni 증착8b) Photolithography 8c) Etching8d) n형 전극 형성 9e) p형 전극 형성9f) Lapping/polishing9g ... GaN:Si layer를 1500nm 두께로 쌓아야 하므로, 약 35-40분 동안 성장시킨다.⑤ InxGa1-xN SQW (Single Quantum Well)이 층은 780-800

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.03.26

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  PVD와 CVD

  전자빔증착법 (E-beam evaporation) 전자빔을 이용한 증착방법은 증착재료의 용융점이 넓은 경우(예:W, Nb, Si)에 주로 사용된다. ... ) 열 source로는 고융점의 filament, baskets 또는 boat 등과, 용융점이 넓은 재료의 evaporation에 적합한 electron beam이 있다. ... -Multiple deposition이 가능하다. 단점 -X-ray 발생 -전자빔 source 위에 원자의 농도가 크므로 와류 또는discharge가 심하다.

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.10.27

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  박막 증착에 관한 진공장비(시스템) 소개 및 원리 숙지

  E-beam ow region에 있는 전자들은 기체 원자들을 직접 이온화 할 수 있는 충분한 에너지를 갖게 되어 실질적으로 discharge를 유지하는데필요한 전자들의 수가 감소한다 ... Thermal evaporation금속재료를 증착 시키기 위해 고진공(5x10-5 ~ 1x10-7torr)에서 resistance heated source를 이용해 보트를 가열하여 ... )SputteringIon plantingCVD분무법(Spray)화학증착법(CVD)Sol-geldipping2) PVD (Physical Vapor Deposition)진공증착법(evaporation

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

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  MOS 소자 형성 및 전기적 성질 확인

  마지막으로 질소로 물기를 제거한다.4) electrode deposition : E-beam evaporation으로 Al을 시편 위에 증착시킨다. ... (Al을 electro beam을 통해 끓이고 진공에서 생긴 Al증기는 직진으로 나아가 시편에 부딪혀서 쌓인다.)5) lift-off : Acetone에 10분 정도 담궈 PR을 제거한다 ... 신소재응용 실험-MOS 소자 형성 및 전기적 성질 확인-1. 실험 목적MOS(Metal-Oxide-Semiconductor)소자를 만들고 전기적 성질을 확인한다.

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12

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  반도체 공정

  빛 투과여부를 조절 가능 Wafer에 형성될 패턴보다 4~5배 정도 확대된 패턴 형성 메모리공정의 경우 25~30장 사용마스크(Reticle)의 역할마스크 제작설계된 회로패턴을 E-beam으로 ... 금속물질을 증발시켜 웨이퍼 위에 증착(Electron-Beam Evaporation)PVD-Sputtering저압에서 증착시키고자 하는 금속 물질로 이루어진 Target과 웨이퍼 ... 하는 막을 물리적인 방법으로 웨이퍼 위에 증착 Sputtering법, Evaporation법 저온공정 Step Coverage 문제(Evaporation)진공상태에서 형성하고자 하는

  리포트 | 50페이지 | 5,500원 | 등록일 2011.03.31

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  [전자재료]Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조 결과

  : evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation,ity가 나쁜 단점이 있다. ... 실험방법3-1 실험 장치 및 시약Convection Oven, Thermal Evaporator, Glass Substrate, Beaker, Crucible, Shadow Mask ... 도금의 종류에는 전해 도금과 무전해 도금이 있으며 thin film HIC에는 주로 전해 도금이 이용된다.2-3 열증착 thermal evaporationThermal Evaporator는

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.03.15

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  E-Beam Sputtering

  1.E-Beam Sputtering2.실험방법 및 목적이번 실험은 Sputtering 이며 4인치 웨이퍼에 E-Beam 으로 타켓에 막을 형성시키는 것을 실험 하려고 한다. ... 금을 타겟으로 E-beam 을 쏘아 막을 형성하는 방법이다. 은 많은 이번실험을 통해 플라즈마를 통한 방법과의 차이점을 알고 공부하여 보도록 한다.3.이론적 배경.1. ... -절연막의 증착-증착막 두께의 균일성-큰 면적의 타겟 이용 가능-열적증발(Thermal evaporation)이 없다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.12

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  CBD실험 예비레포트

  PVD에 해당하는 증착법에는 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔증착법 (E-beam evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 ... 적극적으로 이용하는 응용 요 이점은 분자의 label free detection을 할 수 있다는 점입니다.Thin Film thickness monitoring in thermal, e-beam ... R E P O R T< CBD - 예비레포트>1.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.01.16

