"pdms 제작" 검색결과 101-120 / 125건

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  마이크로 채널

  특히 PDMS를 이용한 soft lithography는 값싸고 제작이 용이하여, 이를 이용한 마이크로 시스템의 제작이 활발하게 이루어지고 있다. ... Vacuum oven, pumpWafer 위에 PDMS를 부은 후 PDMS 속의 기포를 제거하는 장치로 이용된다. ... 기존에는 유리, 석영 또는 실리콘 등의 재료를 사용한 마이크로 시스템의 제작이 주로 이루어졌으나, 고가의 재료이면서 제작에 많은 시간이 필요하다는 단점으로 인하여, 다른 물질들에 대한

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.08

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  14E-beam_lithography_&_Imprint

  기판 표면에 찍어내는 전통적인 양각 인쇄법을 응용한 것으로 1970년대 초반 반도체 산업에서 처음 시도되었을 때는 표면의 오염과 결함 등의 문제점으로 실용화되지 못하였으나, 현재는 PDMS ... (참고: 나노사이즈의 패턴이 양각되어 있는 스탬프 제작을 위해서 일반적으로 electron-beam lithography와 건식에칭을 통해 만들어진다.) ... 10~100keV 의 높은 에너지를 갖는 전자 빔을 이용하여 집적회로 제작에 필요한 매우 미세하고 정밀한 패턴을 만드는 기술 0. 1㎛ 혹은 그 이하의 패턴의 생성 가능 높은 에너지의

  리포트 | 26페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  초발수 표면제작 기술(Lotus leaf effect)

  Top-down) AAO(Anodizing Aluminum Oxide) template PPT ( pentaerythritol propoxylate triacrylate ) 에 복제 , PDMS ... 초발수 표면제작 기술 SuperhydrophobicContents 1. 서론 2. 기술의 원리 초발수 접촉각 이론 소수성 물질 코팅 3. ... 초소수성 표면 제조 하향식 방법 (Top-down) - 토란잎을 polystyrene 으로 복제 - dicing 을 이용하여 방향성이 있는 groove 형상의 구조물을 제작3.

  리포트 | 22페이지 | 5,700원 | 등록일 2011.05.06

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  Microfluidics

  성장시키면 세포의 생존에 중요한 영향 미침 이 결과 세포가 화학적 영향뿐만 아니라 기계 및 기타 다양한 외부의 자극에 영향 받는다는 연구 진행할 수 있는 계기 그림 (c): 단일세포를 PDMS ... channel 중앙 금 전극 사라짐 , 양단 전극부분 남음 이 원리 이용 전극의 Etching, 확산 일어나는 경계면에서 화학적 합성에 의해 금속 선을 micro channel 내에 제작 ... 방법으로 칩 제작 - 그림 (b) 의 세포처리공정에서 ‘Culture‘ 와 'Treatment' 를 동시에 해 줄 수 있는 기능 세포처리 공정 간소화 가능 간세포 , 줄기세포 ,

  리포트 | 20페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.06.03

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  나노 임프린트 리소그라피

  근래에는 미세한 패턴을 형성한 몰드를 수지(PDMS등) 표면에 열압연하는 방식에 의해 간단히 미세구조를 전사할 수 있는 나노임프린트 방법이 개발됨에 따라 종래의 하향식 미세가공방법으로는 ... 몰드로 찍어내는 형식이기 때문에 저렴하게 대량으로 패턴을 제작할 수 있는 장점이 있으나, 미세패턴제작은 보통 전자선 노광에 의한 리소그래피와 건식 에칭 또는 비등방성 습식에칭으로 이뤄지기 ... NIL기술의 발전과정○ 나노 임프린트 기술은 광 디스크제작에서 유용한 양각(Emboss)기술을 발전시켜 해상도를 향상시킨 기술이다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.11

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  의료용 고분자 PPT 발표 대본

  낮은 밀도의 사용하여 높은 경도를 가지도록 제작함으로서 내마모성이 높습니다. ... 사불화에틸렌을 단량체로 해서 자유라디칼 중합에 의해 제조합니다.PDMS(Polydimethylsiloxane)실리콘으로 알려진 폴리 디메틸실록산(Polydimethylsiloxane

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.07.16

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  Soft Lithography 와 그의 특징, 종류 및 장․단점,PDMS 물질의 장·단점

