"광식각" 검색결과 161-180 / 513건

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  CABIE-dry etching

  청색 광양자 테(PQR – Photonic Quantum Ring) 레이저의 제작에 이용된다.CAIBE 방식은 어디에 이용되는가? ... 식각 공정은 식각 형태와 식각 방법에 따라 다음과 같이 분류된다.식각(Etching) 이란? ... 습식 식각이 주로 등방성 식각을 하는 반면, 건식 식각은 주로 이방성 식각을 한다.건식 식각(Dry Etching) 이란?건식 식각(Dry Etching) 이란?

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.04

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  ITO Pattering 공정 예비보고서

  공정· 학과 :· 학번 :· 이름 :· 조 :· 공동실험자 :1)실험목적◦OLED/PLED/OTFT/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO를 원하는 pattern으로 식각하는 ... 일반적으로 유기전자 디바이스의 patterning 공정에서는 batch 방식을 사용하SISTPhoto Resist는 화상형성용의 사진식각(Photoetching)에 사용되는 감광성 ... etching으로 나누어지는데 wet etching은 주로 liquid상태의 chemical을 사용하는 모든 종류의 etching을 의미하며 dry etching은 plasma를 이용한 모든 식각

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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  박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거 (반도체 식각)

  사진공정은 크게 광 노광기술(optical lithography)과 방사 노광기술(radiation lithography)로 구분되며, 광 노광기술에서는 자외선(UV)이, 방사 노광기술에서는 ... (그림9) 습식식각 (그림 10) 건식식각ⅰ)일반적인 건식 식각 방법의 분류- sputtering&ion milling : plasma 내의 Ar 가스의 ion을 사용하여물리적인 식각을 ... 식각하고자 하는 재료를 말한다.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.13

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  ITO patterning 공정 예비

  OLED 소자의 투명전극으로 사용되는 ITO를 원하는 모양으로 식각하는 법을 습득한다.?Photolithograph에 사용하는 각 공정의 원리와 공정 시 주의 점을 습득한다.3. ... Positive 와 Negative 2가지가 있는데 진행하고자 하는 공정에 따라 각각의 Mask 를 사용할 수 있음.Photo resistPhoto Resist는 화상형성용의 사진식각 ... 식각 공정은 그 방식에 따라 크게 wet etching과 dry etching으로 구분하는데, wet etching이라 함은 금속 등과 반응하여 부식시키는 산(acid) 계열의 화학

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.09.15

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  [A+] LCD 디스플레이 개념, 특성, 분류, 형대, 구동방식 및 동작방식, 제조공정 방법 구조 분석

  투사형 LCD 직시형 LCD 투과형 LCD 반사형 LCD 투과반사형 LCD 투사형 LCD: 대화면 구현 직시형 LCD 투과형 : 후광의 빛을 액정이 조절 직시형 LCD 반사형 : 자연광이나 ... : 화학용액 생산성 우수 / 저렴 Dipping 과 Spray 건식식각 : 플라즈마 방전 우수한 정밀도 진공에서 반응가스와 플라즈마의 방전 24 A-Si TFT 의 구조와 공정 식각공정25 ... (Photolithography), 식각공정 (Etching) 을 반복하여 유리 기판 위에 박막트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정이다 .

  리포트 | 33페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.04.26

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  [발광디스플레이실험] 투명전극 특성

  . etchant에 담가 10분동안 에칭을 할 경우 깨끗이 지워낼 수 있다.Etching 도중 흔들림에 의해 표면보다 높은 부위에 용매가 묻는 경우 부분적으로 에칭 되어 불균일한 식각을 ... 이러한 ZnO는 투명 산화물 반도체의 높은 광 투과성으로 인한 투명함, 높은 모빌리티, 저온공정이 가능하다는 특성이 있다. ... 투명전극의 각각의 특성을 알게 됨으로써 필요에 따른 소자를 사용할 수 있다.실험 이론 :투명전극가시영역에서 80%이상의 투과성, 3eV 이상의 밴드갭을 갖는 재료로써, 전기 전도도와 가시광

  리포트 | 6페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.06.14

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  [공업화학실험]반도체 식각 실험 결과

  , 비교적 낮은 온도(80~100℃)에서 짧은 “미리 구움(baking)”으로 용제를 resist로부터 제거하고, 표면점착을 증가시킨다.Lithography(노광) : 일반적으로 광에 ... 식각 공정에는 습식 식각(wet etching)과 건식 식각(dry etching)으로 구분된다.습식 식각 (wet etching)건식 식각(dry etching)장점- 높은 선택도 ... 식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각된 두께를 측정하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.4.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.10.02

