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"포토마스크" 검색결과 1-20 / 243건

  • 토판포토마스크
    기업보고서
  • [소감문] 1, 2, 3강 Applications of Carbon Nanotubes, Photomask technology, Oxide TFT Technology for AMOLED
    : 포토마스크가 화소 하나하나(패턴)를 만든다.포토마스크를 구성하는 세가지 : 쿼츠(QUARTZ), 패턴(화소), 패리클(PELLICLE)포토마스크란 : 빛을 쪼여 LCD 패널에 원하는 ... 모양을 그대로 전사시켜주는 매개체이다.포토마스크에서 POSITIVE, NEGATIVE 란? ... : 포토마스크의 패턴을 보호하는 막. 광원으로부터 원치않는 패턴이 생기지 않도록 패턴을 보호하는 역할.
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.05.14
  • 포토마스크 펠리클 제조를 위한 Aluminum Frame 표면 세정공정 연구
    한국재료학회 김현태, 김향란, 김민수, 이준, 장성해, 최인찬, 박진구
    논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • 포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비
    포토마스크 제조공정 , 재료 및 제조설비 포토마스크란 ? ... 오염으로부터 보호하고 포토마스크의 사용 수명 연장 포토마스크 세정 주기를 연장하고 반복적인 포토마 스크의 사용시 오염원으로 부터의 격리1. ... 포토마스크 제조공정 , 재료 및 제조설비 재료 블랭크 마스크 반도체 및 TFT- LCD,Color Filter 등을 제조하는데 필수 구성요소인 포토마스크를 생산하기 위한 재료 패턴이
    리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.10.05
  • 포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비
    반도체 및 LCD 제조시 매우 중요한 원재료로 사용되는 포토마스크(Photomask)는 유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화한 것입니다.즉, 투명한 석영기판 상층에 도포된 크롬 ... 포토마스크의 오염으로부터 보호? 포토마스크의 사용 수명 연장? 포토마스크 세정 주기의 연장? ... R/E/P/O/R/T포토마스크 제조공정 재료 및 제조설비노광 공정 및 스테퍼장비과목교수학과학번이름1.포토마스크 제조공정, 재료 및 제조설비(1)포토마스크란?
    리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.05
  • [시스템 관리] Photomask Team
    Photomask Team Web Service System경영학과 98학번 원상필1.시스템 개요ManageModel1.
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2003.12.07
  • (특집) 포토공정 심화 정리7편. Mask(Reticle)이란
    < (특집) 포토공정 심화 정리7편. Mask(Reticle)이란 >이번시간은 Mask(Reticle)를 주제로 다뤄보겠습니다.?무엇이 Photomask 일까요??? ... * PHOTOMASK? ... * Photomask 검사 공정?
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.16
  • 글로벌마케팅론. 고성과 팀운영사례연구
    토판포토마스크(주)1) 토판포토마스크(주)2005년 일본의 토판사가 듀폰으로부터 주식을 전략 인수하여 토판포토마스크로 상호를 변경하였다. ... 주요생산품은 발광 다이오드 제조업이며, 사원수는 195명, 매출액은 21년 기준 1,426억 3천만원이다.2) 연구토판포토마스크는 고성과작업시스템을 구축했다는 연구자료가 있다.이를 ... 노사공동으로 개최하는 생산성 향상 회의가 수시로 실시되며 월단위로도 정기 개최되고 있다.두 번째는 분임조 활동의 활성화인데, 제품개발을 위해 부설연구소를 설립하여 연구원들은 포토마스크
    리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.04.06
  • 숭실대 Photo-lithography 예비보고서
    빛을 이용한 포토마스크에서 기판의 감광성을 이용하여 화학 포토레지스트로 패턴을 찍어 내는 것이다. ... 포토 마스크를 이용하여 포토레지스트에 원하는 패턴을 만들고 최종적으로는 기판에 특정한 패턴을 형상화 할수 있다.주로 TFT(박막 트렌지스터) 공정에 사용되고 있다. ... 이렇게 원하는 모양의 물질을 쌓기 위해 빛을 이용하여 형태를 패터닝하는 과정을 포토리소그래피라고 한다.2.
    리포트 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.10.05
  • 에프에스티 기업 분석 자료
    FRD 펠리클 : 255억 원 (+28% yy)포토마스크(Photomask) 표면을 대기 중 분자나 다른 형태의 오염으로부터 보호해 주는 박막사용목적1. ... 주력사업 : 칠러 (챔버 온도조절장비) / 펠리클 (포토마스크용 보호막)주요고객 : 삼성전자 (동사 지분율 7% 보유)1. ... 포토마스크 사용 수명, 세정 주기 연장3. 오염 및 오염원으로부터 격리국내에서 당사만이 유일하게 제조→ 현재 내수시장 점유율 : 약 80%향후 긍정적인 기조1.