  채널의 제작 등에도 널리 사용되고 있다. ... 일단 PDMS 스탬프가 제작되어 지면 이를 이용하여 micro contact 인쇄를 사용하거나 micromolding을 사용하여 50nm 정도의 나노패턴을 생성시킬 수 있다.Soft ... Printing이 있으며, Molding 방식의 Transfer Printing, Near-Field Lithography 등이 있다.Soft Lithography는 마스터 패턴 제작이

  리포트 | 9페이지 | 2,500원 | 등록일 2007.02.21

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  Soft Lithography

  제작에 있어 매우 큰 영향을 미친다.일반적으로 MIMIC는 PDMS의 투명하고 화학적으로 안정하며 독성이 없는 특성으로 인해 주로 생체 연구 분야에서 미세 유로내의 세포나 단백질의 ... 재료를 경화시키고 mold를 제거하는 방법으로 micro pattern을 제작하는 방법이다. ... Printing이 있으며, Molding 방식의 Transfer Printing, Near-Field Lithography 등이 있다.Soft Lithography는 마스터 패턴 제작이

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.02.21

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  [기업시스템][기업][참여경영시스템][정보유출방지시스템]기업 참여경영시스템, 기업 정보유출방지시스템, 기업 인사시스템, 기업 전사적 자원관리시스템(ERP), 기업 생산시스템 분석

  Document Safer 특징1) KMS, EDMS, EIP, PDMS 등과의 연계 기능제공, 정보유출의 원천 방지2) 별도의 뷰어 설치와 조작이 필요 없는 사용의 편리성3) 다양한 ... 각종 동호회(스킨스쿠버, 볼링, 수영, 검도, 헬스, 영화 등)에 일정한 경비를 지원함은 물론 단합대회 및 행사기념품 제작의 비용도 회사에서 지원한다.③ 휴가제도 : 1년 개근 시

  리포트 | 23페이지 | 7,500원 | 등록일 2013.08.06

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  초발수 표면 제작 기술

  초발수 표면 제작 기술1. ... Anodizing Aluminum Oxide)을 template로 사용하여 초발수 표면을 형성한 연구도 많이 진행되었다. 57nm 크기의 구멍을 가지는 AAO의 형상을 UV잎의 표면, (b) PDMS로 ... 상향식 제작의 대표적인 방법은 자기조립방법으로 최소의 에너지를 가지는 안정한 구조를 가질 때까지 입자들이 자발적으로 조립되는 공정을 말한다.

  리포트 | 22페이지 | 4,700원 | 등록일 2011.05.07

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  자기조립 단분자막의 분석과 이해

  Atomic Force Microscopy(AFM) 관찰:1) Micro-contact Print(-CP)① μ-cp Stamp 제작? ... 실 험 방 법Micro-contact Print(-CP) Stamp 제작? UV surface Cleaning(Oxidation) of Si wafer? ... 제조 및 제어기술 발달과 이로 인해 생산된 nano product를 관찰할 수 있는 제반 기술이 개발, 발전해 나가야겠습니다.이번의-CP 실험을 통해 직접 미세한 pattern을 제작해보고

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.12.11

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  미세유동장치의 효율적인 제작방법

  또 낮은 가격의 센서를 제작함에 있어서도 마이크로 머시닝 기술이 필요하다.그림 3 포토 리소그래피 과정2.2 폴리머 기반 식각 방법현재까지 PDMS를 이용한 마이크로 구조물 성형방법에 ... 따라서 주조된 PDMS가 마스크가 모양대로 나오지 않고, 줄어드는 현상 일어난다.3. ... 있지만 센서 제작에 매우 용이하다.

  리포트 | 27페이지 | 5,000원 | 등록일 2007.03.01

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  바이오칩 기술개발동향

  예를 들어, 유리를 덮기 위한 양극 본딩은 고온과 높은 전압이 필요하며, PDMS와 같은 탄력소재 본딩은 100nm이하의 채널을 덮을 때 탄력 소재들의 고무 특성에 의해 채널이 부분적으로나 ... 대부분의 유체소자들은 실리카 기반의 반도체공정을 이용하여 제작되므로, 고가의 장비를 사용하고, 제작비용이 비싸, 많은 연구자, 특히 생물학자들의 접근이 용이하지 않다. ... 이러한 관점에서 CP나 NIL 기술이 유용하며, 특히NIL 기술은 마이크로 스케일부터 나노 스케일의 패턴을 제작할 수 있으며, 유체채널뿐만 아니라, 여러 형태의 전극이나 접촉점을 제작할

