"AR coating" 검색결과 1-20 / 464건

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  반도체소자설계, 실바코를 통해 태양전지 효율 증가시키기

  Dual AR Coating 4. ... 최종 결과물 CONTENTS 적용된 배경 이론 FSF, BSF 시뮬레이션 결과 적용된 배경 이론 단일 코팅과 이중 코팅의 효율 비교 코드 분석 구조 설명 효율 비교 적용된 배경 이론

  리포트 | 20페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.06.09

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  숭실대 신소재공학실험1) 14주차 고분자 디바이스 예비보고서

  Ar 플라즈마는 산화 방지 능력 및 다양한 소재에 광범위한 가용성으로 인해 전처리 및 표면처리 세정에 사용되는 가장 일반적인 유형의 플라즈마 방식이다.3) Spin coating의 ... 원리 및 두께 조절 방법-spin coating의 원리스핀 코팅 방식이란 얇고 균일한 층을 제작하기 위해 미세 전자 산업의 반도체 공정에서 널리 사용되는 기법으로, 유체를 기판 위에 ... 올려놓고 고속으로 회전시키면서 원심력에 의해 유체를 넓게 펼치는 방식이다.스핀 코팅은 크게 3가지 과정(물질 도포, 회전, 경화)을 거쳐 진행하며, 적층을 통한 다층 코팅의 필름도

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2024.04.29

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  스퍼터링, 알파스텝과 시편 관련 조사 보고서

  플라즈마 상태의 Ar을 기판에 sputtering*Pt coating 실험방법? ... 실험 주제Sputtering(Pt coating), Alphastep, scratch tester의 원리에 대해 알아보고 직접 실험해 본다.2. ... Alphastep의 모습3) scratch tester스크래치 테스트는 금속, 세라믹, 폴리머 및 복합재료에 이르는 다양한 재료 기반의 코팅에 대하여, 스크래치법에 의해 기판과 코팅간의

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.11.24 | 수정일 2021.05.26

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  반도체 - CVD, PVD

  운반기체를 Ar로 하였을 때 1000Å 이하의 크기를 갖는 YSZ 입자들이 column 모양으로 기판에 수직하게 성장하였으며, 운반기체가 He인 경우에도 column 모양으로 성장하였으며 ... , number and sequence of process modules configurable- IC-PECVD guarantees mild coating process, no damage ... 97 %장점Mild coating process, no damage to emitter or interfacesHigh dynamic deposition rates for both

  리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.01.28

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  정보디스플레이학과 광전자공학 1차 결과 보고서 Mechanoluminescence(ML)

  그 뒤Spin coated 된 박막을 70도를 유지하는Hot plate에서 30분간 굳힌다. ... Phosphor의 양이 너무 많으면 최종 Solution이 너무 되게 만들어져 Spin coating을 할 때 박막이 제대로 퍼지지 않고 눌러 붙을 가능성이 있기 때문에 우리 조는 ... 따라 점도변화가 작고, 윤활성을 가지며, 전기 절연성이 작고 화학적으로 안정한 등 여러 분야에 유용하게 사용되고 있다.실험에서는 고체 가루인 Phosphor를 유리 기판에 Spin coating

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2024.01.30

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  A+ 박막의 패터닝 실험 예비보고서

  ) 광학 현미경을 사용하여 패턴된 산화막식각 [C2F6/Ar plasma]-‘표면 코팅 및 식각 장치’를 이용하여 C2F6/Ar plasma를 발생시켜 선택된 가스, pressure와 ... 첫째, PR(Photoresist)물질이 웨이퍼 표면에 spin-coat되고 Spin-coat된 막은 자외선, 전자, 엑스레이 등에 노출 되는데 이때 노출 tool, Mask, computer ... 최종검사성형된 칩의 전기적 특성 및 기능을 컴퓨터로 최종 검사한다.C) Lithography 란?

