"electron beam evaporator" 검색결과 101-120 / 125건

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  [박막공학]박막공정

  특성 증착 속도는 표면의 증발 흐름 빔 증발 증착법 (electron-beam evaporation deposition)특성 증발 과정 시, 증발체는 보통 높은 진공 상태에서 열이 ... 취급이 불편하고 작업 시 튜닝의 어려움 등이 단점임.RF inductlasma electron beam guns) 플라즈마를 이용한 전자 방출로 focusing을 임의로 효과적으로 ... Evaporation 온도: 증발 증착법은 높은 온도를 필요로 한다. 물질: 증발 증착법은 금속만 가능한 반면 sputtering 증착법은 어떤 물질이나 가능함.

  리포트 | 43페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.12.29

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  [증착법] 증착법

  .)의 증착에 유리하며, 증착속도는 filament에 공급하는 전류량을 조절함으로써 변화시킬 수 있다.2) Electron Beam Evaporation전자 beam을 이용한 증착방법은 ... Electron beam source인 hot filament에 전류를 공급하여 나오는 전자 beam을 전자석에 의한 자기장으로 유도하여, 증착재료에 위치시키면 집중적인 전자의 충돌로 ... 반응성 이온프로이 팅 가운데서도 각종의 원리가 있고 HCD(Hollow Cathode Discharge)법, EB(Electron Beam)법 등을 들 수 있다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.10.07

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  건식도금(pvd, cvd)

  즉 증발류가 노즐을 나오는곳에서 전자빔(electron beam) 충격을 받아 클러스터중의 몇 개의 원자가 이온화되어 가속되며, 도입된 가스와 반응하기도 한다. ... 합금 물질의 조성은 evaporation에 의해 제조된 박막보다 더 정확하게 조절이 가능.d. 합금 물질을 증착하기 위한 많은 target 물질들이 있음a. 높은 설치 비용.b. ... 증발 수단으로는 boat 가열증발, 전자 beam gun 증발, sputtering, 냉음극 arc 방전 등이 이용되고 있다.

  리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.17

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  [진공과학] 진공증착

  이온도금(Ion Plating)1) 열증발(Thermal Evaporation)2) 고전압 전자빔 증발(High Voltage Electron Beam Evaporation)3) 아-크 ... 증발(Arc Evaporation)4) 마그네트론 증발(Magnetron Evaporation)5) 이온빔 증발(Ion-beam Evaporation)(이온도금 과정)◆ CVD(화학적 ... 실험제목Evaporation2.

  리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2004.11.14 | 수정일 2015.09.25

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  [금속재료공학]스퍼터링

  박막증착은 특히 반도체산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam), 전자 빔(electron-beam) 또는 RF(Radio-Frequency) 스퍼터링(sputtering ... 합금 물질의 조성은 evaporation에 의해 제조된 박막보다 더 정확하게 조절이 가능◇ 단점가. 높은 설치비용이 든다.나.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.15

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  PLD에 대하여

  입사 ① Electronic excitation ② Evaporation Ablation Plasma 형성 Exfoliation  원자, 분자, 전자, 이온, Cluster, 미세입자 ... PLD의 원리① Excimer Laser beam 의 에너지 ② Target 표면에서 ablation 현상이 발생 ③ Target 물질이 기판부위에 이동하여 증착2.1 Excimer ... Population inversion  Lasing action2.1 Excimer laser 2Potential energy curves for the KrF excmer laserLaser beam

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.11.09

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  Photoconductive device(광전도 소자)

  Metal contacts are evaporated over the surface of the photoconductor and external electrical connection ... Headlight Dimmer • Night Light Control • Oil Burner Flame Out • Street Lightrol • Absence / Presence (beam ... - dual cell • Photocopy Machines - density of toner • Colorimetric Test Equipment • Densitometer • Electronic

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.16

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  [광전자] 박막제조와 화학증착공정실험

  ), 전자빔 증발 증착법 (electron-beam evaporation deposition) 등이 있다. ... 증발 증착에는 열 증발 증착법 (thermal evaporation deposition), 유도열 증발 증착법 (inductive thermal evaporation deposition ... Evaporation PVD열을 가해서 액체 또는 고체로부터 증기를 발생시켜 발생된 증기를 기판에 증착 시키는 과정을 말한다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.08.23

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  [박막공학] MBE, CBE, GSMBE

  auxiliary Ti-sublimation and cryogenic pumps ◈ Liquid N2 cryopanels : additional pumping ⇒ prevent re-evaporation ... Applications◈ Compound Semiconductors : GaAs, InP, HgCdTe등등 ◈ Dopants : n-type doping, p-type doping◈ Electronic ... 개요와 이론 ◈ HARDWARE ◈ Application ◈ CBE, GSMBE의 개요와 이론 ◈ HARDWARE ◈ MBE와 MOCVD, CBE의 비교MBE(Molecular Beam

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.11.02

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  전자현미경 표본 제작법

  왜냐하면 첫째, 전자선(electron beam)의 투과력이 약해 두꺼운 절편은 투과하지 못한다. ... 특히 전자현미경의 환경은 전자광선(electron beam)과 고진공(high vacuum)상태에 놓이므로 여기에 적절한 표본제작 기술이 준비되어야 한다. ... 2.5% 글루타르알데하이드)이 오랜 보관으로 피로해진 것(좌: 갈색)과 활성탄(숯가루)을 통해 사용이 가능한 고정액(우: 투명).* 오스미윰산의 특성1) 무색2) 무취3) 휘발성(evaporation

