"플라즈마특성" 검색결과 141-160 / 3,276건

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  중앙대학교 일반대학원 융합공학부 학업계획서

  구조 연구, 이온 주입 및 후속 나노초 레이저 어닐링을 통한 초고도로 B 도핑된 Si1-xGex의 화학적 상태 및 전기적 활성화 평가 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한 중공음극플라즈마 ... 복합체에 대한 충격을 이용한 UV 펜톤 유사 반응에 의한 메틸 오렌지의 신속한 제거 연구, 가장자리 할로겐화 그래핀 나노판을 상대 전극으로 사용하는 고성능 염료 감응형 태양전지 연구, 플라즈마 ... 양자역학/양자화학 기반 제일원리 계산 연구, MgCrMnO4에서 전자빔에 의한 상전이 직접 관찰 연구, 황 도핑 공정을 통한 산소 환원 반응용 Fe-NSC 촉매의 전자적, 물리적 특성

  자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.04.30

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  유기소재실험2_고분자_표면개질_접촉각

  실험목적PET film의 Plasma 처리 시간에 따른 접촉각 변화 관찰2. 실험기기 및 시약pet film, 테이프, 접촉각 측정기3. ... 이들 관능기들은 표면에 보다 좋은 점착성, 젖음성, 생체 적합성 또는 불활성 특성을 부여한다.산소(O2)고분자 개질세정, 탈지 및 친수화탄화수소(에틸렌, 에탄,아세틸렌, 메탄)중합수소 ... 이론 및 배경1) 플라즈마를 통한 고분자 필름 표면개질의 원리플라즈마 상태에 놓인 높은 에너지를 가진 입자가 어떤 재료의 표면에 충돌하는 경우 그 에너지는 충돌되는 재료의 표면에 전달

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.09.08

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  성균관대학교 일반대학원 반도체융합공학과 학업계획서

  하드웨어 효율적인 에뮬레이션 연구, 그리드 셀의 저차원 연속 어트랙터 역학에 대한 구체적인 증거 연구, 유기금속 기상 에피택시를 통해 성장한 GaN 피라미드 어레이의 전자 방출 특성 ... 자신의 학문적 지향저는 ZnO-SnO2 투명박막트랜지스터의 동작에 미치는 게이트 절연층의 영향 연구, 균일 플라즈마 내 따뜻한 유체 파동에 대한 명시적 분산 관계 연구, 전사 가능한 ... 하이브리드 복합 전극 연구, 고정밀 뉴로모픽 컴퓨팅을 위한 Ru 이온 운동의 조절을 통해 구현되는 저에너지 및 아날로그 멤리스터 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한 미세 크기의 고주파 플라즈마

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.02.27

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  삼성전자 메모리사업부 공정기술 합격 자기소개서

  또한 각 공정별 중요한 특성에 대해 배우고 장비에서 파라미터를 변화시켜 이에 따른 웨이퍼의 특성변화를 분석장비를 통해 측정할 수 있었습니다. 1마지막으로 가장 큰 영향을 끼친 사건은 ... 이 경험을 통해 얻은 파라미터 변화에 따른 웨이퍼특성변화는 공정에서 발생하는 물리적/화학적 특성을 분석하고 개선하는데 도움이 될 것입니다.네 번째로 6시그마 그린벨트의 DMAIC를 ... 그리고 진공,플라즈마를 사용하는 Dry Etch와 고집적화 etch에 필요한 ALE에 대해 공부할 수 있었습니다.

  자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.09

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  [고분자재료실험] ITO scribing & cleaning 결과레포트 (만점)

  ITO의 Coating이 표면 균일도나 유기층과의 접촉특성이 소자의 발광 특성에 커다란 영향을 미치게 된다.ITO 유리기판에 묻어있는 유분이나 particle을 제거하기 위하여 ITO ... 플라즈마 상태의 결과물을 의미한다. ... 토의 사항1) RF Plasma와 UVO Cleaner의 기판 세정 원리에 대해서 토의해보자.RF plasma란 교류 전압을 이용하여 기체에 전기 에너지를 넣어 가스를 이온화 시킨

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  숭실대 신소재공학실험1) 14주차 고분자 디바이스 예비보고서

  향상, 열화 방지 등 사용되는 용도에 따라서 다양화 작업이 가능하다.Etching은 산, 알칼리 및 산화제 등으로 표면의 이물질을 제거하거나, 표면을 화학적으로 변화시켜 화학적 특성으로 ... Ar 플라즈마는 산화 방지 능력 및 다양한 소재에 광범위한 가용성으로 인해 전처리 및 표면처리 세정에 사용되는 가장 일반적인 유형의 플라즈마 방식이다.3) Spin coating의 ... 건식은 원하는 부분만 에칭하기 때문에 미세 회로 구현에 유리한 반면, 고 비용과 복잡한 공정, 속도가 느리다는 단점이 있다.플라즈마 처리법은 전기 전도성을 가진 이온화된 기체 에너지로써

