"AR coating" 검색결과 141-160 / 464건

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  물질과 충돌시켜 플라즈마를 생성시킨 후 이를 substrate(기판)에 코팅시키는 방법이다. ... 일반적으로 사용되는 sputtering 가스는 불활성 가스인 Ar을 사용한다. sputter장치의 시스템은 target쪽을 음극(cathod)으로 하고 substrate쪽을 양극(anode ... 전원을 인가하면 주입된 sputtering 가스(Ar)는 음극쪽에서 방출된 전자와 충돌하여 여기(exite)되어 Ar+로 되고 이 여기된 가스는 음극인 target 쪽으로 끌려서 충돌한다

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  MOS 소자 형성 및 C-V특성 평가

  진공 chamber에 있는 여러 원소들(N2, O2, Ar, Ne)을 진공펌프로 제거하고 Ar을 주입시켜 chamber안에 Ar만 존재할수 있게 한다. ... 이때 스핀코팅을 하여 두께가 일정하게 코팅을 시킨다. 그리고 Soft-bake를 한다. Soft-bake로 잔여 solvent를 제거한다. ... 충돌후 떨어지는 Pt찌꺼기가 산화막층 위에 코팅을 하게 된다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.12.20

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  [공학]SEM sample 제작법

  machine을 사용하여 coating인다. ... 일정한 두께로 coating이 되도록 해준다. ... 얇은 금속막으로 coating하는데 가장 많이 사용되는 방법은 plasmasputtering 혹은 sputter coating procedure라고 불리우는 방법이다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.04.27

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  MOS 소자 형성 및 CV 특성 평가

  이 떄 photo mask는 반대쪽에 Cr코팅이 되어 있다. ... , Ne이 나오고 전자들만 떠있게 된다.(2) Ar을 주입하여 일정한 압력을 유지해준다.(3) gun에 강한 (-)전하를 가해준다.(4) -는 아래로 Ar+는 위로 움직이고 Pt가 ... 이러한 상태가 전기적으로 중성을 띄는 플라즈마 상태이다.플라즈마를 이용하면 인공 다이아몬드를 합성할 수 있고, 고대 유적지에서 발굴된 금속유물에 플라즈마로 표면 코팅처리를 하면 마모나

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12

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  GMP 실험실에 대해 자세히 알아보기

  S.A, R.AR.A의 풀네임은 Return Air로 각 실에서 공기 조화 장치로 되돌리는 공기입니다. ... 바닥재질, 창문구조, 모서리바닥재질은 작업공정의 특성상 먼지가 비산되는 작업실의 바닥은 먼지의 비산을 방지하기 위하여 가급적 에폭시, 코팅, 우레탄 등의 재질을 사용하는 것이 좋습니다 ... GMP 실험실의 전기공급 장치는 60cm 정도 떨어져 있어서 원칙에 어긋나지만 덮개를 씌워 약식으로 인정되었습니다.8.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.20

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  Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  이 성질을 이용 시 Plasma density를 조절할 수 있다.① Sputtering의 원리sputtering은 진공도가 일정수준에 이르면 진공 chamber내로 불활성기체 (Ar ... 충돌해서 ionization시켜서 Ar+를 만들거나 Ar* 을 만들고 Ar* 이 ground state로 떨어지면서 빛을 낸다. ... 이러한 경우 sputter 초기부터 target 뒷면의 영구자석을 회전 크다. - 구성이 간단하다.- 성이 복잡한 것도 적용시킬 수 있어 타깃재료성분 그대로 스퍼터 코팅이 된다.-

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.04.03

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  Low E 유리

  동시에 자외선을 차단하기 때문에 실내의 가구나 카펫의 변색을 줄일 수 있다.Low E 유리는 저 방사 코팅(low-emissivity coating)법을 이용하여 유리의 표면에 아주 ... 대신 드로바라는 내화물을 녹은 유리 속의 일정한 깊이에 잠기게 하여 그 위로 유리를 끌어올리는 방법이다.② 콜번법: 한 쌍의 수냉(水冷) 롤러를 이용해 녹은 유리를 끌어올려 약 60cm ... )4.003.703.373.203.102.903.102.90복층유리(Ar주입+Low-E)3.372.902.802.402.602.202.602.20단창6.606.105.305.30주)

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.12.08

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  이온플레팅

  plasma를 발생시키기 위해 불활성 기체(주로 Ar을 사용함)를 사용하므로 Ar이 모재에 충돌하면서 모재에 흡수되어 모재가 오염될 수 있다. ... 재료(cathode)에 충돌함으로써 coating 재료의 원자가 밖으로 튀어나와 이것이 모재에 증착되는 것을 말한다. ... 재료를 증발시킨 후, plasma내에서 coating 재료의 원자를 이온화시킨다.