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.01.27

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  [레포트] 고려대학교 표면처리공학 과제 용융아연도금

  거칠기 제어 예비처리된 strip 을 H2 분위기에서 Zn 도금하여 표면이 다소 거칠어지면 Zn 도금 촉진되며 도금밀착성 향상 선도금 ( 전도금 , Pre-plating, Flash coating ... 소재가 가지고 있는 재질 및 형상을 교정하기 위한 Skinpass mill, Tension Leveller 등의 공정과 일시 방청이나 기능성을 부가하기 위한 후처리 공정 또는 기능성 코팅을 ... Flux 를 제어하여 그에 따른 표면에서의 물리화학적인 반응 을 통해 Cleaning 및 산화막 제거 뿐 아니라 표면 조도 및 결정상까지 제어하여 우수한 도금 밀착성 부여 를 꾀함 Ar

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.03.01

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  [신소재기초실험]MOS 소자 형성 및 C-V 특성 평가

  여기 실리콘 산화막층이 형성되면 표면은 실리콘 산화막층 두께에따라 다른 색깔을 띠게된다.3) 스핀코팅(감광처리)PR coating이라 함은 분사된 액상 PR을 높은 회전수로 회전시켜 ... Substrate)에 피복하여 간단한 방법으로 표면 경화층을 얻을 수 있는 것으로써, 가스반응을 이용한 CVD와 진공중에서 증착하거나 이온을 이용하는 PVD로 대별되며 공구 등의 코팅에 ... ^{+} +e ^{-}) 발생Ar ^{+}2) +가 target으로 가속3) Target의 원자들이 떨어져 기판 쪽으로 이동4) 원자들이 기판 위에서 응축, 얇은 Pt 박막을 형성마

  리포트 | 10페이지 | 3,600원 | 등록일 2020.04.19 | 수정일 2020.08.13

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  반도체공학실험 보고서(Mos cap, RRAM)

  우선 chamber를 진공(비교적 낮은 진공)상태로 만들고 Ar gas를 주입하고 cathode에 큰 negatice 전압을 걸면 target에서 전자가 나와서 Ar을 ionisation한다 ... 이러한 과정을 cycle이라고하며, cycle을 반복하여 원하는 두께로 coating할 수 있다. ... 또한 반응성이 높은 산소 gas로도 thin oxide film을 coating할 수 있다는 장점도 있다.

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.01.13

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  가스크로마토그래피 이론

  많이 사용 (Wall-coated Open Tubular)PLOT▪ 고정상이 컬럼 벽면에 고체상 물질을 피복한 형태로 기체시료나 탄화수소시료등의 분석에 적합(Porous Layer ... 메가보아 컬럼이 개발됨에 따라 유용성이 많이 사라짐 (Support-coated Open Tubular)Column3.2유리나 금속으로 구성되며 활성이지만 내구성이 있고 비극성 물질 ... 가진 분자 검출(전자친화도) alogen, Quinone, Peroxide 등에 감응이 좋고 Cl로 치환된 농약, 살충제, 약품류 응용가능Detector4.5원리 Rb2SO4 로 코팅된

  리포트 | 34페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.03.15 | 수정일 2020.11.13

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  반도체 공정 term project

  음극에 전압을 가하면 음극에서부터 방출된 전자들이 Ar기체원자와 충돌하여, Ar을 이온화시킨다. ... Glow discharge가 유지되기 위해서는 0.1 ∼ 2.0 mA/cm2의 전류 밀도가 필요한데(1 mA/cm2의 이온 current는 6×1015 singly chargedion ... Film Ph류계에 의해 Ar가스 기체가 양이온으로 이온화 된다.

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)

  세정 공정이 끝난 후 마지막으로 ITO 양극전극의 표면특성을 향상시키기 위해 plasma 처리를 하게 되는데 이 과정은 UV ozone cleaning과 마찬가지로 Ar 또는 산소 ... 실험 방법1) ITO 기판의 ScribingITO coating면을 위로 향하게 하여Scriber 위에 올려놓고 진공펌프를 작동시켜 고정시킨다.원하는 크기(35mm×35mm)의 Size로 ... 액체나 기체 상태의 이산화탄소를s)에 ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다.