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2024.04.29

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  한양대학교 일반대학원 신소재공학부 학업계획서

  연구, 흑연 기판을 박리하여 제작한 유연하고 투명한 그래핀-ZnO 나노막대 하이브리드 구조 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한 스파크 플라즈마 소결 및 열간 등압 성형에 의한 W-La2O3 ... 마그네슘열 반응을 통한 순수 마그네슘의 크리프 저항성 향상 연구, 고성능 박막 트랜지스터를 위한 용액 공정 비정질 카드뮴 갈륨 산화물의 최적화 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한 스파크 플라즈마 ... 전도성 전극을 이용한 Kesterite 박막 태양전지의 장기 안정성 향상 연구, 화학적 환원을 통해 합성된 서브미크론 Sn 분말을 포함하는 솔더 페이스트의 준비 및 리플로우 솔더링 특성

  자기소개서 | 2페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.04.23

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  숭실대 고분자 디바이스 예비레포트

  reduced GO, RGO)물질이다.그래핀(graphene)은 탄소 원자들이 sp2 결합으로 벌집모양의 배열을 이루면서 원자 한 층의 두께를 가지는 전도성 물질로서, 열적, 기계적 특성 ... 통상적으로 플라즈마를 발생시키는 방식(공정압력)에 따라 상압 플라즈마와 저압 플라즈마로 분류한다. ... 하지만 공정 균일도 및 플라즈마의 제어가 용이치 않으며, 저압 플라즈마에 비해 외부 환경 및 날씨 등에 영향을 받아 공정 결과가 변할 가능성이 있다.

  리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.05.17

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  저온 플라즈마 기술, 식품 기술 관련 ppt

  식품 재료의 기능성 수정 전분의 분자 구성 변화 Cold Plasma 용해도 효소 감수성 점도 단백질 함량 증가 조리 시간 단축 조리 특성 향상2-3. ... Universe” , 『 한국진공학회 』 진윤식 (2019), “ 플라즈마 활성수 (PAW) 기술” , 『 한국전기연구원 』 유 석 재 (2015), “ 플라즈마 기술의 농식품 분야 ... 플라즈마 기술의 최근 발전에 대한 고찰 : 현재의 응용과 미래 전망” , 『KOSEN 리포트 』 이해준 부산대학교 (2014), “Plasma, the First State of the

  리포트 | 29페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.06.30

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  디스플레이에 대해서

  즉 액체의 특성도 가지고 있고고체의 특성도 가지고 있는 액정(=Liquid Crystal)을 의미합니다. ... Display Panel )PDP는 Plasma에 의해 발생된 자외선이 형광체를 발광시켜 영상을 표시하 는 평판 디스플레이의 일종이다. ... 소재디스플레이디스플레이(display)란 Displico/Displicare에서 기원된 단어로 보이다,펼치다 라는 뜻이다.디스플레이의 역사CRT(Cathode Ray Tube)→PDP(Plasma

  리포트 | 6페이지 | 6,000원 | 등록일 2023.05.30

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  SK플라즈마 QA합격 자소서

  시간제약이 있는 학부 실험의 특성상 이 과정에서 할애되는 시간이 상당히 부담스러웠고 ‘시간을 단축시킬 수 있는 방법이 없을까’ 하는 생각을 하게 되었습니다.실험 보고서를 작성 중에, ... 저는 철저하고 치밀한 준비의식과 두려움에 당당히 맞서는 사고방식으로, SK플라즈마의 도전에 든든한 발판이 되는 일꾼이 되겠습니다. ... 저는 그 목표와 함께, SK플라즈마가 혈액제제 시장의 으뜸이 되는 것을 제 Goal로 삼고, 그것을 전력으로 때려보고 싶습니다.

  자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.07

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  기판 건식, 습식 클리닝 공정 정리

  Plasma 클리닝플라즈마 세정은 플라즈마를 이용하여 표면에 존재하는 오염물을 제거하는 것을 말하며 화학적인 방법과 물리적인 방법으로 나눌 수 있다. ... [그림 6] 화학적 플라즈마 세정 원리[그림 7] 양극성 펄스 전원에 의한 물리적 플라즈마 세정 원리플라즈마 ayer ... 반도체 소자 제조 공정에서 생기는 오염물들은 결과물의 구조적인 형상을 왜곡시키거나 전기적 특성을 저하시켜 성능과 신뢰성, 수율 측면에 큰 영향을 끼친다.

  리포트 | 9페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.11.12

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  Transparent Display에 적용될 수 있는 다양한 기술 논문 정리(한글)

  가장 현저하게 관찰되는 것은 플라즈마 없이 제조된 샘플의 전달 특성에서 약 10V의 매우 두드러진 히스테리시스의 발생이다. ... 증착 동안 플라즈마의 사용에 본질적으로 영향을 받지 않는다. ... 특히, 이러한 재료의 플라즈마 보조 펄스 레이저 증착의 기술적인 측면과 재료적인 측면에 대해서 알아볼 것이다.