    리포트 | 7페이지 | 3,500원 | 등록일 2022.06.14
  • 에프에스티 고품격 기업분석 + 자기소개서
    온도조절장비인 칠러(Chiller)를 주력으로 생산하는 반도체 소재/장비 전문업체입니다.반도체용 펠리클이란 포토마스크(Photomask) 표면을 대기 중 분자나 다른 형태의 오염으로부터 ... 에프에스티 기업의 개황(1) 영업개황당사는 포토마스크용 보호막인 펠리클(Pellicle)과 반도체 및 디스플레이 공정에서 Process Chamber 내의 온도조건을 안정적으로 제어하는 ... 부문의 투자 확대로 인한 증설이 진행 중이기 때문에 규모는 지속적으로 증가할 것으로 판단되고 있습니다.② FPD용 펠리클FPD 제품을 생산하기 위한 Lithography 공정에서 포토마스크
    자기소개서 | 11페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.10.23
  • SK하이닉스 서류합격 자기소개서
    해결하기 위해 포토마스크를 여러번 다시 디자인하고, 포토공정과 소프트리소그래피공정을 여러번 처리해야했습니다. ... 이 소중한 경험을 통해 포토공정 외에도 다양한 패터닝과 관련하여 전문성을 획득할 수 있었습니다.4. ... 이를 공통적으로 꿰뚫는 키워드는 `패터닝`입니다.그 중 가장 노력해서 진행한 것은 Photomask를 이용하여 고분자를 패터닝하는 과정이었습니다. 6개월 정도 소요되었으며 목표는
    자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.08.14
  • 대학민국의 성과를 이룬 나노기술에 대한 탐구
    연구팀은 딱 딱한 형태의 기존 포토마스크의 한계를 극복하기 위해 유연하고 투명한 형태의 마스크를 사 용했다. ... 포토리소그래피는 설계 패턴이 그려진 마스크를 실리콘 웨이퍼나 글라스에 올린 후 빛을 쬐 회로를 만드는 기술이다. ... 이 과정에서 빛이 포토마스크와 기판 사이를 지날 때 회절현상이 발생해 패턴을 섬세하게 구현할 수 없어 해상력이 낮아지는 문제점이 있었다.
    리포트 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.11.24
  • ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학
    등이 있다.쓰이는 분야로는 웨이퍼, 포토마스크(photomask), 유리 기판, 광학 부품의 세정수지 부품의 표면 개질 접착, 도장, 인쇄, 증착, 땜납 등의 밀착성의 향상 워크 표면의
    리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.03
  • 원자현미경 (Atomic Force Microscopy)
    발전원자현미경은 다양한 기능과 장점을 가지고배 정도 빠르므로 영상을 얻는 속도도 대폭 향상되고 광학현미경의 시야도 크게 개선된 이점이 있다.이와 같은 도량형 원자현미경으로 측정된 포토마스크 ... (photomask) 의 형상이 아래에 나타나 있다.
    리포트 | 18페이지 | 4,000원 | 등록일 2020.06.26
  • 조선대 나노공정-리소그래피란 무엇이고, 반도체 공정에서 리소그래피는 어떻게 발전하였는가
    이런 것을 위해서는 리소그래피 장비와 포토마스크, 감광제와 같은 개별 요소 기술들도 계속 발전해야 합니다.우선 포토리소그래피 공정에 있어서 중요한 고려사항은 다음과 같습니다.포토리소그래피라고 ... 쉽게 말해 광을 이용해서 리소그래피를 하는 기술을 의미합니다.현대에 사용하는 포토리소그래피는 포토마스크라는 석판화로 이야기하면 그 원판의 패턴 영상을 그대로 웨이퍼에 옮겨서 원하는 ... 즉, 포토마스크에 특정하게 패터닝 기술들을 빛을 선택적으로 투과시킨 다음에 감광제를 노출하게 되고 감광제를 패턴한 이후에 감광제 패턴을 그대로 아래에 있는 증착된 필름으로 전사하게
    리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.22 | 수정일 2021.04.30
  • 현대물리실험 Photo-lithography 결과레포트
    공정 : 포토마스크의 회로를 빛에 조사시켜 웨이퍼에 전자회로 패턴을 현상시키는 공정을 의미한다.식각 공정 : 회로의 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거시키는 공정을 의미한다.증착, ... 의미한다.산화 공정 : 회로 사이의 전류가 흐르는 것을 막거나 이온 주입공정에서는 확산 방지막 역할을 하고, 잘못 식각되는 것을 막는 역할을 하는 산화막을 형성시키는 공정을 의미한다.포토
    리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.03.21
  • 숭실대 Photo-lithography 결과보고서
    실험에서 사용한 마스크실험에서 각 조마다 패턴의 모양을 다르게 제작하였다. ... 피펫, Acetone, IPA (Isopropanol), Sonicator, Spin coater, Photoresist (AZ-5214), Hot plate, Aligner, Photomask ... , 10 sec)③ Soft baking - Hot plate를 이용하여PR 용액의 용매를 날린다.(110 ℃, 1 min)④ Exposure (노광) - Aligner에 샘플을 Photomask
    리포트 | 4페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.10.05
  • 나노반도체실험 A+
    14cp)을 wafer 의 2/3 이 덮이도록 떨어뜨려 spin coating 을 한다.③ 90℃의 핫플레이트에서 1 분간 soft bake 를 한다.④ Aligner 로 옮긴 후 포토마스크와 ... 기판을 알맞은 위치로 맞춘 후, 모니터에 회절 무늬가 나타날 때까지 마스크와 기판을 최대한 가까이 붙여 회절무늬를 확인 후 노광(exposure)을 한다.⑤ 110℃ 핫플레이트에서
    리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.11.03
  • 분석화학 기기분석 Microfluidic Channel 실험 보고서 (학부 수석의 레포트 시리즈)
    그 중 photoresist는 light-sensitive material로, 특정 geometric pattern을 가지는 photomask를 위에 두고 빛에 expose 시켜주면
    리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.06.16
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2024년 07월 18일 목요일
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