"ITO 식각" 검색결과 101-120 / 141건

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  서울반도체 기업분석

  하면서 전도대(conduction band)와 가전대(valance band)의 높이차이(에너지 갭)에 해당하는 만큼의 에너지를 발산 하는데, 이 에위쪽에서 N-GaN의 일부분까지 식각 ... LED 산업은 일반 조명이 사용되는 거의 전 분야와 적외선, 자외선 등의 특수 조명산업이 전방산업이며, 후방산업은 LED 제조공정에 들어가는 칩, 웨이퍼, ITO, 전극재료, 형광체

  리포트 | 25페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.12.07

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  태양전지의 연구 동향

  내에 존재하는 철, 니켈, 코발트 등의 불순물은 n+-p 접합 형성을 위한 불순물 확산 후에 전기로의 온도를 천천히 식히는 방법으로 석출하고, 이 불순물을 포함한 표면층을 다시 식각하였다 ... 박막의 적층구조를 갖는 CIGS태양전지의 후면전극으로 사용되는 몰리브덴(Mo), ITO(Indium doped Tinoxide)는 sputtering이나 e-beam evaporation을

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.12

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  태양전지용 ZnO계 투명전극층의 표면거칠기의 평가 및 결정성 분석

  60nm) → 상대적으로 flat(80~100nm)◈ 200nm의 두께에 따른 strain 발생 → 결정성 저하▣ 개선방안◈ Light trapping 위한 거칠기 증가 → 선택적 식각 ... 대표적인 물질로는 ITO, ZnO, SnO2 등이 있다.○ ITO란?? ... 디스플레이에 주로 사용되는 물질인 ITO는 빛을 잘 투과시키는 동시에 전기를 잘 통하는 성질을 갖는다.

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.13

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  [OLED, LED] Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작

  이를 바탕으로 직접 ITO를 이용하여 Pattern을 제작해보고 평가해본다.2. ... 실험원리lithography의 과정① Lift off 고정과 Lithography 공정 비교- Lift off 고정Lift-off공정이란 반도체 공정중 Etching(식각) 공정중에 ... Photolithography를 이용한 ITO Pattern 제작1. 실험목적Photolithography의 원리 및 공정과정에 대해 이해한다.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.19

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  [고학]lcd제조공정

  금속막의 경우는 용제를 사용하는 습식 식각(Wet Etching), 반도체와 절연체는 플라즈마를 이용하는 건식 식각(Dry Etching)을 이용⑦PR 박리(Strip 공정)남은 PR을 ... 공정ITO(Indum Tin Oxide)를 BM공정처럼 패턴 공정을 통해 생성한다.이 외에도 패널의 타입(VA, IPS, TN 등등)에 따라 몇 가지 공정이 더 추가 되기도 한다. ... 패턴 공정은 앞서 했던 2가지 공정과는 약간 다른 공정으로 증착, 세정 과정이 필요 없이 컬러를 갖는 감광 물질을 도포하여 노광, 현상의 공정을 거치면 된다...PAGE:263) ITO

  리포트 | 36페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.09.29

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  플라즈마

  습식 식각은 화학 용액을 이용하여 PR pattern에 맞게 박막을 제거하는 방법으로, 주로 금속막이나 ITO의 pattern 형성에 적용된다. ... 식각(Etching) 공정에는 플라즈마가 사용되는 건식 식각과 증착액을 이용하는 습식 식각 방법이 있으며, 식각 후에는 유기 용매 들에 의한 PR 스트립(Strip) 공정이 이루어진다 ... 플라즈마 식각 방식은 생성된 반응 물질 둥 두로 라디칼이 화학적 반응에 의하여 식각에 이용되므로 등방성 식각 양상을 보이며, 물리적 충동이 적어 하부막에 대한 영향이 적고 선택적 식각에

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.02

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  OLED 효율성 향상 방안... 간단한 시장조사..

