"스퍼터 특징" 검색결과 1-20 / 95건

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  반도체 공정 term project

  개발 중에 있다.향후 전략으로 국내 최고의 반도체 및 디스플레이어 장비업체로 성장하며 세계 최고의 장비제어 및 자동화 기술 보유를 바탕으로 성장해 나가는 회사이다.주력 제품 및 특징으로는 ... 디스플레이 및 메모리 반도체의 수요가 점차 증가함에 따라 스퍼터 장비의 성능향상 및 시장 확대가 이루어질 것으로 예상되며 스퍼터 장비의 세계시장은 2013년 43억 5,000만 달러에서 ... 이온 에너지는 전압에 의존하기 때문에 결국 스퍼터 속도는 sheath voltage에 의존하게 된다.

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  시킴과 동시에 스퍼터 원자는 기판상에 도달하여 박막을 형성하는 원리를 이용한 방법이다. ... 스퍼터링법에 의한 박막 제조 기술의 특징1) 금속, 합금, 절연물 등 폭넓은 재료의 박막제작 가능2) 적절한 조건의 설정에 의해 다 원계의 복잡한 조성의 Target을 사용해도 거의 ... 방전가스는 불활성 기체인 Ar가스를 사용하고 방전용 전력원으로는 직류 전원 또는 고주파 전원을 사용한다, 그 특징으로는 다음과 같다.1) 금속, 합금, 절연물 등 폭넓은 재료의 박막이

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  설계프로젝트 면도날의 설계 수행 보고서

  타겟을 구비하고, 상기 스퍼터 타겟은 상기 면도날 에지와 면도날에 증착되는 제1성분과 제2성분을 포함하는 것을 특징으로 한다. ... 면도날 에지를 형성하는 제2과정과, 상기 형성된 면도날 에지 위에 다수개의 코팅재료를 증착하는 제3과정을 포함하며, 상기 제3과정에서 스퍼터링 장치를 사용하되, 상기 스퍼터링 장치에 스퍼터

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.27

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  CMOS 제조 공정 실험 레포트(예비,결과)

  습식 산화는 900~1,000℃의 수증기에 노출시키는 방법으로 빠른 산화 속도가 특징이며, 건식 산화는 1,200℃의 산소에 노출시켜 치밀한 구조를 갖도록 하는 방법이다. ... 에칭 방법에 따라서 플라즈마 에칭, 스퍼터 에칭으로 나눌 수 있다. [1],[2]다음은 반도체 내에 도핑을 시켜서 n웰이나 p웰을 형성해야 하는데, 도핑 방법에는 이온 주입법과 확산법이

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

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  [예비레포트] MOSFET에서의 전기적 특성 관찰(transfer curve)

  드레인-기판(D-B), 소스-기판(S-B) 사이에는 PN접합이 형성되어 있으며, 이들은 항상 역 바이어스가 걸려 있어야 정상 동작한다.MOSFET 구조 특징단자 구분: 4단자Gate ... 영역을 확산시킨 것MOSFET 공정기술반도체 공정 기술산화 (Oxidation)포토공정 (Photolithography)에칭 (Etching)확산 (Diffusion)열 증착법과 스퍼터

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.11.26

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  정보디스플레이학과 광전자공학 3차 준비 보고서 리소그라피 장비 종류 및 구동 방법

  Mask 수 저감 및 성능 향상을 위한 가격, 기술력이 필요하다.EtchingWet etching스퍼터에서 증착된 금속을 화학약품(etchant)을 사용하여 원하는 모양(photo ... 물질을 이용하고, 모두 끝난 뒤에는 Hard baking(Curing)을 하여 완성된 패턴을 고온으로 가열해 경화시킴으로써 Etch 저항성 및 기판과의 접착성을 증대시키는 것이 특징이다.Immersion

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30

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  [박막공학실험]이온스퍼터링과 탄소코팅

  스퍼터링법이 진공증착 및 이온 플레이팅과 다른 가장 큰 차이점은 증착시킬 소스 물질에 운동량을 직접 전달한다는 점이다.그림 3 스퍼터된 원자들의 기판증착.라. ... 열방사형에 비하여 휘도가 1,000배 정도 높고 방사원의 크기가 나노 스케일로 작으며 에너지 분산도가 0.3%로 낮기 떄문에 다음의 두가지 중요한 특징을 갖는다.

