"분리막 세정" 검색결과 161-180 / 702건

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  VLSI공정 6장 문제정리

  실리콘 기판의 습식세정에 있어서 piranha, SC-1, SC-2이 가장 대표적이다.a) 각각에 사용하는 chemiclal조합을 적어라.b) 각각에 대해 어떠한 목적으로 세정하는 ... 근접한 간격을 갖는 틈에 의해 회절되어진 파장 사이에서의 간섭(보강)은 그 영역에서 증가한다.세기(I)는 전계(E)와 비례하기 때문에, 가깝게 투사되는 두 이미지의 분리는 힘들다.- ... 지를 설명하라.c) SC-1에서rm NH_4 OH의 역할에 의한 세정원리를 설명하라.6-7.

  리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

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  연구자료 214 (MBR 막오염 메커니즘)

  생화학적 세정법은 에서 보는 바와 같이 3가지로서, ① 효소(酵素)를 이용하여 막을 세정하는 기법, ② 에너지 분리시키어 막을 세정하는 energy uncoupling 기법 ... 생물학적 세정법과 생화학적 세정법은 널리 이용되는 막 세정법으로서 막으로부터 막 오염물을 제거하기 위해 생활성 물질(bioactive agent)을 함유하는 혼합세정제(混合洗淨劑 ... )를 이용하는막 세정기법이다.

  리포트 | 10페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.05.01

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  연구자료 215 (MBR 막 세정 프로세스)

  MBR는 하폐수의 활성오니 즉 활성슬러지 처리에 적용되어, 활성슬러지를 하폐수로부터 분리시키는 역할을 하므로, 오염(汚染)에 상당히 약하다고 할 수 있다. ... MBR 막의 세정(洗淨)을 분류하자면, 물리학적 세정과 화학적 세정으로 크게 나누어지고 있다.MBR 막(膜)의 지속가능한 운용은 간헐적(間歇的)인 이완 여과(弛緩 濾過: relaxation ... ), 역세(逆洗: backflushing), 이완여과-역세 등의 물리학적(物理學的) 막 세정과 화학적(化學的) 막 세정으로 이루어지는 운전 시스템이다.

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.05.01

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  건축설비 - 중수설비시스템

  제한없는 공기세정으로 높은 세정효율에 의한 막오염 최소화를 유지한다 . 한외 여과막은 탁고 , 세균 , 클로이드 , 단백질 , 고분자 유기물을 제거한다 . ... 나노 여과막의 분리원리는 삼투현상 응용이다 . 농약 , 고분자 유기물 , 다가이온을 제거한다 . ... 다른 분리막 공정보다 높은 투과 플럭스를 가지며 재래식 응집 , 침전여과에 비하여 투과수질이 좋다 .

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.04.09

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  신재생 에너지 태양광 발전 시스템

  반사방지막 태양전지에 빛이 입사되면 반도체내의 전자 (-) 와 정공 (+) 이 자유롭게 태양전지 속을 움직이지만 이 두 입자가 분리되어 움직여야 전기 에너지 생산 반사방지막 PN 접합에 ... 국제건축부문 최우수상 국내 최초 에너지효율 1 등급 부여 초고층 빌딩 3,279 개의 태양광 패널로 건물 사용 조명의 66% 자체 생산 빗물 , 사용한 물 등을 정화하여 화장실 세정용수로 ... 형의 반도체를 접합시킨 구조 N 형 반도체에는 전자 (-), P 형 반도체에는 정공 (+) 이 분포 2 개의 경계부분을 PN 접합이라 함 → PN 접합에 의해 전계가 발생 반사방지막

  리포트 | 13페이지 | 3,500원 | 등록일 2018.10.16

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr 증착, photolithography, Cr 식각 실험