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  (포토리소그래피) Manufacturing Processes - Photolithography

  식각이 가능하게 한다.2. ... Negative PR은 노광에 의해 가교, 광이량화 등의 반응으로 분자량이 크게 증가하면서 용해성이 떨어지고 열적 특성, 내화학성이 현저하게 좋아지기 때문에 Positive PR보다 ... 물론 포토리소그래피 공정만으로 차원 구조가 만들어지는 것이 아니라 박막증착과 식각 등 여타 단위공정과 조합하여야 가능하며, 리소그래피 공정을 통해서는 선택적인 보호막을 형성하여 부분적인

  리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.20

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  6조_프로젝트

  노출된 소스/드레인 층에 대하여, 건식 식각 공정을 수행하여 불순물 반도체 층을 노출시키고, 그 노출된 불순물 반도체 층에 대하여 건식 식각 공정을 수행하여 반도체 층을 노출시키는 ... Electroluminescent (EL)- EL backlight는 매우 얇고, 가벼우며, 균일한 광을 제공한다. LCD에서 표시하고자 하는 여러가지 색에 모두 적용 가능하다. ... Light Emitting Diodes (LED)- LED 광이 수행된 영역에 대하여, 애싱(ashing) 공정을 통하여 포토 레지스트 막을 제거하는 단계; 및 상기 애싱 공정을 통하여

  리포트 | 56페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.15

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  ITRS

  고저항 Si 기판과 단일 광 배선은 잠재적인 시스템 다. ... 이러한 이득은 전통적으로 새로운 리소그래피 도구, 마스크, 포토레지스트 재료 및 중요한 차원 식각 공정의 개발에 의해 속도를 맞춰왔다. ... 이 FEP장의 목적은 위의 소자들과 관련된 재료와 핵심 front end 웨이퍼 제조공정기술을 위한 잠정적 해결책과 광범위한 미래의 요구사랑들을 정의하기 위한 장이다.

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.30

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  [기계공작법] 화학적가공 특수가공리포트

  광-화학 블랭킹(photochemical blanking)광식각(photoetching)이라고도 하며 화학밀링을 응용한 가공법으로 사진기술을 이용하여 편평한 박판에 소재를 제거한다. ... 이공정은 미소전자장치를 가공하는데도 사용되며, 종종 습식식각이라고 한다. 용해액의 탱크 용량은 최대 3.7X15m이다. ... 최소 0.0025mm 두께의 박판을 복잡한 모양으로 블랭킹할수 있으므로 미세한 스크린 인쇄회로기판 전기 모터용 적층판 평판 스프링 컬러텔레비전의 새도마스크를 가공하는데 사용된다.광화학블랭킹은

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.06

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  반도체기술

  광감응제는 말 그대로 노광 공정 시 빛과 반응하여 광화학적인 반응을 일으켜 폴리머의 구조를 변형시키는 역할을 한다* 스텝퍼‘레티클’이라고 불리는 회로 원판을 통해 나온 자외선 광을 ... 상감공정 : 절연막 내부로 배선라인 트랜치 및 비어등을 먼저 식각한 후, 배선물질인 구리를 채우는 방식* 저유전체 : 4이하의 낮은 유전상수 값을 가진 물질로, 반도체 절연물질로 쓰이는 ... 필수적인 것으로 평탄하게 선을 얹었을 때 잘 올라가게~웨이퍼 표면의 돌출된 부분을 제거하는 평탄화 공정으로, 보다 효과적인 다층 배선 반도체 소자 제작을 위해, 혹은 기존 건식 식각이

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.28

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  반도체공정실험 예비보고서(Photo lithography)

  물론 Photolithography 공정만으로 3차원 구조가 만들어지는 것은 아니고 박막증착과 식각 등 여타 단위공정과 조합하여야 가능하며, 리소그래피 공정을 통해서는 선택적인 보호막을 ... 때까지 액체 상태로 유지시키는 용제(Solvent), 결합체로 사용되어 막의 기계적 성질(두께, 유동성, 접착도, 열에 의한 흐름 등)을 결정하는 다중체(Polymer), 빛을 받아 광화학

  리포트 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2014.09.23 | 수정일 2021.04.11

