"CVD분류" 검색결과 161-180 / 393건

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  반도체 제조공정

  산소와 수증기를 이용한 SiO2 의 성장은 각각 건식 과 습식 산화로 분류되는데 건식 산화는 주로 더 우세한 Si-SiO2 계면특성을 가지므로 MOSFET 에서 게이트 산화와 같이 ... 에피탁시란 고온에서 단결정 실리콘위에 수증기로부터 단결정 실리콘 층을 성장시키는 것인데 , 3 가 염화물 혹은 4 가 염화물 (SiCl4) 과 기상 증착 에 의하여 CVD 에서 비슷한 ... 이뤄내는 방식으로 C3F8, CHF3, CClF3, CF4 등의 특수가스가 활용된다 .10.Chemical Vapor Deposition ( epitaxy ) 화학 기상증착법 (CVD

  리포트 | 22페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.02

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  박막제조

  그 특성을 분석하여 실제 연구에 응용할 수 있는 기본적인 능력을 배양하는 데에 본 실험의 목적이 있다.[ 이 론 ]기상증착법 (Vapor Deposition)은 크게 두 가지로 분류된다.하나는 ... 반면에 CVD는 수십 ~ 수백 torr 내지는 상압의 환경에서도 충분히 가능하다. 다만 CVD는 PVD보다 일반적으로 훨씬 고온의 환경을 요구한다.1. ... Deposition)CVD법은 반도체를 위한 공정이다.

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.11.30

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  도금에 관하여

  도금을 개선하는 목적에 따라 분류하면①방식: 원재료의 내식성 부족을 보완하고자 특정한 환경 속에서도 견딜 수 있는 금속을 입히는 것. ... 이 중에 CVD(화학증착)는 Pack cementation , Thermal CVD, 플라즈마 CVD로 크게 나눌 수 있다. ... .* 양극분극 : 가용성의 양극분극에서는 용해된 금속 이온이 축적되고 농도가 짙어져 있기 때문에 용해되려고 하는 것을 방해하려는 움직임.라) 광택제① 1차 광택제와 2차 광택제로 분류한다

  리포트 | 35페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.28

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  Thin film Deposition(박막 제조) - 대본

  특성에 따른 분류Aerosol assisted CVD (AACVD) :작은 미립자 증기, 비휘발성 물질Direct liquid injection CVD (DLICVD) : 액체를 ... 균일한 코팅 두께를 유지하기 위하여 공정 중 제품을 회전시켜야 함:종류- 압력에 따른 분류Atmospheric pressure CVD (APCVD) - 대기압Low-pressure ... Atomic layer CVD (ALCVD) ?

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.04.03 | 수정일 2017.02.17

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  국제통상법

  관세 품목 분류와 관세율 체계(1)관세품목 분류체계관세품목의 분류체계는 WCO가 주관하고 있으면 현행체계는 상품의 성질이나 용도 등에 따라서 2,4,6,8,10단위로 분류된다. 6단위까지느 ... 다자간 협상은 1단계 원칙과기간 2단계 requset 3단계 offer로 협상되어 최종적으로 확정된다.관련규범으로 MFN(GATT제1조), 양허(GATT제2조), ADD&CVD(GATT제6조

  리포트 | 3페이지 | 무료 | 등록일 2010.06.30 | 수정일 2014.02.25

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  Epitaxial Growth

  성장방법2.1 CVD2.2 LPE2.3 MBE분류LPCVD (Low Pressure CVD) APCVD (Atmospheric Pressure CVD)수직형 Barrel 형 연속형수평형 ... Epitaxial Growth 1.1 정의 1.2 분류1. ... Epitaxial Growth1.2 분류기판과 에피층이 같은 물질로 구성Ex) 실리콘 기판 위에 실리콘 에피층을 성장시킴Homo epitaxy (동종 에피택시)1.

  리포트 | 30페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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  플라즈마 공정

  →CVD에 비해 표면 덮음율이 떨어져 복잡한 패턴의 표면에 균일하게 증착시키기 힘듬.2)스퍼터링의 종류 - 이온을 만드는 방식에 따라 분류 ▶DC 스퍼터링 - 접지로 연결한 DC 전원 ... CVD : Plasma를 이용하여 기상합성으로 기능성 막을 생성시키는 방법. (주로 반도체 분야의 thin film 형성에 적용). ... 형태로 배출시킨다.웨이퍼손상 야기 / 게이트 산화막의 파괴 / 소자의 특성저하단점환경친화적 / 공정간단 / 비용절감장점플라즈마 챔버 클리닝플라즈마 챔버 클리닝 – 플라즈마를 이용해 CVD

