"플라즈마 화학기상증착법" 검색결과 1-20 / 339건

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  플라즈마 화학기상 증착법에 의한 B이 첨가된 ZnO 박막의 증착에 관한 연구

  한국재료학회 최준영, 조해석, 김영진, 이용의, 김현준

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  플라즈마 화학기상증착법으로 성장시킨 탄소나노튜브의 미세구조 분석

  한국재료학회 윤종성, 윤존도, 박종봉, 박경수

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  증착온도와 La조성비가 ECR 플라즈마 화학기상증착법으로 증착한 (Pb, La)TiO3박막의 물성에 미치는 영향

  한국재료학회 정성웅, 박혜련, 이원종

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  유도결합 플라즈마 화학기상증착법을 이용한 Ni/SiO2/Si 기판에서 그라핀 제조

  한국재료학회 박영수, 허훈회, 김의태

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  유도결합 플라즈마 화학기상증착법에 의해 활성화된 탄소원자를 이용한 Ni/SiO2/Si 기판에서 그래핀 성장

  한국재료학회 람반낭, 김의태

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  ECR 플라즈마 화학기상증착법에 의한 0.12nm SiO2 환산두계를 갖는 Pb(Zr, Ti)O3유전박막의제조

  한국재료학회 김재환, 김용일, 위당문, 이원종

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  [신소재공학실험]박막 실험

  석영반응관의 한쪽 부분에서 반응 가스가 공급되고 반대편에는 반응가스의 배기구가 설치되어 있다.㉢ 금속 유기물 화학 기상증착MOCVD는 화학적 기상 성장법 중의 한가지로 유기금속의 열분해반응을 ... 기상증착법 공정도CVD합성법에서 탄소나노튜브는 이 미세 한 촉매금속 파티클 위에서 합성되기 때문에 이 미세한 촉매금속 파티클을 형성하는 것이 무엇보다도 중요하다. ... Sputter1) sputter물리 기상증착법은 원하는 박막 물질의 기판이나 덩어리에 에너지를 가하 여 운동에너지를 가지는 해당 물질이 물리적으로 분리되어 다른 기판에으로서 Fe,

  리포트 | 9페이지 | 3,600원 | 등록일 2022.08.28

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  PECVD에 대한 보고서

  PECVD란, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition의 약자로써, 플라즈마를 이용한 화학기상증착법이다. ... 물리적 기상증착법은 화학적 기상증착법에 비해서 저온에서 증착할 수 있다는 것이 이점인데, 이는 플라즈마를 사용하기 때문이다. ... 그러나 Plasma를 이용하기 때문에 이로 인한 기판의 손상이 일어난다는 단점이 존재한다.이는 먼저 화학 기상증착법이기 때문에 증착하고자 하는 물질의 기체가 필요하다.

  리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.11.14

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  CNT 이론적 배경 및 물성

  CVD는 열 화학 기상 증착법(thermal CVD), 촉매 화학 기상 증착법(Catalytic CVD), 플라즈마 기상 증착법(Plasma Enhance CVD)이 있다.CVD는 ... 플라즈마 화학 기상 증착법에 의한 합성법플라즈마 방식은 두 전극 사이에 인가되는 직류 또는 고주파 전계에 의하여 반응가스를 글로우 방전시키는 방법이다. ... 기상 증착법에 의한 합성법아래의 그림은 탄소나노튜브 합성에 사용한 열 CVD 합성장치이다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.06.10

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  반도체 박막 증착 공정의 분류 보고서 (3P)

  먼저 APCVD 공정은 열에너지를 활용하는 가장 기본적인 화학적 기상 증착법으로 대기압 상태의 chamber에 target 물질 가스를 유입시켜 wafer의 boundary layer에 ... 첫 번째 공정 법은 PVD(physics vapor deposition) 증착 공정(Fig.1)으로 물리적 기상 증착이라 불리며 물리적 방법을 활용해 반도체 금속 박막 증착에 주로 ... ), 3) PECVD(plasma enhanced cvd) 4) HDPCVD(high density plasma cvd)으로 분류된다.

