"식각" 검색결과 121-140 / 1,531건

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  반도체 8대 공정(전공정, 후공정)의 이해

  국내 대표 습식용 식각액 업체는 솔브레인이다. 불산(HF), 불산계 BOE(완충 산화물 식각) 용액뿐 아니라 HSN, 인산계 식각액을 생산하고 있다. ... 또 다른 식각액 H2O2(과산화수소)를 공급하는 대표적인 업체는 한 솔케미칼이다. ... )를 선택적으로 제거하기도 하는데, 이때 HSN(고선택비 인산계 식각액)이 사용된다.

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2024.01.14

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  삼성전자 파운드리 공정기술 직무면접 준비자료

  RF전원으로 증착-dry 식각-증착-dry 식각을 반복하는데, 증착 후 dry 식각 시 평평한 수평면, 수직면 말고 비스듬한 면이 식각되서 step coverage가 존나좋음. void ... (시간 분의 깎인 두께)+)Etch Selectivity원치 않는 부분의 식각 속도 분의 원하는 부분의 식각 속도+)Uniformity식각 속도가 웨이퍼 상에서 얼마나 균일하게 나타나는지 ... 생산성 향상을 위해 식각 속도를 빠르게 하는 것이 좋음.

  자기소개서 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.09.07

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  [2021년 하반기 SK하이닉스 합격자소서] 수시채용 양산기술직무 합격 자기소개서입니다.

  반도체 8대 공정(식각 공정 심화), 분석장비에 대한 전문지식 함양외부 공정 교육 및 기기분석 수업을 통하여 식각 공정에 대한 심화 지식 및 분석 장비에 대한 역량을 길렀습니다. ... 전자정보 재료 및 소자 수업에서 반도체 8대 공정에 대한 전문 지식을 쌓았으며 NCS 식각 공정 교육을 수강하며 식각 공정에 대한 역량 및 플라즈마, 진공에 대한 지식을 갖추었습니다 ... 특히, 공정압력 증가에 따라 점차 식각 Etch Profile의 Vertical함이 줄어드는 현상을 발견하였습니다.

  자기소개서 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.10.11

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  반도체 공정 실습보고서

  물질을 제거하는 단계이다.습식 방식에 따라 습식식각과 건식식각으로 나누어 진다(물리적 식각, 화학적 식각)** Plasma Etching : 높은 비등방성 특징과 높은 선택도, 낮은 ... 사진 식각 공정▷ 사진 식각 공정의 목적: “소자의 패턴을 형성하기 위함”▷ 사진 식각 공정의 소개PR의 특성과 종류PR은 Photo Resist의 약자로, PR의 노광된 부분은 그 ... 식각 공정의 용이성 소자가 작아 질수록 식각 난이도가 상승하기 때문이다.3. 저온 공정 공정이 이루어 질 때 금속 주변 소자 파괴가 일어나지 않는다.4.

  리포트 | 15페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.10.07

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  8대공정 요약

  이동합니다.4) 식각공정식각은 웨이퍼 위에 형성된 박막을 일부 혹은 전부를 깎아 내려가는 공정입니다. ... 산화막은 회로간 누설전류를 차단하며, diffusion barrier와 식각방지막 역할을 합니다. ... 8대공정은 웨이퍼제조,산화,포토,식각,증착및이온주입,금속배선,EDS,패키징공정으로 나눌수있습니다.1) 웨이퍼 제조반도체 집적회로는 웨이퍼라는 얇은 기판 위에 다수의 회로가 만들어집니다

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.11

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  [2019최신 공업화학실험] 패터닝 결과보고서

  물리적 식각과 화학적 식각이 시너지 효과를 냄으로써 식각 속도가 증가하게 된다. ... 웨이퍼를 식각하는 물질이 많아졌으므로 웨이퍼의 식각 깊이는 깊어지고, 따라서 식각 속도 또한하는 현상이 일어나기도 한다. ... 식각 속도를 증가시킨다.