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.07.02

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  반도체공학의 공정

  Photo(Photolithography)Photoresist coat (PR 코팅): PR coating이라 함은 분사된(dispense) liquid(액상) PR을 높은 회전수로 ... 가령 TiCl를 불활성의 Ar이나 He의 캐리어 가스로 반응용기에 보내어, 열분 해에 의해 Ti를 기판표면으로 석출시킨다.그 반응은 환원형은 캐리어가스와 환원성을 겸한 H가스를 이용해서 ... 이 반응에서 만들어진 TiC, TiN등의 코팅은 대단히 딱딱하고, 절소공구, 금형의 코팅에 이용된다.CVD에 있어서 반응온도의 저온화는 기판의 결정입자의 조대화, 처리품의 변형저감,

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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  sputtering

  불활성 기체가 매우 적은 양이라도 target이나 막에 침투하면 막의 성질에 좋지 않은 효과 발생 ex) hard coating 내부의 Ar - 막의 내부 응력을 증가시킨다? ... 다른 진공 코팅방법에 비하여 작업조절이 용이하고 Sputter cleaning으로 코팅층과 피처리물과의 접착성을 크게 증가시키는 장점이 있어 정밀한 피복층의 두께 및 조직의 조절이 ... sub-stoichiometric 막의 형성과 target의 오염을 피하기 위해 공정의 주의 깊은 조절이 필요(2) compound-coated cathode?

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

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  전자 주사 현미경 구조

  일반적으로 화학적으로 안정하여 부식시키기 어려운 세라믹과 같은 재질에 많이 이용되고 있으나, 금속재료의 경우에는 특수한 목적을 위해서만 제한적으로 사용되고 있다플라즈마의 원리 & 스퍼터 코팅의 ... )원자에 전자가 충돌하면서 아르곤 원자에 있던 전자 하나를 떼어내게 되며 그렇게 해서 Ar = Ar+ + e- 로 분리된 상태로 존재하게 된다. ... 전계(전기)를 중지하면 분리되어있던 Ar이 전자를 다시 받아드리면서 빛을 내고 원자 상태로 돌아가지만 전기를 계속 가해주기 때문에 이러한 반응이 연속적으로 이루어지게 된다.

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.29

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  (표준)오버레이용접 표준

  보호가스인 Ar은 토치의 중심으로 공급되어 전극과 용접금속을 보호하며, 분말의 공급에도 사용되므로 GTAW에 비하여 소모량이 많은 편이다.또한 넓은 면적을 오버레이할 경우 예열이 필요하며 ... 아니라 용접의 방식을 이용하는 것은 Stellite가 Galvanizing (Zn 도금)의 경우처럼녹는 점이 낮지도 않을 뿐더러 특히 코팅의 경우는 만들 수 있는 도막의 두께에 어느 ... 안감은 싼 재질로 만든 다음 표면을 용접으로 2~3겹 감싼 경우를 말하며 해양 공사의 경우 표면에는 주로 Stellite (Co에 Cr, Tu, Mo등을 섞은 합금)이 사용된다.코팅이

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.11.23

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  플라즈마(plasma)에 관하여, 정의, 의미..

  TiN 코팅을 위한 플라즈마 화학 증착의 온도는 500℃전후로 알려져 있으며 TiCl4/N2/H2 ,TiCl4/N2/H2Ar, TiCl4/NH3/H2Ar 등의 반응계를 이용하여 최근에 ... 예를 들어 피삭재로 S45C, depth of cut을 1.5 ∼10mm로 하였을 경우 다음과 같이 coated tool은 절삭속도 및 feed 의 범위를 크게 할 수 있다.? ... 이상과 같이 coated tool은 일반 tool에 비하여 절삭특성 및 절삭능률이 향상됨을 알 수 있다.

  리포트 | 47페이지 | 4,000원 | 등록일 2007.09.07 | 수정일 2014.07.01

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  AFM 실험결과보고서

  Ar 퍼징 : Ar 60sccm - 10min6. pre - sputtering : 타겟의 산화물이나 이물질 등을 날려버리기 위해 100W 정도로 플라즈마를 생성시킨다.7. ... 연구목적- 증착시간 변수에 따른 RF Sputtering system을 통한 TCO 기반 TiO2 박막 코팅을 실시함으로써 그 원리 및 작동방법을 이해하고, AFM 및 α - step ... -캔틸레버(cantilever)를 이용해야 한다.

