"광식각" 검색결과 1-20 / 514건

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  LG전자 생기원 지원(서류합격)

  대학교 4학년 때, 랩미팅 중에 실리콘 식각을 이용한 집광 및 광변환 필름에 대해 교수님께서 제안했습니다. ... 랩실 인원 모두에게 처음 시도하는 분야라 주저할 때, 저는 “나만의 연구분야를 개척하고 싶다”라는 결심이 생겨 집광 및 광변환 필름을 연구하기로 결심했습니다. ... 대하여 (입사 후 지원한 모집분야에서 본인이 기여할 수 있는 부분을 관련지식, 경험 등을 기반으로 기술해주십시오.)4차 산업의 기술적 발달로 따른 친환경 필름, 디스플레이, 태양광

  자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.12.29

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  SK 계열사 연구직 지원(SK 마이크로웍스솔루션즈)

  대학교 4학년 때, 랩미팅 중에 실리콘 식각을 이용한 집광 및 광변환 필름에 대해 교수님께서 제안했습니다. ... 랩실 인원 모두에게 처음 시도하는 분야라 주저할 때, 저는 “나만의 연구분야를 개척하고 싶다”라는 결심이 생겨 집광 및 광변환 필름을 연구하기로 결심했습니다. ... [기능성 필름 시장을 선도하는 연구개발자]4차 산업의 기술적 발달로 따른 친환경 필름, 디스플레이, 태양광 수요 증가로 기능성 필름 시장의 비중이 증가하고 있습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.12.29

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  반도체 8대 공정 정리

  이렇게 매끄럽게 해주는 이유는 , PR 이 빛을 받을 때 입사광과 웨이퍼에서 반사되는 반사광의 상호 간섭에 따라 발생되는 패턴 측면의 물결무늬 (standing wave) 를 감소시키기 ... 식각Ⅵ. 식각 식각 공정은 웨이퍼 위에 형성된 박막의 일부 혹은 전부를 깎아 내려가는 공정 이라고 정의할 수 있다 . ... 식각 공정의 종류에는 용액을 이용하는 습식 식각 (Wet Etch) 와 플라즈마를 이용하는 건식 식각 (Dry Etch) 가 있다 .

  리포트 | 56페이지 | 2,500원 | 등록일 2024.06.09

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  반도체공정기말대비

  감광제에 종류에서 음성, 양성 감광제의 장단점장점- 많은 종류 및 광범위한 현상액- 좋은 접착력과 습식 식각의 저항성- 아래와 같은 모형의 보상작용M-RM식각된 기판음성감광제음성 감광제의 ... 노광기술의 분류, 종류- 광노광기술 : 자외선 노광 기술- 방사노광기술 : x-선, 전자빔, 이온빔 노광기술- 비광노광기술 : 담금펜, 나노각인 노광기술2. ... 가장 범용으로 사용하는 식각장치?- 반응이온 식각장치11.

  시험자료 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.05.16

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  인하대 패터닝 예비보고서

  여기서 유기박막층은 전자주입층, 전자수송층, 발광층, 정공수송층, 정공주입층으로 구성되어 있으며 외부에 광을 방출해야 하므로 발광층은 광투과성이 있는 투명전극이 사용되고 있다.화학공학전공자가 ... 함으로써, 마스크로 보호되지 않은 부분들이 떨어져 나가게 하는 것이 이 공정의 기본 목표이다.# 식각의 종류 :건식 식각 : 플라즈마를 이용하는 식각으로, 물리적 건식 식각은 이방성 ... 이 식각의 경우 일반적으로 공정 제어가 어렵고, 식각 가능한 선폭이 제한적이며, 사용한 식각 용액의 후처리 문제가 있다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.15

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  [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트

  도포된 PR film에 잔존하고 유기 용매 성분을 제거하고 경화시켜 광화학 반응이 잘 되도록 하기 위해 pre-bake를 실시한다. ... Pre-bake된 기판 위의 PR film에 원하는 pattern의 photo-mask를 통하여 UV광을 선택적으로 투과시키어 노광시키고 PR film에 UV의 선택적인 노광을 거치면서 ... ITO etchant에 dipping하여 경과를 보면서 ITO를 식각 후, 식각된 부분 이외에 남아있는 PR을 제거하기 위하여 stripper에 dipping하여 제거한다4.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  LG 이노텍 산학장학생 지원 (서류합격)

  이는 불소화 표면 처리에 따른 복제도가 99.5%를 상회하는 우수한 소프트 몰드 제작기술을 개발하고 기존 대비 14% 향상된 광변환 효율과 오염 및 반사 방지 효과까지 갖춘 필름을 ... 현재 식각 속도를 조절하여 최대 1 : 20의 종횡비를 가진 다공성 몰드 제작 조건과 분당 식각 속도와 등방성 식각 거동비 데이터를 확보하여 최근 SCI 논문으로 승인되었습니다. ... LG 이노텍의 선도적인 기술력으로 다시 한번 성공 신화를 만들어 낼 것이라 확신합니다.박사 학위과정 중 마이크로-나노 패터닝을 주요 연구주제로 고분자 물성 제어 및 건, 습식 식각을