  리포트 | 15페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.01.31 | 수정일 2020.02.10

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  인하대 패터닝 결과보고서

  전 PR, 식각 후 식각된 박막, 그리고 남아있는 Photoresist의 두께를 측정하여 PR과 산화막의 식각 속도를 계산한다. ... 결과 이론Gas flow rate식각 가스로 C2F6/Ar을 사용한 경우 C2F6의 농도가 증가함에 따라 식각 속도도 증가하다가 40% ~60%에서 최대 식각 속도를 갖게 된다. ... 특히 식각 공정의 경우 물질이 식각에 의해 제거되면 실수를 바로 잡기 어려워지며, 이러한 웨이퍼는 대부분 조각이 나버린다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.15

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  중국 반도체 장비 업체 현황

  ( 에칭 ) 장비 , 웨이퍼 코팅 장비 등을 대량 수입 중 . ’23 년 10 월 미국은 중국수출제한 품목으로 ‘ 식각 , 노광 , 증착 , 세정 등 ’ 12 개 카테고리를 금지 ... 항목 에 추가하면서 , 중국 식각 / 세정 장비 업체인 [ 베이팡화창과기집단 ], [ 셩메이반도체설비 ], [ 상하이쯔춘과기 ] 회사의 내수 장비 생산을 더 가속화 중 .02 중국 ... 네델란드에서 수입 ’23 년 7 월 까지 약 6 조 6,000 억원 수입 ( 작년 대비 70% 이상 증가 ) 중국은 세계 최대 노광장비 업체인 ASML 의 스캐너와 , 일본 업체의 식각

  리포트 | 14페이지 | 7,000원 | 등록일 2023.11.06

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  OLED 서플라이체인

  OLED 서플라이 체인TFT BackplaneSDC세정이온주입p-Si 결정화증착노광식각열처리검사Wet/Dry CleanerIon ImplanterELAPECVDScannerDry EtcherActivationAOI세메스ULVACAP ... Tester이루자ULVACKashiyamaCTSOrbotech이루자Asher솔브레인ENG아이씨디RepairYAC참엔지니어링Wet EtcherDC Tester세메스양전자Stripper세메스TFT BackplaneLGD세정이온주입p-Si 결정화증착노광식각열처리검사Wet

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.05.22

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  반도체, 리소그래피 간단요약

  식각(Etching) : 노광 과정 후 원하는 부위만 선택적으로 제거시키는 공정 ... 뒤이은 이온주입 및 식각 공정을 위해 웨이퍼 상에 회로구조를 광학적으로 인쇄하는 것이다. ... 웨이퍼 표면으로 옮기는 작업을 거친다.5.감광막에 빛을 조사하여 패턴이 형성되도록 과정을 거치고 원하는 패턴이 형성된 마스크를 기판과 배열하고 빛을 조사한다.6.세척제를 이용하여 식각

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.01.11

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  기계공학실험-금속재료실험

  식각폴리싱 작업이 끝난 시편을 부식액(에탄올 95 : 질산5) 용액에 약 20초 동안 부식시켜준다(이때 과에칭되어 폴리싱을 다시 하지 않도록 주의한다).부식시킨 시편을 물로 깨끗이

  리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.03.21

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  A+ 박막의 패터닝 실험 예비보고서

  마지막으로 웨이퍼 표면위에 남은 PR 층에 따라 도핑 공정이나 식각 공정을 통해 원하는 부분을 식각한다.D) 식각(etching)의 종류와 정의 (식각 장비의 종류와 원리를 중점적으로 ... 전 PR, 식각 후 식각 된 박막, 그리고 남아 있는 PR의 두께를 측정하여 PR 과 산화막의 식각 속도를 계산한다.5. ... 이러한 공정 가운데 중요한 공정은 박막의 식각공정으로, 마스크로 패턴된 박막을 효과적으로 식각하는 것이다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.01.27

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  [2019 A+ 인하대 공업화학실험] 패터닝 예비보고서 공화실 예보

  건식 삭각 장치는 다음과 같이 분류할 수 있다.플라즈마 식각 장치원통형 플라즈마 식각 장치방전 영역-식각 영역 분리방전 영역-식각 영역 비분리평행 평판형 플라즈마 식각 장치발생 영역 ... 이 산화막을 관찰 후 식각 속도와 식각 선택도를 계산해본다.실험 이론플라즈마 (Plasma) 란? ... 패터닝된 산화막을 관찰하고, 식각 실험을 한다. 식각된 산화막을 관찰하고 마스크 패턴을 제거한다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.13

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  학점A+받는 영남이공대학 전자계열 마이크로컴퓨터 [반도체 공정과정]