  리포트 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.10.12

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  박막재료의 표면처리 및 PR 제거 결과

  -와 PR의 식각 속도 계산.① 결과PR의 두께 (a) :PR+박막의 두께 (b) :박막의 두께 (c) :식각 실행 시간 (d) :② 계산식각 속도6. ... Ar 플라즈마를 발생시켜 PR과 노출된 산화막층의 식각을 진행한다. ... Ar 플라즈마를 발생시켜 PR과 노출된 산화막층의 식각공정,플라즈마를 발생시켜 남은 PR 마스크 패턴을 제거하는 PR제거 공정을 하였다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.08.07

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  59스퍼터링02

  All Rights Reserved.Ar기체Source Target기 판플라즈마-+-++-스퍼터링 원리※ Ar기체를 쓰는이유 - 소스타겟과 반응성이 없어야 하므로SPUTTERING스퍼터링 ... equipotential state - Cathode에서의 potential drop이 가장 크다 - target을 때리는 이온을 가속시킨다 - Anode의 Potential drop이 존재하나 cathode에 ... 힘들다 (500ev, 1mA/Cm2이온빔의 경우 약 20Cm 크기의 코팅가능)SPUTTERING스퍼터링 종류(4/4)Ion-BeamCopyright Group 11.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  용접종류 원리 특성(tig, gmaw, saw)

  Manual Metal ArcStick 또는 MMA용접으로 알려진 또 하나의 용접의 가장 일반적인 형태이다한 전류 전극 사이의 유량과 코팅 금속에 합류해야하는 아크 형태로 사용된다.유량 ... 유량 후 용접의 위에 슬래그가 굳는다.평면 용접은 쉽지만 수직 용접은 숙련된 용접이 아니면 오버헤드를 할 수있습니다.수동 아크 용접에 사용되는 코팅된 금속은 Oscar Kjellberg에 ... 그리고, 탄산가스와 Ar가스가 혼합된 가스를 사용하는 것을 마그용접(Metal Active Gas, MAG)이라고 부르고 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.15

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  반도체 제조공정

  Wafer Epitaxial processing Oxidation Layering Photoresist coating Stepper exposure Pattern preparation ... 보호용가스로 불활성가스인 아르곤 ( Ar ), 헬륨 (He), 질소 (N2) 등을 주입한다 .반도체 공정가스 분 류 명 칭 화학식 목적 · 용도 분위기 가스 알곤 Ar 불활성분위기용 ... 운반기체로서 고순도 수소 (H2) 와 질소 (N2) 가 사용된다 □ 패시베이션 ( passivation ) 패시베이션 ( passivation ) 공정은 반도체 칩의 표면에 보호막을 코팅하는

  리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.02

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  Sperm Quality Test, 정자의 수정능력의 획득(운동성, 수정능, 첨체반응), CASA, CTC, HOST, 방법, 원리, 결과, 고찰

  Ar-ing 경우는 첨체반응이 진행중인 경우로 수정능을 획득한 두부만 없어진 모양을 확인할 수 있다. ... Ar인 경우는 첨체반응이 끝난 경우로, 정자의 두부는 색이 표현이 되지 않으며 꼬리부분만 노랗게 되었음을 확인 할 수 있다. ... 원심분리한 후 상충액을 분리해준다.④ Sample에 상충액을 Pipeting 한 후, DPBS 135㎛와 Hoecst33258 15㎛ 넣어준다.⑤ 10분정도 기다린 후, 정자 표면을 코팅하여

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.05.14

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  재공실 - sputtering 결과보고서

  원하는 곳에, 원하는 시간만큼 증착을 하기위해 순간적으로 차폐해준다.7)Gas systen : 챔버 내에 Ar가스를 공급하는 창치이다. ... 이온원을 열음극형 카우프만 이온원을 사용하는 이온빔 스퍼터(ion beam sputter), 전자 사이클로트론 공명(electron cyclotron resonance)형 이온형을 ... Power supply 로부터 전원을 공급받기 위한 전선과 타겟을 올려놓는 부분인 Cu plate가 장착되어 타겟과 직접 접촉하여 냉각과 전원 공급을 해준다.4)Target : 기판에 코팅을

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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