  자기소개서 | 2페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.12.29

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  2019 패터닝 예비보고서 (74.5/80)

  빛을 조사한 부분은 광화학반응에 의해 포토 레지스트의 막질이 변화한다.리소그래피 공정 순서리소그래피 공정은 위의 그림과 같이 7가지로 분류할 수 있다. ... 포토리소그래피Lithography공정이란 노광 공정이라고도 하며 웨이퍼에 도포한 빛을 조사하여 광화학 반응을 발생시킴으로써 포토레지스트에 마스크 패턴을 전사하는 공정이며 반도체의 제조 ... 물리적 식각은 충돌이온, 원자 혹은 분자들의 운동량 이동에 따른 식각이며, 기술에는 이온빔식각, 스피터식각이 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.04.14

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  2021 lg디스플레이 최종합격 자소서

  저희 팀은 PR의 Adhesion을 향상시켜 식각 형상을 개선시키는 프로젝트를 계획했습니다. ... 협업을 위한 자세현직 엔지니어의 협력을 효율적으로 이끌어내어 백색광과 PR의 상관관계 규명 프로젝트를 성공적으로 수행했습니다. ... KIDS 디스플레이 스쿨: 다양한 전공 시각의 중요성을 배우다나노공학개론에서 광소자와 OLED를 처음 접한 후, 3학년 여름방학 동안 KIDS 디스플레이 스쿨 교육에 참여했습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.07.06 | 수정일 2021.07.13

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  [2019 A+ 인하대 공업화학실험] 패터닝 예비보고서 공화실 예보

  광전류 IL은 접합 양단에 전압 강하를 일으키고 순방향 바이어스를 만들게 되며 순방향 바이어스 전류 IF를 발생시킨다. ... 캐리어인 P형 반도체와 전자가 캐리어인 N형 반도체를 접합시킨 공핍층에서 전자-정공 쌍을 생성하고 내부 전기장에 의해 정공은 P형 반도체 쪽으로 전자는 N형 반도체 쪽으로 이동함으로써 광전류 ... 건식 삭각 장치는 다음과 같이 분류할 수 있다.플라즈마 식각 장치원통형 플라즈마 식각 장치방전 영역-식각 영역 분리방전 영역-식각 영역 비분리평행 평판형 플라즈마 식각 장치발생 영역

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.13

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  Patterning and treatment of SiO2 thin films 예비보고서 A+

  사용하는 태양전지로, 광 전하에 의한 전자-정공 분리를 위하여 실리콘 박막 태양전지는 진성 실리콘을 사이에 두고 P형과 n형을 잇는 p-i-n 혹은 n-i-p형 구조를 이용합니다. ... 바이어스도 있는데, 이는 n형 반도체쪽에 증착 공정을 활용한 소자들에 대한 원리와 구조실리콘 박막 태양전지는 유리기판이나 플라스틱혹은 금속 기판의 상단에 실리콘 박막을 증착시켜 광흡수층으로써 ... 남아있는 PR을 제거한다.4) 식각(etching)의 종류와 정의식각이란 웨이퍼에 필요한 회로패턴 외의 회로를 제거하는 공정을 말합니다.이에는 습식식각과 건식식각이 있습니다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.01.02

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  KCC 합격 자기소개서 (전기)

  둘째, 충격을 완화하기 위해 입자를 PTFE(Teflon)로 코팅하였는데 두 가지 방법을 시도해도 처음에는 식각 문제가 발생하지 않았으나 층수가 증가함에 따라 다시 식각 문제가 발생하였습니다 ... 광필터는 가시광선 영역을 빛이 통과할 수 있도록 설계되었으며, 박막의 수와 두께에 의해 제어할 수 있었습니다. ... Aerosol Deposition 장비와의 교차점에 서로 다른 입자를 증착하고 다층막을 증착하여 광필터를 제조하였습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.10.31

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  인하대 패터닝 결과보고서

  최근에는 4차 산업혁명이 화두로 떠오르면서 인공지능(AI), 사물인터넷(ioT), 스마트팩토리 및 자동차의 전장화, 친환경차의 비중 확대를 비롯한 태양광, 풍력발전, 송전, 전력소비 ... 전 PR, 식각 후 식각된 박막, 그리고 남아있는 Photoresist의 두께를 측정하여 PR과 산화막의 식각 속도를 계산한다. ... 결과 이론Gas flow rate식각 가스로 C2F6/Ar을 사용한 경우 C2F6의 농도가 증가함에 따라 식각 속도도 증가하다가 40% ~60%에서 최대 식각 속도를 갖게 된다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.15

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  DB 하이텍 양산개발 직무 22년 하반기 면접 공부 자료(반도체 면접 자료)

  이에 따라 V.B에서는 정공이 형성되어 전자-정공쌍을 생성하게 되며, 이러한 쌍들은 내부 전기장에 의해 분리되어 광전류가 흐르게 된다.11. ... 이 때, Oxygen Vacancy에 Carrier가 Trap되어 재결합이 늦어지면서 전도에 기여하기 때문이다.※ Photocurrent(광전류) : 광전효과에 의해 방출된 전자가 ... 패터닝 공정이란 무엇인가패터닝 공정은 크게 증착(deposition)과 노광(lithography), 식각(etching)으로 구성된다.