  건조방법은 원심분리 건조, 증기 건조, 고온 물 건조 등이 있다.2. 증착[1](1) 개요증착은 웨이퍼 위에 박막을 형성하는 방법이다. ... 세정 용액이 웨이퍼 표면에 잘 흡착 되어야 세정 작용이 일어날 수 있다. 따라서 세정 용액의 웨이퍼 표면 부착 상태는 세정 효과의 향상을 위하여 고려해야 한다. ... 또한, 등방적은 아니고, 가로 방향의 식각이 급속히 진행하는 경우도 있는데, 이것은 감광막과 바탕막의 밀착성이 나쁜 경우나 막의 표면에 식각 속도가 크게 다른 층이 존재할 경우 일어나기

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.04.26

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  박막 크로마토그래피 이용한 벤조산 나프탈렌 분리 - 예비

  막이나 용매 성분으로 작업하는 것은 가능하고, 분리된 성분은 그것이 제2 방향에서 분리되기 전에 반응되기 쉽다(분리-반응-분리에 대한 SRS 방법). ... 금속부품의 증기세정, 특히 열에 의한 영향을 받기 쉬운 제품의 세정에 적합하다. ... 그러나 분리 시간은 종이 크로마토그래피에서보다 더 짧은 30~60분이다.방법. 얇은 막 크로마토그래피는 보통 1차원이나 2차원에서 올라가는 용리제로 이루어진다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.03.23

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  2017년 치위생과 국가고시 대비 요점정리[예방치학]

  주성분으로 25~60% 정도 배합 → 마모도에 큰 영향을 미치는 성분② 세정제(표면활성제)세마제의 세정작용 보강 및 치아표면을 깨끗이 세정하는 작용[합성중성세제의 세정작용]부화작용 ... / 분산작용 / 침투작용 / 흡착작용③ 결합제세치제의 구성성분이 분리되지 않도록 하는 것구강에서 결합제가 분산되기 때문에 세치제에서 미생물이 증식할 가능성 有 → 방부제 배합④ 습윤제 ... 없으며 도포 후 곧 경화하기 때문에 유년기의 행동조절이 어려운 어린이나 장애인에게 적용하기 용이함 / 대부분 5.0%의 불화나트륨 함유치면세마(oral prophylaxis)치아분리

  시험자료 | 17페이지 | 5,000원 | 등록일 2017.02.01 | 수정일 2017.10.10

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  클리닝 cleaning 과제

  과산화 수소는 폭발성 물질로 분리 되므로, 실험시 화기에 유의 한다.RCA-2 클리닝 이후 METAL oxide 제거를 위해 HF세정도 있습니다.그 후 실리콘 위에 양질의 SiO2 ... 층을 형성하기 위하여 막질 deposition 전 HF 용액에 의해 웨이퍼 위에 존재하는 자연산화막, chemical oxide를 제거하는 세정 방법도 있습니다.ㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡㅡPre ... 과산화 수소는 폭발성 물질로 분리 되므로, 실험시 화기에 유의 한다.RCA-2 Cleaning1960년대 RCA lab.의 Werner Kern에 의해서 개발 되었으며 알칼리 이온들

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.12.03 | 수정일 2015.12.15

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  마이트로파이펫(Micropippette) 사용법 전기영동실험기법 polymerization과정 등의 생물공학 실험 report

  dsDNA에서 10∼50배의 검출감도SYBR Green Ⅱ의 경우 RNA에서 2∼3배의 검출감도- DNA와의 결합으로 형광강도가 증가하므로 검출시 background가 낮다.- 세정 ... 세포막을 조심스럽게 깨서 크기가 큰 chromosomal DNA가 너무 잘게 조각나는 것을 방지해서 용액에 DNA를 노출시키면 SDS가 세포막을 녹여버리면서 안에 있던 세포 내 용물이 ... 받아들일수있는 상태의 cell을 competent cell이라 한다.세포막과 DNA는 모두 ?