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  PDP (플라즈마 디스플레이 판넬)의 제조방법

  [효과] 습식 식각을 이용한 버스전극의 패터닝시에 식각액으로 인한 투명전극의 손상을 방지할 수 있으며, 또한 감광막 패턴으로 버스전극의 폭을 한정함으로써0, 일정폭을 갖는 버스전극을 ... 그리고 나서, 제 2 감광막 패턴을 식각 마스크로 하는 습식 식각 공정을 실시하여 투명전극의 일측 상에 버스전극을 형성한 후, 제 2 감광막 패턴 및 제 1 감광막 패턴을 알칼리 용액으로 ... 가부시키가이샤발명자야수이 마사히데코바야시 케사나오대리인하상국하영욱우선권주장95-169812 1995년07월05일 일본(JP)출원의 명칭플라즈마 디스플레이의 제조방법초 록[목적] 광

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2011.11.18

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  박막 에칭

  ,원자,분자substralesubstraleplasma휘발성 반응물질생성반응종substrale반응종반응종전계이온,전자,광전자휘발성반응물건식 식각이온식각반응 식각(reactive etching ... 및 화학적기술이온빔 식각(이온빔 밀링 스파터 식각) Rf스파터 식각Barrel reactor에서의 플라즈마 식각 화학적 건식 식각 (혹은 하류 건식 식각)Parallel=plate ... reactor 내의 플라즈마 식각 반응 이온 식각, 반응 스파터 식각 삼극 플라즈마 식각 반응 이온빔 밀림 전자 유발 화학적 건식 식각 광자 유발 화학적 건식 식각원리원자,분자전계이온

  리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.05.13

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  [반도체] 반도체 공정

  Photolithography광식각은 반도체 웨이퍼를 덮고 있는 광민감 물질의 얇은 층위에 마스크를 통해 기하학적 형태의 패턴 을 형성하는 공정이다. ... 거의 모든 식각은 건식 식각에 의존하게 되었다.플라즈마 식각의 단점 중의 하나는 식각 반응실에 전하가 MOS 소자를 파괴하기도 한다는 것이다. ... 열 산화막의 플라즈마 식각은 식각율이 낮고, 식각의 종말점을 찾는 것이 어렵기는 하지만 3μm 이하의 패턴을 식각하는 데는 필수적이다. 80 년대 후반부터 설계기준이 2μm이하로 내려오면서

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.26

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  LG디스플레이 면접대비(인성면접 & 직무면접 & 전공면접 & 기업분석) - 최종합격

  Glass에 박막을 증착하고, PR을 도포한 뒤, 원하는 Pattern의 mask를 이용해 노광하고, 현상, 식각, 박리를 통해 직접 Photolithography를 하였고, Cell을 ... 이 실험을 통해 얻은 결과로 저희는 왜 TN모드보다 VA모드 LCD가 상용화 되어 있는지에 대해서 알 수 있습니다.IPS 패널 : 광시야각, 응답속도 좋음, 명암비가 VA보다 떨어짐LG

  자기소개서 | 20페이지 | 7,000원 | 등록일 2017.05.09

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  항공기술이 다른곳으로 전파되어 사용되고 있는 사례

  특정부위에만 선택적으로 도달시켜 치료의 효과성을 제고하여 수술 없이 병을 치료할 수 있는 가능성 전망태양에너지를 나노입자를 이용하여 화학에너지(수소 등)으로 전환하여 저장할 수 있는 인공광합성이 ... 초집적화되어가고 있는 현대산업의 전 분야에 혁신을 일으킬 수 있는 기술로 주목받고 있는 것입니다.나노기술의 적용분야Bottom-up 방식의 나노소자 분자공학기술에 의해, 현재의 실리콘 결정을 식각해

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.06.16 | 수정일 2014.11.19

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  LCD의 구조, 원리 및 응용분야, 향후 연구개발방향

  LCD panel 은 Backlight Unit에서 입사된 백색광을 구동 회로 unit으로부터 입력된 각각 화소의 신호전압에 따라 화소에 투과되는 빛을 조절하여 color 영상을 표현하는 ... (Photolithography), 식각공정(Etching)을 반복하여 유리 기판 위에 박막트랜지스터를 배열하여 제작하는 공정이다. ... 약4~ μm이다.Black MatrixColo가하지 않았을 때LCD 제조공정4.1 TFT 공정TFT 공정은 반도체 제작 공정과 매우 유사하며, 증착공정(deposition) 및 사진식각공정

  리포트 | 24페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.06.19

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  빅막의 식각 및 PR제거 예비보고서

  수십nm대의 Nano가공 기술로, 광범위한 응용이 기대된다. ... Lithography가 있고, Bottom-up방식에는 Nano lithography, DPN, Micro contact printing등이 있다.photo lithography는 광을 ... 식각 전후의 산화막의 색깔 변화를 관찰하여 식각된 두께를 측정하고 식각에 의하여 형성된 패턴의 모양을 관찰한다.4.

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.11.26

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