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.01.16

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  Color TFT-LCD 제조기술

  filter 형성에 사용되는 재료에 따라 그림 2.27과 같이 pigment(안료)방식과 dye(염료) 방식이 있으며, 제작방법에 따라 염색법, 분산법, 전착법, 인쇄법 등으로 분류할 ... 남아있는 a-Si 두께로 channel 영역의 a-Si 두께가 결정되는E/B type TFT 구조에서는 E/B 공정에 사용되는 건식식각(dry etch) 공정 uniformity가 CVD공정의 ... Dry3.5BadBadCuWet2.1BadBadAcceptable측면에서 장점이 있으나 E/S 형성을 위한 추가적인 photolithography공정과 n+ a-Si층 증착을 위한 별도의 CVD

  리포트 | 54페이지 | 8,000원 | 등록일 2011.11.01

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  증착법의 원리와 특징

  Vapor Deposition)로 분류할 수 있다. ... 또 프라즈마의 여기유지 및 입자의 이온화방식으로서는 직류방전방식, 고주파여기방식, 아크방전방식, 열전자 여기방식 등으로 분류된다.그림 2.2.1은 공업적으로 가장 많이 응용되어지고 ... CVD, 프라즈마 CVD, PVD에는 각각 나름대로의 득실을 가지고 있어, 그 목적에 맞추는 사용법이 필요하다.2-2 PVD에 의한 성막PVD에는 진공증착, 증발한 입자를 이온화하고

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.04.21

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  CVD법에 의한 CNT의 증착 및 특성

  SWNT의 경우, 대표적으로 금속성질을 가지는 arm-chair 구조 및 반도체 성질을 가지는 zigzag 구조가 있으며, 나노튜브 rope로 분류되기도 한다. ... 단중벽나노튜브(SWNT; single wall nanotube), 다중벽나노튜브(MWNT; multi-walled nanotube), 다발형나노튜브(rope nanotube)로 분류될 ... CVD법은 열CVD법, D 플라즈마 CVD법, RF 플라즈마 CVD법, 마이크로파 플라즈마 CVD법으로 구분할 수 있으며,19-26) 기존의 전기방전법이나 레이저 증착법에서는 불가능한

  리포트 | 73페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.05.10

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  2013-1학기 인하대학교 복합재료 보고서

  그러나 기본적으로 그 구성 재료에 따라서 분류된다. ... 물성이 뛰어난 SiC는 다른 강화재료보다 훨씬 비싼 가격문제만 해결된다면 많이 쓰이는 강화재료가 될 것이다.- 특징SiC섬유는 Boron섬유보다 매끄러운 표면을 갖는다.텡스텐 섬유에 CVD를 ... 최근에 단섬유계의 강화재가 다양하게 개발되고 복합재료에 대한 연구의 활성화와 더불어 각 분야에 대하여 학문적으로 틀을 갖추게 되면서 다음과 같이 matrix 재료를 기준으로 하여 분류하는

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.08.26

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  반도체 제조 공정

  )법으로 크게 분류된다. ... 반응기 내부의 압력 정도에 따라 상압 CVD (atmospheric CVD; APCVD)와 저압 CVD(low-pressure CVD; LPCVD)로 구분된다. ... APCVD는 공정 온도 영역에 의해 다시 저온 CVD(LTCVD; T500 ℃) 등으로 나뉘어 지며, LPCVD는 고온 벽 CVD와 저온 벽 CVD로 구분되어 진다.그림은 상업적으로

  리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2008.05.01

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  MOS소자 형성 및 c-V특성 평가

  염산이나 질산등과 달리 플루오르와 수소 사이에 강한 수소결합력이 작용하여, 이온화가 잘 일어나지 않아 약산으로 분류된다. ... 용해되어 있는 이온 실험용으로 많이 사용되는데,HF(불산)불산 또는 플루오린화 수소산(Hydrofluoric acid)이라고 하며, 플루오린화 수소 (HF)의 수용액으로 강산으로 분류되는 ... 없어지면서 패턴을 형성하는 방식이고 negative의 경우는 빛에 닿는 부분이 강해져서 안 닿은 부분을 녹여 패턴을 형성하는 방식이다.Deposition(증착)화학적 기상 증착법(CVD