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.24

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  [재료공정] 소프트 리소그라피

  PDMS mold의 제작을 위해서는 우선 Photolithography나 다른 방법을 통하여 제작된 원형이 필요하다. ... PDMS Mold그림 . PDMS 제작 공정- 여러 종류의 Soft Lithography에서 공통적으로 쓰이는 Elastomer mold는 일반적으로 PDMS로 만들어진다. ... Microcontact Printing의 기본 공정은 위와 같은 방식으로 원형 표면의 micropattern 형상과 동일한 유연성 mold를 제작하고 이 PDMS mold 표면에 SAM

  리포트 | 3페이지 | 무료 | 등록일 2005.04.01

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  [나노공학, 생명공학]나노(Nano) technology

  ->reservoir(5㎛depth)의 negativemaster로 이용됨.② Micromolding 기술을 이용하여 PDMS slab을 생성한다.- PDMS를 master에 붓고 ... 80℃에서 24시간동안 처리한다.- 만들어진 PDMS slab을 master에서 떼어낸다.③ Platinum 전극을 갖는 glass substrate를 준비하고 그 위에 PDMS로 ... Micropatterning Fluid Lipid Bilayers on Solid Supports]① Photolithography 기술을 이용해 다양한 구성의 barriers를 제작한다

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.12.22

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  oled

  제안된 아이디어 구현 및 사업화 방안 제시첫째로, 유리기판 공기 층 전반사 현상을 줄이기 위한 마이크로 렌즈 어레이 구조를 설계하고 포토레지스트의 reflow 현상과 PDMS 임프린팅 ... 되며 면광원의 형태로 제작할 수 있기 때문에 형광등을 대체할 조명으로 사용 가능성이 아주 높다. ... 공정을 이용하여 렌즈구조를 OLED 소자의 표면에 제작하였다두 번째 ITO-유기층 도파모드로 갇히는굴절률 차이가 0.5 정도에 이르게 되어 전반사를 일으키는 임계각이 41.9도가

  리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2009.10.15

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  e-beam lithography

  제약 속도 1~10μm/sCantilever를 이용한 증착DPN 증착 결과자기조립단분자막E-Beam Lithography(1/5)E-beam lithography Photomask 제작 ... Diffraction Photosensitive material에 사용이 제한됨 UV light 사용Lithography의 응용(3/4)Soft Lithography Elastomer(ex:PDMS

  리포트 | 19페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.06.25

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  [생물화학] Advancements in DNA Biotechnology

  d)PDMS moldinge) peeling from si wafer f)bounding with PDMS◊ Lab-on-a-chip 제작 방법Ⅱ: Laser Micromaching ... .◊ Lab-on-a-chip 제작 방법Ⅰ:PDMS Moldinga) SV-ξ coating on si wafer b)UV light exposingc) SV-ξ developing

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.15

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  photo resist

  out-gasing 의 최소화4) 157 nm 포토레지스트용 고분자- 실록산 (siloxane) 이나 불소 (fluoride) 치환 유기 고분자가 유망하다.① 실록산계고분자.ㄱ) PDMS ... 음성형 감광막의 해상도 한계는 4μm 정도이므로 3μm 이하의 해상도를 필요로 하는 초고집적회로 제작에는 해상도가 우수한 양성형 감광막을 사용하고 있으나, 산화막과의 밀착성이 나쁘고 ... 최초의 고분자이며 또한 그 동안의 팽윤 문제를 해결한 점에선 다시금현재까진 최상의 위치를 점하고 있다.--> 하지만 실제 반도체 공정에 적용시키기엔 턱없는 수준MASK집적 회로 제작에

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.07

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  [기계공학]노광기

  스템프(PDMS사용)에 분자 하나 크기의 막을 형성시키는 특징이 있으며 이러한 스템프로 찍으면 분자층이 자동으로 substrate에 전사가 된다.그러나 너무 압력을 가할시에는 벌어지고 ... [프로젝트 5]CPU 메모리등의 고집적 초미세 반도체 제조공정에서 중요한 노광기 제작에 요구되는 필수적인 기술에 대하여 조사하고 노광기의 동작원리와 7세대 LCD제작에 사용할 수 있는 ... EUVL의 단점① EUV 시스템에 들어가는 거울(Mirror)을 제작하기 어렵다.- 무결함 표면이 필요하고, 허용 오차가 매우 작다.② EUV 용 마스크 제작이 매우 어렵다.- 무결함

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.05.26

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