  리포트 | 12페이지 | 3,900원 | 등록일 2021.11.08

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  오염된 지하수와 토양의 정화방법

  기법고온에서 기체가 에너지를 얻으면 고도로 이온화된 기체로 변하는 것을 플라즈마(Plasma)라고 하며, 최근에는 지반의 개량, 오염지층의 정화, 폐기물의 처리에 플라즈마 기술이 ... □ 오염된 지하수와 토양의 정화방법지하수와 토양은 오염물질에 노출될 경우 비가시적이며 복잡다양한 구조를 가지는 지하 특성 때문에 오염범위 및 오염 정도에 대한 관측과 오염물질의 거동예측이 ... 또한 플라즈마는 생성과정에서 전기적 작용에 의해 전광의 형태로 발생되기 때문에 플라즈마 기술을 사용하여 쓰레기나 오염된 물질은 소멸되고 이들의 최초 구성성분으로 전환시킨다.

  리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.08.08

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  [물리화학실험] 은 나노입자 합성 및 광특성 분석

  (Plasma)1928년 미국의 물리학자 어빙 랭뮈어(Irving Langmuir)는 플라즈마를i) 하전입자들의 밀도가 충분히 높아 집단적 행동(collective behavior) ... 이때 물질의 밀도가 충분히 높아 i)과 ii)의 특성을 만족하면 플라즈마 상태가 된다. ... 플라즈마의 물리적 특성은 다른 상태들과는 확연하게 구분되므로 물질의 4번째 상태라고도 불린다.

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.12.31

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  반도체 박막 증착 공정의 분류 보고서 (3P)

  7) 전기적 특성검사(EDS 공정) -8) 패키징 공정으로 분류되어 있다. ... 그 중 특히 이번 보고서를 통해 반도체를 구성하는 미세한(1μm 이하의 단위) 크기의 Layer를 형성과 천연 상태의 부도체 Si 웨이퍼에 전기적 특성을 갖도록 유도하기 위한 증착( ... 계속해서 HDPCVD 공정은 앞선 PECVD 공정의 단점을 plasma 농도 향상으로 극복하기 위해 개발된 공법으로 magnetic coil 활용해 plasma의 농도를 1% 수준으로

  리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.03.14

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  5주차_Stomatal opening

  이러한 특성으로 인해 다습한 환경에서 식물은 ABA level을 낮게하여 stomatal opening이 효율적으로 일어나게 한다. ... Plasma membrane의 K+ efflux channel은 voltage변화에 의해 개폐 상태가 변화하는 voltage gated channel이며, plasma membrane이 ... ABA는 또한 plasma membrane의 H+-ATPase를 억제해 depolarization을 더 강하게 일으킨다.

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.11.15

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  ITO Scribing & Cleaning 예비

  RF Plasma와 UVO Cleaner의 기판 세정 원리에 대해 알아본다.RF plasma란 교류 전압을 이용하여 기체에 전기 에너지를 넣어 가스를 이온화 시킨 플라즈마 상태의 결과물을 ... 세정 공정이 끝난 후 마지막으로 ITO 양극전극의 표면특성을 향상시키기 위해 plasma 처리를 하게 되는데 이 과정은 UV ozone cleaning과 마찬가지로 Ar 또는 산소 ... gas를 공급하면서 chamber내 진공을 2～3×10-1 torr로 유지하여 RF generator에 의해 plasma를 발생시키고 이 때 발생한 plasma는 ITO 표면을 식각하여

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16

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  컴퓨터의이해1공통 슈퍼컴퓨터 메타버스가 이용되는 사례를 하나만 선택하여 반도체 기억장치의 발달과정에 대하여 설명하라0K

  하지만 초고속의 대용량 슈퍼컴퓨터의 손을 빌린다면, 수만 가지 요소를 빠르게 가늠해 플라즈마 특성에 대해 보다 정확하게 파악할 수 있습니다. ... 핵융합 연구에서는 복잡한 플라즈마의 움직임을 이해하고 불안정성을 제어할 수 있는 규칙성을 찾아내는 것이 상용화를 위한 핵심 난제인 셈인데, 플라즈마 입자는 자그마치 100억 개라는 ... 이처럼 플라즈마에 대한 이해를 높여, 핵융합 상용화 난제를 해결하는데 슈퍼컴퓨터의 역할은 점점 더 커지고 있다.2) 메타버스가 이용되는 사례를 하나만 선택하여 설명하라.메타버스는 그리스어로

  방송통신대 | 8페이지 | 7,000원 | 등록일 2023.03.02

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  Patterning and treatment of SiO2 thin films 예비보고서 A+

  플라즈마중의 양이온이 플라즈마 sheath에 의해 가속됩니다. Planar 방식보다 비등방성식각 특성을 향상시킨 구조를 가집니다. 이는 낮은 플라즈마 밀도를 지니고 있습니다. ... (Plasma) 란? ... 구조는 크게 반응조와 세정조로 구성되어 있습니다.건식식각: 건식식각은 플라즈마상태를 이용하여 깎아내는 방식으로 건식식각에는 크게 3가지종류가 있는데, high pressure plasma

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.01.02

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