  etching으로 나누어지는데 wet etching은 주로 liquid상태의 chemical을 사용하는 모든 종류의 etching을 의미하며 dry etching은 플라즈마를 이용한 모든 식각 ... OLED의 패턴 공정에서는 wet etching 방식을 사용한다.● Stripping 공정ITO가 etching되고 나면 패턴된 ITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야 한다. ... .● 에칭공정Figure 9 - ITO 패턴을 위한 노광 공정그 다음은 glass 기판의 전면에 형성된 ITO film을 현상과정에서 형성된 PR층의 패턴을 통해 선택적으로 제거해

  리포트 | 36페이지 | 4,000원 | 등록일 2007.12.03

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  LCD 동작원리

  형성(Indium-Tin-Oxide : 투명하면서도 전기를 통하는 박막형태의 전극)RGB 패턴 형성1BM 형성 : 증착 - 세정 - PR도포 - 노광 - 현상 - 식각(습식)- 박리 ... AM-LCD의 구조 및 동작 원리 (1) Color TFT-LCD 패널의 구조TFT-Array(기판) 두 종류 이상의 금속막, 절연막, 비정질 실리콘 층 ITO등이 유리 기판에 박막 ... ITO(Indium-Tin-Oxide) : 인듐 주석 산화물 투명하면서도 전기를 통하는 박막형태의 전극 전기 신호를 전하고 동시에 빛을 투과할 수 있는 타입의 전극Seal : 2매의

  리포트 | 36페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.11.09

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  생산운영관리 - TFT LCD 모니터의 소비자에게 주는 가치와 생산공정, 결함적 요소에 대한 대안

  다르게 증착, 세정의 과정이 필요 없이 컬러를 갖는 감광물질을 도포하여 노광, 현상의 공정을 경과), ITO 공정(Indum Tin Oxide, 화학적, 열적 안정성이 우수한 투명 ... TFT 공정에서의 패턴 공정은 증착(글라스 위에 산출물을 도포), 세정, 감광물질(글라스 위에 자외선에 민감하게 반응하는 감광물질의 막을 형성), 코팅, 노광(자외선 쪼임), 현상, 식각 ... BM 공정(Black Matrix, 글라스 위에 블랙 매트릭스 패턴을 형성하는 공정으로 증착-세정-PR코팅-노광-현상-식각-박리 순의 패턴 공정을 경과), 화소별 공정(앞의 패턴 공정과

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.05.24

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  PDP의 모든것

  투명 전극 재료에는 ITO, SnO₂, ZnO, CdSnO 등이 있으나 SnO₂등은 식각이 어려운 관계로 lift-off 방법과 특수 패터닝 기술을 이용해야 하므로 현재 ITO가 가장 ... 형광체 입자 크기, 수지종류 및 양, 용제의 종류 등이 최적화 되어야 원하는 형상을 얻을 수 있다.(4) 전극AC PDP의 전극은 투명도전 전극(ITO)과 금속 Bus 전극으로 구성이

  리포트 | 34페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.03

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  습식에칭(Wet Etching)

  기술의 소개 ● 이방성에칭 결정면 중에서 일정 방향의 특수한 면이 매우 빠른 식각 속도를 나타내는 경우 이러한 방향성을 갖는 식각 Etching ( 식각 ) ● 등방성에칭 일차적으로 ... 예를 들어 80 ℃ 의 식각 온도에서 (100) 면의 식각 속도는 (111) 면에 비해 약 100 배정도 빠르다 . 6/201. ... 속도는 ( 100) 면의 식각 속도보다 느리다 .

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.22

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  포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비

  유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화한 것 투명한 석영기판 상층에 도포된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5 배로 식각 해 놓은 제품 사진의 ... Operator M/C 간의 Conversation 방식으로 제품이 처리됨 완전 자동 평행광 노광기 반 자동 PDP 노광기 UV-A,B 파장을 이용한 PDP Pattern 중에서 ITO

  리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.10.05

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  OLED 기술

  etching으로 나누어지는데 wet etching은 주로 liquid 상태의 chemical을 사용하는 모든 etching을 의미하며 dry etching은 plasma를 이용한 모든 식각 ... 공정을 포괄적으로 의미한다.OLED 공정에서는 wet etching방식을 사용한다.ITO가 etching되고 나면 patterning된 ITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야 한다이 ... glass 기판을 ITO patterning 공정에서와 같은 방법으로 알칼리 또다.