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.27

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  [박막공학] Sputtering

  종류에는 Thermal and E-Beam Evaporation, DC-diode Sputtering, RF Sputtering, Trided Sputtering, Magnetron ... Effect of electric field and magnetic field on electron motion그러나 사용하기가 복잡하고 열전자로 인한 오염이 있을 수 있으며 필라멘트에서 ... d) 이밖에도 광화학 또는 광감성을 이용하는 PHCVD, e) 레이져를 이용하는 LCVD등이 있다.물리적인 방법은 PVD(Physical Vapor Deposition)으로써, evaporation

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.22

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  [공학]전자재료

  ), ② 이온을 이용하는 스퍼터링(sputtering), 이온플레이팅(ion plating), 이온주입(ion implantation), 이온빔믹싱(ion beam mixing) 등으로 ... weld)낮은 열전도도(Low Thermal conductivity)우수한 밀착특성 (Excellent adhesion)PVD법을 크게 분류하면① 이온을 이용하지 않는 진공증착(evaporation ... 있다.고온플라즈마(평형플라즈마 또는 열플라즈마)-＞국부열평형상태LTE(Local Thermodynamic Equilibrium) : (Te = Th), ＞; 104 K(Te : electron

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10 | 수정일 2024.01.14

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  [재료공학] 박막 제조법

  고진공 증발 (Evaporation in high vacuum)가. 저항가열 증발나. 전자빔 증발다. 레이저 증발라. 아-크 증발2. ... Transverse gun방식은 전자빔을 접지한 양극의 구멍을 통과하게 한 후 자기장에 의해 휘어져 표적재료로 향하게 하는데, 진공증발시 주로 사용하는 방식은 270 도 Bent-Beam ... 이러한 electron은 chamber안의 sputtering gas(주로 Ar)를 때리게 되고 sputtering gas는 다시 타겟 표면을 때리게 된다.

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.27

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  진공증착 (Evaporation)

  이온도금(Ion Plating)1) 열증발(Thermal Evaporation)2) 고전압 전자빔 증발(High Voltage Electron Beam Evaporation)3) 아-크 ... 증발(Arc Evaporation)4) 마그네트론 증발(Magnetron Evaporation)5) 이온빔 증발(Ion-beam Evaporation){(이온도금 과정). ... 실험제목진공증착(Evaporation)2.

  리포트 | 11페이지 | 2,500원 | 등록일 2002.04.10

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  [공업화학실험] 박막재료의 표면 처리 및 식각 공정

  금속층은 다음의 방법에 의해서 wafer에 vacuum - deposit 된다.1) Filament Evaporation2) Flash Evaporation3) Electron-beam ... Evaporation4) Sputtering◎식각식각 공정은 웨이퍼 표면의 선택된 부분을 제거하기 위해 사용되는 공정이다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.01.20

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  [박막 증착] PVD의 원리와 종류

  우수한 밀착특성 (Excellent adhesion)진공증착(vaccum evaporation)진공증착(vaccum evaporati많이 이용되고 있지만 도가니에 의해서 오염되기 쉽고 ... 녹는점이 2200℃ 이상인 시료는 박막제작이 불가능하다는 단점이 있다.MBEMolecular Beam Epitaxy의 약자로 분자선에피택시라고 한다.torr이하의 초고진공 반응관에서 ... 결정성장이 되는 것으로서, 종래의 물리증착방식(physical vapor deposition, PVD)을 발전시킨 것이다.특히 RHEED(reflection high energy electron

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.01.18

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  [재료공학실험] 박막증착실험(진공, pvd, cvd)

  활성화 에너지원에 따라 thermally-activated CVD , plasma-enhanced CVD, photochemical CVD , laser-induced CVD, electron-beam ... 증발 물질을 증발시키는 방법으로는 저항가열, 유도가열, 전자빔, 마그네트론, 반응성 증발, 아크방전등 여러 가지가 있으며, 일반적으로 증기상증발(vapor evaporation),

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15

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  [재료공학실험] 진공과 pvd, cvd

  반응성 이온프로이팅 가운데서도 각종의 원리가 있고 HCD(Hollow Cathode Discharge)법, EB(Electron Beam)법 등을 들 수 있다. ... 진공관 제작, CRT(cathode ray tube), 이온주입(ion implantation), 증착(evaporation), 전자현미 경 등이 이 영역의 진공대에서 운용되고 있다 ... 증발 물질을 증발시키는 방법으로는 저항가열, 유도가열, 전자빔, 마그네트론, 반응성 증발, 아크방전등 여러 가지가 있으며, 일반적으로 증기상 증발 (vapor evaporation)

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15

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  [측정기기] 주사전자현미경

  편향각도는 전기적인 신호에 의하여 다양한 변화를 줄 수 있다.* 분해능: 대물렌즈로 주사선(electron beam)을 아주 작게 수렴시켜 표본의 표면에 초점을 맞추는 일이 중요하다 ... 완전히 탈수해야 한다.1 살아 있는 생물체를 관찰하기 어렵다 - 동영상 불가능2 진공을 위한 예비 시간이 필요하다.2) 2차전자의 발생과 전도성을 위한 탄소 진공증착(vacuum evaporating ... 부위에서 발생하는 2차 전자(secondary electrons)를 검출하여 이를 증폭함으로 심도(深度, depth)있는 화상(image)을 관찰할 수 있는 것이 그 특징이다.

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.02.13

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  [반도체] 스퍼터링

  ※sputter yield 특징① Sputter yield는 target 원소의 heat of evaporation에 의존하는데, heat of evaporation이증가하면 sputter ... 및 이온과 표면간의 상호 작용에 관한 많은 정보를 제공한다.② 전자 방출이온의 충돌로 인하여 고체의 표면에서 전자가 방출되는 경우이며, 이런 전자를 2차 전자(secondary electron ... Sputtering yields for Ni and Au versus incident angle of light ions (θ is the angle between the ion beam

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.08

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