  ●반도체의 제조 공정과정은 크게 9가지로 나눠집니다.회로 설계 → 마스크 제작 → 노광 → 식각 → 확산 → 박막 → 세정과 연마 →조립 → 시험으로 나뉠 수 있습니다. ... 식각과정을 거쳐 만들어진 고온 열 공정에 의한 불순물의 확산과 박막을 구성하는 원소를 함유한 가스를 일정한 온도와 압력으로 기판 표면에 공급하여 양질의 박막을 증착하는 공정입니다.? ... Etch (식각공정) : 웨이퍼에 그려진 패턴을 정밀하게 완성하는 과정입니다.노광공정을 거친 웨이퍼에서 불필요한 부분의 판막을 물리적, 화학적 방법을 이용해 선택적으로 제거해 나감으로서

  리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.11.01 | 수정일 2020.11.02

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  LG 이노텍 산학장학생 지원

  현재 식각 속도를 조절하여 최대 1 : 20의 종횡비를 가진 다공성 몰드 제작 조건과 분당 식각 속도와 등방성 식각 거동비 데이터를 확보하여 최근 SCI 논문으로 승인되었습니다. ... LG 이노텍의 선도적인 기술력으로 다시 한번 성공 신화를 만들어 낼 것이라 확신합니다.박사 학위과정 중 마이크로-나노 패터닝을 주요 연구주제로 고분자 물성 제어 및 건, 습식 식각을 ... 박사과정 중에 확보한 식각 조건과 다양한 고분자의 물성 데이터는 다양한 AI 공정 구축과 기술 변화에 최적화된 설계 방향을 유도하여 향상된 효율과 생산수율에 이바지할 것으로 예상됩니다

  자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2021.10.06 | 수정일 2022.01.26

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  ESC(정전척) 시장조사, 시장조사 ppt, 시장조사 발표자료

  ) 로 식각할 때 유리 기판 지지 용 / 건식식각 장비의 핵심 부품 Electro Static Chuck 소개ESC( 하부전극 ) SIZE Electro Static Chuck 소개 ... 처리 장치 내부에서 기판 지지 용 / 제품에 따라 무 Sealing 제품 존재 LCD, OLED 용 ESC( 하부전극 ) 유리기판 위 회로 설계된 부분 외 DryEtcher ( 건식식각장비 ... 2 Repair 3 4 영업가능 고객사 5 About E letro S tatic C huck ESC 소개 1 개선 과제 6ESC( 반도체 ) Repair Plasma 및 건식 식각

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.11.01

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  반도체 공정 (간단 정리)

  식각회로패턴 형성 위해 불필요한 부분 깎음11.

  시험자료 | 1페이지 | 1,500원 | 등록일 2021.05.26

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  반도체 8대 공정 제조기술 및 프로세스에 대한 자료

  반도체 8 대 제조 공정 - 반도체 제조의 8 대 공정도 순서 Wafer 제조 공정 Oxidation 산화공정 Photo Lithography 공정 Etching 식각 공정 Deposition

  리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.12.09 | 수정일 2021.12.13

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  국내 기업중 한 회사를 선정하여 간략한 회사소개 후, 해당 기업을 마이클 포터의 5팩터 경쟁요인에 적용하여 경쟁력을 분석하시오.

  대표적인 중국 반도체장비 회사로는 AMEC가 있는데 식각장비를 개발하고 있고 이는 테스사의 GPE에 경쟁이 될 수 있다. ... 뿐만 아니라 테스는 2010년도에 외국회사가 주를 이룬 식각 장비 시장에 가스 방식의 Dry Etcher(GPE) 장비를 개발하여 진입하였으며, 장비 성능의 차별화를 위해 2012년

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.10 | 수정일 2023.01.17

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  [A+]기계공학실험-금속 조직 및 경도실험 레포트 (인천대학교)

  -식각(Polishing 과정을 끝낸 시편을 현미경으로 바로 관찰하면 아무런 미세조직도 관찰할 수 없다. ... 따라서 식각이라는 화학적 과정을 통해 표면을 차별침식시켜 결정립계, 미세조직, 석출물을 관찰가능하게 한다.)질산이 5%정도 혼합된 에탄올 용액을 준비한다.

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.10.13 | 수정일 2023.04.05

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