  리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.10.24

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  포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비

  Photomask)는 유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화한 것입니다.즉, 투명한 석영기판 상층에 도포된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5배로 식각해 ... Troubleshoot가 용 이하며, 안전성을 향상시킨 Model 이다.②반 자동 PDP 노광기본 장비는 SEMI-AUTO형 대면적 노광기로서 UV-A,B 파장을 이용한 PDP Pattern중에서 ITO

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.05

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  [디스플레이]유기LED

  지금까지 가장 효율적인 일함수 증가 방법은 Aquaregia에 의한 ITO 표면 식각 및 산소 플라즈마 처리 방법 등이 있다. ... 첫째는 ITO의 일함수를 증가시키는 방법이며, 나머지는 ITO와 유기물 층 사이에 ITO의 일함수보다 크고 유기물 층의 LUMO 준위보다는 작거나 같은 유기 혹은 무기 전하 주입층을 ... 삽입하는 방법이다.ITO 전극의 일함수를 증가시키기 위해서 여러 가지 방법이 시도되고 있으며 그 중 가장 일반적인 방법은 ITO 전극의 표면처리를 통해 ITO 전극 표면의 일함수를

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.12

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  [공학]LCD(발표용)

  공정 ITO (Indum Tin Oxide,투과성과 도전성이 좋으며 화학적, 열적 안정성이 우수한 투명 전극 재료)를 BM공정처럼 패턴 공정을 통해 생성. ... 식각공정 (Etch공정) • 염화물 혼합기체, 불산, 초산 등으로 Glass위에 증착된 금속막의 특정부를 녹여내고 소자와 소자사이의 전기적인 회로를 형성시키는 공정 마. ... 배열을 조절하여 빛의 밝기를 조절1) BM(Black Matrix) 공정 • 글라스 위에 블랙 매트릭스 패턴을 형성하는 공정. • 증착 - 세정 - PR 코팅 - 노광 - 현상 - 식각

  리포트 | 73페이지 | 3,500원 | 등록일 2007.01.12

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  [반도체공정] 스퍼터링

  The process of work마스크 제작ITO 절단기판 세척건 조스퍼터링 증착PR 도포에 칭UV 노광현 상Soft bakingHard bakingN2 gasSputtering ... 용제(Solvent) 용제는 폴리머와 센시타어저를 섞어주는 역할Mask making슈퍼맨의 상징인 모양을 참고해서 마스크 제작 OHP film 을 사용해서 제작ITO cuttingITO ... 식각을 정밀하게 하는 것이 쉬운 일이 아니었다.

  리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.22

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  TFT-LCD

  물질이 반응하여 휘발성 물질로 변하는 현상을 이용한 식각방법이다.2. ... Pixel사이에 형성되는 빛 차광막.Color Filter세가지 기본색 (적,녹,청색)의 염료나 안료를 포함하는 수지 Film.Common Bectrode이것은 투명한 전기 전도체인 ITO로 ... Dry etch 공정 (식각공정) 진공과 gas, RF power의 3조건하에서 형성되는 gas plasma로부터 만들어진 원자나 Radical과 같은 반응성 물질과 기판에 증착된

  리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.22

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  [공학기술]Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조

  EH 순물질 QNs만 아니라 산소 등의 반응성 가스 분위기 속에서 알루미나나 실리카, ITO 투명 도전막 등의 화합물 박막 작성에도 사용된다.전자 beam 을 이용한 증착방법은 증착재료의 ... 이론◎ 박막제조공정의 개요Thin film process란 thin film deposition(증착)과 photolithography(사진식각) 기술을 이용하여 원하는 형상의 회로를 ... Thin film deposition과 더불어 thin film process의 핵심이라 할 수 있는 photolithography란 사진 현상 및 식각 기술을 이용하여 deposition되어

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.06.02

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  LCD 제조공정

  Photo Resist는 화상형성용의 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성 고분자를 일컫는 것을 말한다.? ... 입사된 백색 평면광을 구동 회로 Unit로부터 입력된 개개 화소의 신호전압s에 따라 중요도가 다르지만, 특히 저항, 투과율 Etching 특성, 열 안정성은 중요한 특성이다.② ITO

  리포트 | 32페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.12.03

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