"Polymer etching" 검색결과 141-152 / 152건

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  MEMS 사례발표(DLP)

  알루미늄은 sputter 증착과 각각의 mask에 SiO2를 플라즈마로 증착하는 plasma-etched를 이용하여 가공된다. ... PMLCD)TN(Twisted Nematics) LCDSTN(Super Twisted Nematics) LCD휴대폰, PDAF(Ferroelectric) LCDPDA, 전자수첩PD(Polymer

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.07.06

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  [사진공정]사진공정(파워포인트 확실한 자료)

  PhotoresistMASKPatternHardened ResistOxidationLithography PreparationExposureUnexposed Photoresist Removed by DeveloperSiO2 Etched ... resin Design the polymer with molecularchain that intrinsically absorb lightStanding wave are formed ... element is for the cast film to absorb light very efficiently atspecific wavelengthsMixing of dyes with a polymer

  리포트 | 85페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.04.04

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  [공업화학실험] 박막재료의 표면 처리 및 식각 공정

  즉 단지 한 방향으로만 etch되어야 한다. 두 종류의 etching 공정이 실제로 사용된다. Chemical 과 physical etching. ... {-Lithography-Photo lithography는 photoresist라 불리는 빛에 민감한 polymer로 wafer를 코팅하는 공정이다. ... Chemical etching에서 물질은 고도로 selective 용액에 의해서 제거된다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2004.01.20

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  [디스플레이 공학] TFT-LCD 전극과 공정

  PR 공정PR은 점도를 조절하는 solvent, UV와 반응을 일으키는 photo active compound,화학적 결합물질인 polymer resin등의 성분으로 구성된다.■■■ ... 만들어지는실리콘 질화막이다.{3 약 500 의 n+ a-Si층이 etch-stopper형성 후에 추가적인 PECVD 공정으로증착{4 E/S 상층에 형성된 TFT channel 영역의n ... 때문에 별도의 Cs전극은만들지 않음.{2 PECVD 3층 박막은 SiNx/a-Si/Sinx가각각 4000 /500 /2500 순서로 증착여기서 나중에 증착되는 2500 의SiNx는 etch-stopper가

  리포트 | 38페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.12.27

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  [통신전자과학]차세대디스플레이

  : hydrochloric acid + nitric acidBus전극 patterningPhotosensitive polymer ( negative type ) 도포 : BPR500 ... 공정DEPOSITIONCLEANINGDEVELOPEETCHINGStripingINSPECTIONEXPOSUREMaskUV 조사PR coatingITO Cr Buffer 격벽Photo 공정PhotoresistITO patterningPR (positive type) etching

  리포트 | 68페이지 | 4,900원 | 등록일 2005.12.21

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  [반도체] 반도체 제조 공정에서의 CMP

  다음으로 패드는 일반적으로 연마패드는 경질 폴리우레탄(a foamed crosslinked polymer)이나 폴리우레탄이 함침 혹은 코팅된 부직 폴리에스테르 펠트(non-woven ... 다층 배선화 구조를 요구 할 때 다음 배선층을 위해 평탄화 공정이 필요한데, 기존의 기술이 REFLOW, SOG, ETCH BACK등을 써서 평탄화 하여 사용한 반면 다층배선이 높아짐에 ... 그러나, 앞서 설명한 Cu재료는 재료특성상 Plasma를 이용한 dry etching공정을 통한 배선공정이 되지 않기 때문에 Cu CMP 공정이 IBM 에서부터 개발되었다.Cu CMP

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.12

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  반도체공정

  {-Lithography-Photo lithography는 photoresist라 불리는 빛에 민감한 polymer로 wafer를 코팅하는 공정이다. ... 즉 단지 한 방향으로만 etch되어야 한다. 두 종류의 etching 공정이 실제로 사용된다. Chemical 과 physical etching. ... 양립에 대한 요구에 대해서는 층간절연막계 etching 공정 중에서 critical한 etching 공정에서는 DFR방식의 I-4100SVIISD를, non critical한 공정에서는

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2001.03.31

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  [진공공학] 건식펌프

  반도체 공업C.V.D, LCD 및 반도체 Clean Process, Dry Etching, 증착, 프라즈마 처리, 가스치환? ... Degasing 진공시스템 - Polymer 성형공정? 정밀화학(박막증류)진공 시스템 - 농축, 증류, 용매추출? 화학공업 - 지방산증류, 석유유분 정제, 고분자화합물 정제?

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.01.26

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  반도체에 사용되는 용어정리

  양성인 경우는 Sensitizer에 의하여 특징 지워지며 음성인 경우는 Polymer에 의해서 특징지워진다. ... (BOE) NH4F + HFNH4F(Amonium Fluoriede)와 HF(Hydrofluoric Acid)가 혼합된 화학물질로 Silicon Dioxide Etch에 사용된다.Etch시에 ... HF는 Oxide Etch에 직접관여하며 NH4F는 Etch Rate를 조정하여 Uniformity를 좋게하는 완충용액의 역할을 한lasma CVD에서는 Nitride Deposition의

  리포트 | 18페이지 | 무료 | 등록일 2000.11.29

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  [반도체] 플라즈마에칭

  Silicon or Poly-Silicon Etching(1). ... 따라서 불소의 경우는 이온충격이 없이도 반응이 일어나므로 등방성식각을 가지며 Cl이나 Br의 경우는 Ar, He 가스를 첨가하여 비등방성식각을 얻을 수 있다.(3) Polymer의 ... 플라즈마 etching에서 anisotropic profile을 얻을 수 있는 원리를 간단히 설명하시오.sol) ⊙ anisotropic etchingion은 플라즈마와 식각 물질

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.05.13

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  [재료,금속] solder(땜납)

  폴리머 위에 증착된 metal을 patterning 하기 위한 etching 공정을 거친 후 포면에 잔류하는 화학물질을 제거하고 산화 및 부식을 방지하기 위하여 적절한 post-process가 ... 일반적으로 wafer 표면에 coating 하는 polymer는 PCB와 chip 간의 열팽창 계수 차에 의해 발생하는 stress를 완화시킬 수 있어야하는데, 예로 Tessera ... I/O 재배치를 위해서는 wafer 표면에 저유전 상수를 가진 polymer 재료를 coating하거나 film을 입히고, 그 위에 metal 층을 증착, 도금 등의 방법으로 형성시킨

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.12.19

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  [공학]DRY ETCHING

  식각 특성8.1 식각 Profile1.등방성 식각2.비등방성 식각(1) 스퍼터링에 의한 반응 생성물의 탈착(2) 이온 충격에 의한 표면 손상(3) Polymer의 형성에 의한 표면반응 ... 식각 단위공정9.1 Silicon or Poly-Silicon Etching1. ... 이온 충격으로 etch rate가 빨라진다는 결과를 알 수 있는 것이 다음의 그림 10.이다.

  리포트 | 65페이지 | 1,000원 | 등록일 2000.09.15

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