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.05.17

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  세상에서 가장 얇고 단단한 도체 그래핀

  그 외 제품들로 구성된 분류는 2015년 1백만 달러, 2020년에는 연평균 성장률 169.7%로 1억 4천 2백 8십만 달러에 도달하며 증가가 예상된다. ... 그 결과 현재는 에피택시(epitaxy) 합성법외에도 화학적 합성법, CVD 성장법등을 이용한 연구가 진행되고 있고 우수한 결과들이 계속적으로 발표되고 있다.▶ 에피택시 합성법[그림 ... 하지만 에피택시 성장법은 절연성 기판에 그래핀을 직접 성장하는 장점이 있으나, 이 방법으로 성장한 그래핀은 스카치테입법이나 CVD 성장법에 의해 성장한 그래핀보다 특성이 뛰어나지 못하며

  리포트 | 26페이지 | 4,000원 | 등록일 2011.12.02

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  금속의 열처리

  질화표층 두께 : 5-15μm (1-2 질화처리시간)경화 및 열처리 예시 – 강철볼트의 표면부침탄법(밀폐, 가스)CVD의 분류TiCTiC, TiN, C-BN, Si3N4300℃~500 ... ℃W2C300℃~550℃TiC, TiN, Al2O31000℃피막온도CVD고온CVD저온CVD광CVD플라즈마CVD열CVDCVD( Chemical Vapor Depositon) : 반응성 ... 작업이 어렵고 장시간 소요노내압력 장비 결정석출속도 코팅형상 균일성 노내유효면적 운용비 작업능률저압CVD 시스템고압CVD시스템구분코팅처리방법의 종류PVD법과 CVD법의 비교800~1100

  리포트 | 50페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.10.29

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  [성인간호학] 고혈압 누그러뜨리기(영어저널해석)

  )과 관련된 합병증을 줄이기 위해 140/90보다 작은 목표BP를 추천한다.고혈압을 분류하고 치료하는 방법수축기BP1)이완기BP1)생활양식초기의 약물요법강력한 징후 없음강력한 징후 ... 포타슘 농도, 혈청 칼슘 농도, 혈중요소질소, 그리고 크레아티닌 농도, 공복혈당 그리고 트리글리세아드를 포함한 콜레스테롤 분석표가 지시될 것을 예상하라.목표를 겨냥하라심혈관계 질병(CVD

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.11

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  탄소나노튜브

  탄소나노튜브의 구조 및 분류· 탄소나노튜브는 우수한 전도성, 높은강도 및 탄성계수, 낮은 마찰계수 등우수한 특성을 가짐 -> 도전성 소재 및 고강도 구조용 소재분야로 응용· 흑연면이 ... 나노크기의 직경으로 말린 튜브형태롤 가짐흑연면이 말리는 각도 및 구조에 따라서 도체 또는 반도체의 특성을 보임벽을 이루고 있는 결합수에 따라 분류SWNT의 경우 직경이 1nm정도로써 ... 원료기체를 내려오게 하는 경우가 대부분임반응기체: C2H2, CH4, C2H4, C2H6, CO· 열화학 기상증착법 (Thermal Chemical Vapor Deposition)CVD

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.04.23

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  Carbon Nano Tube(탄소나노뉴브) (CNT)의 구조 및 물성, 응용기술, 응용제품

  )으로 분류된다.그림 6. ... CVD법site)의 역할을 한다. ... 구조2.2 CNT의 합성 및 정제2.2.1 Laser ablation법2.2.2 아크방전법(Arc discharge)2.2.3 화학기상증착법(Chemical vapor depositio,CVD

  리포트 | 26페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.01.26

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  CIGS 개론

  구조 및 작동원리4(2)제조 공정 과정9(3)특성14(4)장·단점156국내·외 개발현황177기술 상의 문제점 및 향후 방향18출처18태양전지의 종류Fig.1반도체소재에따른태양전지의분류단결정고효율 ... 반면에 MOCVD 또는 CVD 방법은 이들 두 방법에 비해 진공장치 내부의 오염이 적고, 불소(F)를 포함하는 가스를 이용한 플라스마 클리닝 방법을 이용하면 손쉽게 오염 물질을 제거할

  리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.02.08 | 수정일 2015.08.24

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  박막재료와 그 증착공정의 종류

  전자박막재료 증착 공정의 분류전자박막재료의 증착과정에는 크게 증기 증착 과정인 PVD 와 CVD, 열적 처리를 이용한 Thermal oxidation 세 가지로 나누어진다.1) PVD우선 ... 또 플라즈마를 이용하는 PECVD(Plasma enhanced CDV)로 분류되어 진다.① APCVD(atmospheric CVD)대기압에서의 공정으로 반응장비 제작이 용이하고 박막형성이 ... CVD 반응 장치CVD는 반응기 내부의 압력 정도에 따라 상압 CVD (atmospheric CVD;APCVD)와 저압 CVD(low-pressure CVD; LPCVD)로 나뉘고,

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.09.22

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