  리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.03.14

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  ALD 예비보고서

  이 원자가 기판으로 전달되어 막이 증착되게 된다.② CVDCVD란 말 그대로 PVD가 물리적 기상 증착법이였다면, CVD는 화학적 기상 증착법을 의미한다. ... 물리적 기상 증착법이라고도 불리며 증착하고자 하는 박막과 같은 재료를 진공 중에서 증발 또는 sputtering 시켜 기판 위에 증착시키는 기술이다.증착 기법으로는 열증착법, 전자빔증발법 ... 화학 흡착은 원자 또는 분자가 흡착 표면과 화학결합력이 작용하여 새로운 화합물을 형성하는 것을 말하는데 ALD에서는 주입해준 가스나 플라즈마가 기판 표면에 붙는 현상을 화학흡착으로

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.12.15

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  재료공학실험1 - PECVD

  PECVD 공정플라즈마 화학 기상 증착법의 줄임말으로 플라즈마를 이용하여 원하는 물질을 기판에 증착시키는 공정을 의미하며, TFT의 절연막과 보호막 증착시 이용한다.여기서 플라즈마란 ... PECVD의 원리(1) 전기적으로 중성인 분자 상태의 기체에 강한 전압을 걸어주어 플라즈마상태를 만든다.(2) 기판 온도를 400도 정도로 높이고, 증착하고자 하는 표면과 증착하고자하는 ... 물질이 화학반응을 하도록 해준다.(3) 화학반응을 한 후 표면에 결합한 물질을 제외한 나머지 물질을 배출해준다.3.

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.09.20

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  반도체 8대 공정 제조기술 및 프로세스에 대한 자료

  CVD ( 플라즈마 화학 기상 증착 ) Electrochemical cathode oxidation ( 전기화학적 산화 ) + 900 ~ 1200 ° ... 잉곳 제조 쵸크랄스키법 ( Czochralski , CZ method) 산업현장 ingot growth Czochralski , CZ method Float-zone , FZ method ... oxidation ( 열산화 ) dry oxidation (more dense): O 2 ( 건식 ) wet oxidation (less dense): O 2 , H 2 O ( 습식 ) Plasma-Enhanced

  리포트 | 33페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.12.09 | 수정일 2021.12.13

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  CVD - PECVD

  ( 화학적 기상 증착법 ) (Chemical Vapor Deposition) - 화학적으로 증착 시키는 방법 (Deposition ( 증착 ) 이란 웨이퍼 위에 얇은 박막을 덮는 것을 ... CVD(PECVD) 개발 PECVD 는 열에너지를 적게 사용하는 대신 플라즈마 에너지를 보충하여 증착시키는 방식 PECVD+ 플라즈마 (Plasma) 진공 챔버에 비활성 기체 를 ... 목차 CVD - PECVDCVD 종류 CVD 열에너지 (AP,LPCVD) 플라즈마 에너지 (HDP,PECVD) 원자층 (ALCVD)CVD 란 ?

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.07.09 | 수정일 2020.07.11

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  ALD 예비보고서

  증착의 방법으로는 크게 물리적 기상증착방법(PVD, Physical Vapor Deposition)과 화학적 기상증착방법(CVD, Chemical Vapor Deposition)으로 ... 그 후 전자빔을 이용하여 층착물질을 가열하고 증발시켜 기판에 증착시킨다.증착하고자 하는 물질(타겟)을 막을 입힐 기판에 증착되게 하였을 때, 그 사이에 제4의 물질 상태인 플라즈마를 ... 이러한 과정에서 열분해, 광분해, 환원법, 산화작용, 산화환원반응 등 화학적인 반응이 일어난다.