  리포트 | 9페이지 | 3,500원 | 등록일 2023.03.07

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  (glow discharge) 2) Sputtering의 특징① 거의 모든 원소를 sputtering 할 수 있으며 합금이나 화합물도 조성을 유지하면서 증착이 가능② 고용되지 않는 ... 즉, 타깃재료성분 그대로 스퍼터 코팅이 되기 때문이다.- 높은 에너지의 공정이므로 밀착강도가 높다.? ... 이와 같이 원자 또는 분자 레벨의 입자가 큰 에너지를 갖고 고체와 충돌할 때에 고체를 이루는 원자가 외부로 튀어나가는 현상을 스퍼터링 또는 스퍼터라 부른다.

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  RF 마그네트론 스퍼터링 및 전자빔 이베이퍼 증착 방법 및 과정 애니메이션

  특징 비교를 위해 80nm 의 GZO 단층 준비{nameOfApplication=Show} ... RF 마그네트론 스퍼터로 유리 기판 위에 GZO 층 증착 3. ... RF 마그네트론 스퍼터로 유리 기판 위에 GZO 층 증착 GZO Glass Substrate GZO 3.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2017.05.12 | 수정일 2017.05.15

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  투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

  스퍼터링 공정을 진행하는 장비를 스퍼터 혹은 스퍼터링 시스템이라 한다.스퍼터링 방식은 Hyperlink "https://ko.wikipedia.org/w/index.php? ... -활성탄의 교체가 주기적으로 필요하다.이온 펌프(ion pump)특징-이온화 과정을 이용하기 때문에(Sputter ion pump)라고 부르기도 한다.장점단점-배기 성능이 뛰어나지만 ... -가스 포집방식의 펌프(비교적 고진공을 만듦)크라이오 펌프(Cryo pump)특징-압축기와 저온봉이 일체화된 스터링 형과 저온봉은 펌프내에, 압축기는 따로 외부에 설치하는 G-M형으로

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

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  PVD 원리와 종류

  예를 들면, 스퍼터 증발법이나 이온화(플라즈마화), 바이어스 전압을 인가함으로써 박막 성질을 개선하는 것이다.물리증착의 큰 특징은 저온에서 증착이 양호한 피막을 얻을 수 있고, 대단히 ... 이러한 특징을 갖는 PVD법의 종류는 다음과 같다.(1) Evaporation그림4. ... 이 세가지 기본법은 각각의 특징을 개선하거나, 보충하여 목적에 맞는 성막조건을 얻기 위해 여러 가지 방법이 이용된다.

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.27

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  결과보고서 2. RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  sputtering)이라고 하며 표에서 글로우방전 스퍼터를 말한다.특징을 정리해 보면, 먼저 장점으로는 여러 가지 다른 재료에서도 성막속도가 안정되고 비슷하며 균일한 성막이 가능하고step ... 타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다. ... 스퍼터 증착한 타겟 물질을 기판 위에 침착시켜서 박막을 형성하는 것을 스퍼터 증착(sputter depostion)이라고 한다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  스퍼터 원리와 종류

  -이 장치의 특징은 금속 필라멘트를 가열시켜 열전자(thermionic electron)를 방출시켜 이열전자가 마치 DC 스퍼터링에서 2차 전자의 역할을 수행하도록 한 것이다. ... 스퍼터의 원리와 종류*스퍼터의 원리Sputtering은 chamber내에 공급되는 gas cathode에서 발생되는 전자 사이의 충돌로부터 시작된다.그 과정을 보면 진공 chamber내에 ... *스퍼터의 종류-DC 스퍼터링은 diode 스퍼터링 또는 cathode 스퍼터링이라고 하며, 증착 속도는 기체의 압력과 전류 밀도에 의존한다.

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.30

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  E-Beam Evaporator를 이용한 박막 증착 원리 이해(결과보고서)

  sputtering)이라고 하며 표에서 글로우방전 스퍼터를 말한다.특징을 정리해 보면, 먼저 장점으로는 여러 가지 다른 재료에서도 성막속도가 안정되고 비슷하며 균일한 성막이 가능하고 ... 그러나, 단점으로는 E-beam이 금속과 부딪히면서 X-ray가 발생되어 기판을 손상시킬 수 있다는 특징이 있다. ... 타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다.