  리포트 | 31페이지 | 5,000원 | 등록일 2018.05.11

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  예방치과학2 국시요점정리

  cellulose기능- 물리적 성질이 서로 다른 물질이 서로 분리되는 현상을 막는 작용계속 안정된 현탁액으로 유지고려사항 - 다른 성분과 공존 가능, 분산정도를 조절하는 조정제가 된다는 ... 크림형 세치제의 성분 및 기능: 주성분 - 세마제, 세정제, 결합제. ... , 유전, 성별, 특이체질종족특성, 비특이성보호작용, 외계저항력병원체요인세균, 병원성, 독력, 전염성, 전염방법, 독소생산능력, 침입력환경요인구강내; 구강환경, 구강온도, 치면세균막구강외

  리포트 | 34페이지 | 3,000원 | 등록일 2017.10.31 | 수정일 2019.09.22

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  제균법 (removal of microorganism)

  )- 세균이나 효모 정도 크기의 입자를 구별하는 막여과과정에 사용 되는 필터로 막에 의한 촉매작용 또는 생성물 분리작용을 이용한 반응기- 막필터는 셀룰로오스의 아세트산-질산혼합에스테르 ... 또한 세정도 제균방법의 하나이며 세정제로 제균한 뒤 살균제로 미생물을 사멸시키는 경우도 있다.▶ 여과멸균이라고도 하며 병원성 세균 배양에 사용되는 혈청 배지와 같이 열을 가하면 변질될 ... 다공질 플라스틱필름으로, filter 표면에서 구멍의 지름보다 큰 미생물입자를 완전히 포착할 수 있다.2) 침강제균☞식품 중의 미생물 등을 중력 또는 원심력의 작용에 의해서 침전물로 분리하는

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.10.23 | 수정일 2017.03.22

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  성인간호학 실습 A+ 중환자실(ICU) case study(SAH, Subarachnoid hemorrhage, 지주막하출혈)

  동맥류 경부를 동맥류 클립으로 묶음으로써, 정상적인 혈류를 유지하되 동맥류로 혈류가 공급되지 않게 체순환계로부터 완전히 분리시키는 동맥류 경부 직접 결찰술이다. ... 마치 거미줄 모양과 같다고 해서 지주막 또는 거미막이라 하고, 가장 안쪽에 있는 연막과의 사이에 있는 공간이 지주막하 공간이다. ... 10분으로 한다.수술중, 수술후, 외상후의 급성 신부전의 예방 및 치료, 약물중독시 배설촉진, 두개내압 강하 및 뇌용적의 축소가 필요한 경우, 안내압 강하가 필요한 경우고삼투성완화제, 세정액제

  리포트 | 22페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.05.02

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  반도체 클리닝 공정 (반도체 클리닝 공정에 대한 조사 레포트)

  Oxide 막, Nitride 막, 잔류금속, Organic 제거2. Micro 표면 거침의 정도 조절- 오염의 종류1. ... :H2O=1:1:5 to 1:2:7 at 70~80℃)· H2O2 가 H2O+O2로 분리되어 강한 산화작용으로 표면 유기물질들이 산화되면서 용해하게 하며 NH4OH는 이온으로 분리된 ... 건식세정과정반도체 소자 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염물은 파티클, 유기 오염물, 금속 불순물, 자연 산화막으로 나눌 수 있으며 이런 오염물들을 제거하기 위해서는 웨이퍼 각각의오염물들을

  리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.06.12 | 수정일 2017.01.09

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  반도체 클리닝 공정에 대한 레포트

  Oxide 막, Nitride 막, 잔류금속, Organic 제거2. Micro 표면 거침의 정도 조절- 오염의 종류1. ... :H2O=1:1:5 to 1:2:7 at 70~80℃)· H2O2 가 H2O+O2로 분리되어 강한 산화작용으로 표면 유기물질들이 산화되면서 용해하게 하며 NH4OH는 이온으로 분리된 ... 건식세정과정반도체 소자 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염물은 파티클, 유기 오염물, 금속 불순물, 자연 산화막으로 나눌 수 있으며 이런 오염물들을 제거하기 위해서는 웨이퍼 각각의오염물들을