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.12.16 | 수정일 2021.04.08

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  성균관대학교 일반대학원 화학공학과 학업계획서

  싶습니다.저는 또한 금속 배터리 응용 분야에서 아연 양극 안정화에 사용하기 위한 생체고분자 혼합 보호층 연구, 용액가공 무기열전박막의 최근 발전 연구, 냉열저장 시스템의 열전달 특성 연구, 화학용액증착법에 ... 자신의 학문적 지향저는 H2O/CH3OH 플라즈마에서 CoFeB 박막과 자기터널접합 스택의 식각 특성 연구, 다공성 저항 히터 지원 BixSb2-xTe3 열전 촉매를 통한 H2O2 ... 사선형 나선형 콜레스테릭을 사용하여 역설계된 메타표면으로 구현되는 동적 초분광 홀로그래피 연구, 전자 혀의 실시간 나트륨 이온 감지를 위해 합리적으로 설계된 그래핀 채널 연구, 기상

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2023.10.22

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정 최종보고서

  증착[1]증착은 웨이퍼 위에 박막을 형성하는 방법이다. 증착은 크게 물리기상증착(PVD), 화학기상증착(CVD), 원자층 화학증착(ALCVD) 세 가지가 있다. ... 화학기상증착은 화학적으로 반응이 일어나며 일어나는 증착과정으로 투입 물질이 시료와 반응하여 전혀 새로운 물질로 증착되어 박막이 형성되며 물리기상증착은 화학적 반응이 일어나지 않고 물리적인 ... 원자층 화학증착은 에피택시 결정성장법으로 기상화학증착과 달리 표면 막과 화학반응하여 표면성질을 변화시키는 증착 방법이다.여기서는 PVD를 실시하였는데, PVD 장비에는 evaporator와

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.01 | 수정일 2020.08.17

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  [2019최신 공업화학실험] 패터닝 예비보고서

  실리콘이나 유전체 증착에 사용하는 CVD(화학적 기상 증착법), 액체형 물질을 코팅할 때 사용하는 SOG(스핀 온 증착법), 구리 배선 증착에 사용하는 Electroplating( ... 습식 식각과 건식 식각이 있다. eq \o\ac(○,5) 박막 공정박막을 웨이퍼 위에 증착시켜 전기적인 특성을 갖게 하는 과정이다.금속 증착에 사용하는 PVD(물리적 기상 증착법), ... 이를 통해 반도체의 구조 및 반도체 제조 공정의 원리와 과정을 정확히 이해한다.실험 이론1) 플라즈마 (Plasma) 란?

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2020.01.31

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  탄소나노튜브의 종류,응용,전망

  나노튜브 1 합성방법 1.3 레이저증착법탄소 나노튜브 1 합성방법 1.3 화학 기상 증착법 플라즈마 를 이용한 화학기상 증착법탄소 나노튜브 1 합성방법 1.3 화학 기상 증착법 열 ... 을 이용한 화학기상 증착법탄소 나노튜브 1 물성 1.4 기존의 것보다 훨씬 뛰어난 차세대 신소재 탄소나노튜브의 물성응용 2응용 2 전자소재 2.1CNT 투명 전도성 필름 ITO 필름 ... 탄소 나노튜브 1 발전과정 1.1 연도 내용 1985 년 탄소 동소체 의 하나인 Fullerene 발견 – 해롤드 크로토 , 리차트 스몰리 1991 년 전기방전법으로 흑연 음극상에

  리포트 | 29페이지 | 7,000원 | 등록일 2020.03.01 | 수정일 2023.04.11

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  [물리학과][진공 및 박막실험]Furnace를 이용한 산화막 증착 결과보고서

  , 전기 화학적 양극 처리, 플라즈마 보강 화학 기상 증착(PECVD) 등 여러 가지 방법이 있지만, 고온의 환경에서 웨이퍼에 산화막을 형성하는 열산화가 가장 보편적인 방법이다.열산화 ... Furnance를 이용한 산화막 증착1. ... 이중 Furnace를 이용해서 산화막을 증착해보았다.4.

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.23

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