  자기소개서 | 12페이지 | 5,000원 | 등록일 2024.03.28

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  [신소재기초실험]Wafer Wet Etching on lab

  세정(Cleaning)반도체 포토리소그래피 과정은 PhotoResis(이하 PR)가 빛에 의해 고분자화 및 광분해가 발생하기 때문에 uv가 차단된 공간(Clean Room)에서 진행되어야 ... 없음*단점여러 개의 공정 변수, 복잡한 물리 화학적 반응, 이온 충격이나 라디칼에 의한 손상 및 요염, 건식 식각이 어려운 물질 존재그림 2.7 건식 식각※Plasma란? ... 뿌려서 식각하는 방법-식각 용액이 웨이퍼 표면으로 이동-포면에서 화학적 반응-산화막은 물과 잘 접촉되는 친수성-실리콘은 물이 잘 안붙는 척수성-wafer 표면에 물이 묻는 정도를

  리포트 | 17페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.01.07

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  정보디스플레이학과 광전자공학 3차 준비 보고서 리소그라피 장비 종류 및 구동 방법

  추가로 식각(Etching)과 PR 박리까지 포함하는 경우도 있다. ... 통과한 광을 Lenz를 통해 확대 또는 축소하여 기판에 분할 전사하는 방식이다. ... 활성화 된 gas가 glass위 film과 반응하여 휘발성 반응물을 형성시켜 증착막을 식각 하는 방법이다.Dry etcher 장비 구성Process chamber, transfer

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30

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  A+ 박막의 패터닝 실험 예비보고서

  Etcher)㈁ 습식 식각- 이 공정은 반도체 공정에서 가장 광범위하게 사용되어지는 식각공정으로 화학 용액에 웨이퍼를 넣어 화학반응을 일으켜 선별적으로 식각이 일어나게 하는 방법이다 ... 마지막으로 웨이퍼 표면위에 남은 PR 층에 따라 도핑 공정이나 식각 공정을 통해 원하는 부분을 식각한다.D) 식각(etching)의 종류와 정의 (식각 장비의 종류와 원리를 중점적으로 ... 전 PR, 식각 후 식각 된 박막, 그리고 남아 있는 PR의 두께를 측정하여 PR 과 산화막의 식각 속도를 계산한다.5.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.01.27

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  2019 패터닝 결과보고서 (74.5/80)

  또한 실리콘 웨이퍼는 에너지갭이 넓어 고온에서도 소자가 움직일 수 있다는 장점 때문에 반도체 소자 제조용 재료로서 광범위하게 사용되고 있다.ArAr 플라즈마의 경우 전기장에 의해 가속된 ... 사용되며 C2F6 화학적 식각을 Ar은 물리적 식각을 하게된다. ... Ar+에 의한 물리적 식각과 F 라디칼에 의한 화학적 식각 조건이 가장 빠른 식각 속도를 형성하는 적정 비율임을 알 수 있다.

  리포트 | 9페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.04.14

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  Photo lithography 예비보고서

  이용하여 진공을 형성하고 플라즈마를 충돌시켜 산화막을 제거한다.남아있는 PR코팅을 제거하면 원하는 패턴을 얻을 수 있다.주의사항실험 과정 중에서 시료가 태양광에 노출되지 않도록 한다 ... ]과 같이 PR용액으로 코팅되어 있지 않은 산화막을 깍아내는 작업으로 습식식각 방식과 건식식각 방식이 존재한다. ... [그림3] 식각공정습식식각 방식은 용액을 이용하여 이루어지는데 용액과 산화막의 화학적 반응을 이용하여 이루어 진다.

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.10.13

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  우리나라 반도체 상장기업 정리

  , 태양광 제조용 식각장비, 에싱(Asher) 장비에 적용 가능함.SiC Ring티씨케이동사는 1996년 8월고순도 흑연제품의 제조, 수입 및 판매를 목적으로 '한국 도카이카본'으로 ... 주식회사로 설립되어 1998년 상호를 대백신소재로 변경하였고, 1999년 12월 코스닥시장에 상장된 후 세 차례의 상호 변경 후 SK머티리얼즈가 됨.동사는 반도체, 디스플레이, 태양광 ... Etcher에이피티씨동사는 반도체 제조 공정 중 식각 공정에 필요한 장비를 제조, 판매하고 있으며 주력 제품은 300mm 실리콘 식각 장비(Poly Etcher)등이 있음.동사가

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.10.29

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