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.30

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  치위생학과 전공 현대예방치학 5장 구강관리용품 요약

  (표면활성제)세마제의 세정작용 보강 및 치아표면을 깨끗이 세정하는 작용[합성중성세제의 세정작용]부화작용 / 분산작용 / 침투작용 / 흡착작용③ 결합제세치제의 구성성분이 분리되지 않도록 ... 횟수가 비교적 높은 사람(5) 칫솔의 보관통풍이 잘 되어 건조가 잘되는 청결한 장소 및 두부가 위로 가도록 하여 서로 접촉되지 않게 보관함2) 세치제(dentifrices) 치아표면 세정 ... ] 구강질병 예방 및 치료작용③ 마모도에 따른 분류비마모세치제 / 마모세치제(2) 세치제의 성분[마모력이 가장 큰 것] 무수인산칼슘[크림세치제의 주성분]① 세마제치아표면을 깨끗이 세정하고

  시험자료 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.08.28

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  미용기기학리포트

  등을 공급하고 세포내 대사 작용에 의하여 노폐물을 세포 밖으로 배출한다.세포막의 물질이동1. ... 변화하여 고체, 액체, 기체, 플라즈마 상태로 존재한다.물질은 원소 화합물 혼합물로 분류하며 원자와 분자 이온 결합상태로 이루어진다.원소(물질의 기본단위)한 종류의 원자만으로 더 이상 분리되지 ... #저혈압-80mmHG이하로 낮아진 경우 혈액순환이 덜되어 피로증상 어지러움 소화불량 가슴 두근거림.안면 미용 기기중 세정효과가 있는 기기세정기기에는 물리적인 방법과 화학적인 방법이

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.11.20

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  고분자재료실험 예비보고서(ITO)

  ITO 표면을 세정할 때 acetone이나 methyl alcohol과 같은 유기 용매를 사용한 초음파 세정이 필요하지만 이러한 극성 유기용매들은 patterning된 절연층과 음극분리 ... 반도체 소장 공정 중 웨이퍼 표면 위에 오염되는 불순물의 종류는 크게 오염물은 particle, 유기 오염물, 금속 오염물 그리고 자연 산화막으로 나눌 수 있다. ... 이때 절연층과 음극분리 격벽에 영향을 주지 않는 정도의 초음파 세기와 시간에 대한 조건의 선정이 중요하다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

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  전해연마 교육자료

  따라서 처리된 표면은 불순물의 유입과 수소성분이 적어 근본적으로 살균 및 세척효과를 발휘하며, 이후 세정효과도 탁월하다처리된 표면은 부식저항성을 지니는 산화크롬을 다량 함유하는 보호막이 ... 전해연마의 효과표면에 생성되는 다크롬층은 접착현상을 제외하면 크롬도금과 유사 이는 분리되거나 벗겨지지 않고 강한 내부식성과 광택성을 지닌다열처리,용접등 여러가지 처리에 의해 생성된 ... 있다.용접열에 의한 용접부 주변 크롬석출로 크롬산화피막의 결핍에따른 내식성 저하 저급한 원소재 (Cr과 Ni의 함량 미달)산을 제거하고 세정에 사용되는 물에 불순물등이 많은 경우

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.01.31

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  Plant genomic DNA isolation

  일반적으로 표면장력이 작은 용액에서 거품이 많이 생성되는데, 생긴 막의 안정성, 기계적 강도, 또 막 내부에서 액체가 흘러내리는 속도 등도 거품이 생기는 원인과 관계가 있다. ... 무극성 물질을 용해하며 자기 얼룩을 남기지 않고 쉽게 증발하는 특징이 있어 반도체, LCD 등 IT 부품 세정액으로 많이 활용되며, 페인트, 잉크 등의 용제로도 사용되는 강한 알콜 ... 방법은 동물이나 박테리아로부터 유전체 DNA를 분리하는 것에 비해 어렵다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.02.02 | 수정일 2017.02.04

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