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  연소 화학 기상 증착법(Combustion Chemical Vapor Deposition)

  heating -e-beam deposition금속합금Cr,Al,Zn,Co,Au자성재료,IC,LSI,반도체,Super lattice,태양전지,발광소자대규모생산성 접착력이 약함 불순물 ... -Electron beam Evaporation 증착재료의 용융점이 높은 경우(W,Nb,Si..)에 사용 Hot filament에 전류를 공급하여 나오는 전자 beam을 전자석에 의해 ... 기판의 온도가 낮은 저온 process이므로 생산성전기저항열을 이용한 filament, basket, boat 용융점이 높은 재료의 evaporation에 적합한 electron beam이있다

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.17

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  [신소재 설계입문] 생체 세라믹 재료를 이용한 인공뼈의 설계 보고서

  이러한 PVD에 해당하는 증착법으로는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 ... (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법(PLD, Pulsed Laser Deposition) 등이 있다.그림 12. ... ZTA 미세구조 사진ZTA의 기계적 성질에 영향을 주는 요소는 여러 가지가 있는데 그중에 하나는 지르코니아 입자의 크기이다. nano-scale의 ZrO2를 micro-scale 의

  리포트 | 36페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.06.23

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  Cryo pump의 구조와 원리

  Evaporation고온 필라멘트 대신 electron beam (15KeV)을 을 사용 E-beam에 맞는 sourse 가 열을 받아 기화되어 층착되어짐. ... Evaporatiion system Vaccum chamber, mechanical roughing pump, diffusion pump Valves, vaccum gauge 등E-beam ... treating Integrated circuit manufacture Decorative coating Particle acceleration Chemistry research E-beam

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.08.21

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  태양전지 연구동향

  박막의 적층구조를 갖는 CIGS태양전지의 후면전극으로 사용되는 몰리브덴(Mo), ITO(Indium doped Tinoxide)는 sputtering이나 e-beam evaporation을 ... 사용하여 증착을 하며, CIGS 광흡수층은 evaporation, sputtering, electro-deposition, ink-printing, solution coating ... - 태양전지 연구 동향 -▣ 목 차 ▣1. 서론 ……………………………………………………………………………12. 태양전지 종류 및 원리 ………………………………………………………22-1.

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.03.09

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  증착기를 이용한 반도체 공정

  증발원은 끊어지지 않아야 하기 때문입니다.② 전자 충격법 (E-beam evaporation)텅스텐 종류의 필라멘트에 전류를 흘려보내주면 열전자가 발생하게 됩니다. ... 이때 열에너지를 가하는 방법에 따라 Thermal Evaporation 과 E-Beam Evaporaion 으로 나뉩니다.PVD는 증착시키려는 물질을 기체상태로 만들어서 날려 보내기 ... 설계된 회로 Pattern을 E-Beam설비로 유리판 위에 그려 MASK(Reticle)를 만든다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.09.21

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  Thermal evaporation system

  특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam 증착), sputtering ... : evaporation의 방법으로는 thermal evaporation과 e-beam evaporation, 그리고 이 둘을 조합하는 방법이 있다. ... Thermal evaporation system▲Thermal Evaporator의 개략도교수명 : 제출일 :학과 :학번 :이름 :-목 차-1. 진공이란?2. 왜 진공이 필요한가?

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.05.16

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  Ion plating method

  )공정 전자빔 증발원(E.B Filament)과 보조양극(Ion Filament)을 이용하여 플라즈마를 활성화 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 전자빔 증발원을 이용한 반응성 이온 ... 도입(글로방전) Ar 가스 이온화→기판에 입사 → 증착층의 표면에 충돌함 → 운동량 전달 → 증착층의 밀착성을 향상,미세조직을 치밀하게함 ARE(Activated reactive evaporation ... Steered arc source Arc spot의 움직임을 제어하는 기술 증발원 타겟 균일하게 용식→수명 연장 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 Ion Beam

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.18

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  DLTS

  For diode processing we have a clean room facility with photolithography and a thermal and e-beam evaporation ... 다이오드 처리를 위해 우리는 석판술과 및 열 e - 빔 증발 장비와 클린룸 시설이 있습니다. .{nameOfApplication=Show} ... ~ 300kDLTS 정보검출 감도 : bulk trap은 도판트 농도의 10-4~10-5 계면 준위는 108~109cm-2eV-1 측정 시간 : trap 농도에 다소 관계 있지만

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.06.14

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