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.20

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  12DryEtching

  Electron이 Magnetic field에 따라 원운동을 함으로써 분자나 원자와의 충돌 횟수가 증가 되어 Ion화 효율을 증가Dry Etch의 특징장점 비등방성 식각(이온에 의한 ... 식각플라즈마RF 스퍼터링은 유전체를 포함 한 모든 종류의 고체물질을 스 퍼터 시킬수 있는 장점이 있다.반도체 공정에서 RF 스퍼터 식 각은 감광막이 두껍고 식각해야 할 박막이 매우 ... 되는 속도가 비슷하며 주로 습식에칭에서 나타 난다.이방성에칭 : 특정한 방향으로의 에칭속도가 빠 른 경우이며 주로 건식에칭에서 나 타난다.Sputter Etching이온빔 식각RF 스퍼터

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  [초전도체][초전도체 특성][초전도체와 전기전도][초전도체 성형법][초전도체 응용기술]초전도체의 정의, 초전도체의 특성, 초전도체와 전기전도, 초전도체 성형법, 초전도체 응용기술

  기체상법의 특징의 하나는 기판 재질, 증착 조건의 제어에 따라 결정 배향성이 우수한 고균질 막의 합성이 가능한 것이다. ... 물리 증착 중 스퍼터법은 성분 원효인 산화물 소결체나 금속 과녁을 Ar이온으로 스퍼터하여 목적으로 하는 원자를 때려 기판위에 퇴적시키는 방법이다. ... 또 후자에 대하여는 주로 기체상법에 따른 스퍼터법, 진공 증착법 등에 의한 박막 제작법이 연구되어 있다.1.

  리포트 | 6페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.01

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  진공증착과 음극스퍼터링

  만들어 진다.특징을 요약하면 아래와 같다.1. ... 대형기판에는 suppter가 이용되게 되었다.진공증착의 특징1. 막형성의 속도가 빠르다.(supper보다 몇배 빠르다.)2. 분자의 에너지가 적기 때문에 부착력은 약하다. ... cathode discharge 에 의해 glow discharge 를 유지2) 응용― 초경 공구 ⇒ TiN, TiC― 고속도 공구― 내식성 도금― 장식성 도금― 전자 부품3) 특징

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.11

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  이온플레이팅

  이렇게 하여 나온 저전압대전류 ( 수십V, 300~600A)의 전자빔에 의해 금속을 용융, 증발시켜 이온화하여 기판에 피복시킨다.이 방법의 특징은 다음과 같다.① HCD 건에서 나온 ... 아래 그림3에 몇몇 가능한 형태를 나타내었다.- 진공 시스템이 시스템은 스퍼터 증착 장비와 유사하다. ... 잘 맞춰진 압력과 약간의 오염물의 탈착이 플라즈마에서 오염 농도를 낮게 유지하기 위해 요구 된다.- 개스취급시스템이 장비도 역시 스퍼터 증착과 유사하다.

  리포트 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.07.03

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  [실험레포트] ICP, AAS

  또 고체 시료를 흑연 도가니 중에 넣어서 증발시키거나 음극 스퍼터(Sputtering)에 의하여 원자와 시키는 방법도 있다. ... 주요 측정원소에 따라서 불꽃을 만들기 위한 조연성 가스와 가연성 가스의 조합, 불꽃의 온도, 특징은 과 같다.어떠한 종류의 불꽃이라도 가연성 가스와 조연성 가스구된다. ... 또 분석 목적에 따라 다른 가스를 사용해야 한다.● AAS에서의 방해현상의 종류와 방지 방법AAS에서 각 원자의 흡수 스펙트럼은 원소마다 특징적이며 예민하기 때문에 다른 원소의 스펙트럼과는

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.12.05

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  진공 펌프 조사

  같이 고정된 정지자(stator)가 있고 그 속을 회전자(rotor)가 회전하게 되는데, 회전자의 크기가 약간 작고 그 회전 중심이 정지자의 중심으로부터 약간 어긋나 있는 것이 특징이다 ... 이므로 일정 사용시간이 지나면 펌프가 차게되어 배기속도가 심하게 떨어진다.이 때가 되면 배기능력을 회복하여야 하는데 이 과정을 '재생(regeneration)'이라 부른다.2.이온스퍼터펌프이름에서

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.12.03

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