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정 최종보고서

  포토리소그래피 공정의 순서는 다음과 같다. ① wafer cleaning, ② Photoresist spin coating, ③ soft baking(pre-baking), ④ 마스크 ... 이번실험에서는 Gamma APS(3-aminopropyltrieth- oxysilane)라고 하는 물질을 사용하였다.(5) 스핀코팅스핀코팅은 웨이퍼 전체에 필요한 두께의 감광제 박막을 ... Foreling valve를 열었다.⑤ turbo pump를 켜고 진공도가 10-6torr가 되도록 했다.⑥ 이후 로드락 챔버에 웨이퍼를 집어넣고 웨이퍼를 메인 챔버에 집어 넣었다.⑦ Ar가스를

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.01 | 수정일 2020.08.17

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  서울시립대학교 일반대학원 화학공학과 연구계획서

  산소환원반응용 단원자 촉매 연구, 비수성 Li-공기 배터리의 음극용 메조다공성 탄소 지원 코발트 및 철 이원 수산화물 촉매 연구, pH 조절에 의해 합성된 중공 구조의 PtNi/C ... 캡슐화된 균일하게 분포된 Cu-ZnO(-Al2O3) 나노입자 연구 등을 하고 싶습니다.저는 또한 화재안전 및 폴리우레탄의 기계적 강화를 위한 Kabachnik-Fields 반응을 통한 Ar-P-N ... 연구계획서저는 서울시립대학교 대학원 화학공학과에 진학한 다음에 광촉매를 코팅한 모르타르의 미세먼지 저감 성능 연구, 탄소사슬 치환체에 따른 메탈로센 촉매 특성 연구, Zinc glutarate

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2024.05.09

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  반도체 금속공정

  - photo- develop- Al etch- PR strip- 절연막 (SiO 2 ) 증착 PR coating- photo- develop- SiO 2 etch- PR strip ... 방지막 필요 패턴 형성 어려움 - damascene 공정 사용해야Materials-Al/Cu Al 배선 공정 (RIE) Cu 배선 공정 (damascene) Al 증착 - PR coating ... 물리적 변화 ( 상변화 등 ) 를 이용하여 증착 thermal evaporation : 열에너지를 이용하여 입자를 이동시켜 증착 s puttering : 전압으로 비활성기체 ( Ar

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.02.26

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  연세대 신소재공학부 대학원 학업계획서

  수학 및 연구계획저는 연세대학교 신소재공학부 OOOOO OOOOO 연구실에서 WC-금속 분말을 사용한 HVOF 코팅 및 코팅의 레이저 열처리에 의한 Inconel718의 표면 특성 ... 대한 반응이 향상된 Au 장식 폴리아닐린-ZnO 전기방사 복합 나노섬유 가스 센서 개발 연구, 저온 실리콘 에피택시를 위한 HF 디핑에 의한 Ex-situ 웨이퍼 표면 세정 연구, Ar

  자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2022.10.06

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  Cask of Amontilado

  What is significance of Montresor’s family coat of arms and motto? ... The coat of arms is a golden foot on a field of blue, crushing a serpent that is biting the heel of the ... Amontillado, and if he felt Montresor had a problem with him I don't think he would have went in a dark cellar

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.04 | 수정일 2023.06.08

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  [반도체공학실험]반도체 패터닝

  이 산화막을 씌운 실리콘 웨이퍼에 감광액(PR)을 코팅하여 패턴을 새기면서 만들어진다.3) Etching gas (Ar,C _{2} F _{6},O _{2}) : Ar,C _{2} ... 실험 과정1) 리소그래피 된 박막 2조각을 Main chamber에 넣는다.2) Main chamber를 진공상태로 만든다.3) 식각기체(Ar,C _{2} F _{6})를 일정 SCCM ... [Ar(10SCCM),C _{2} F _{6}(20CCM)]4) 기체 압력을 0.2torr로 조절한다.5) power를 200W로 설정하고 플라즈마를 형성한다. (2분동안 진행)6)

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.08.28

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  [2019최신 공업화학실험] 패터닝 결과보고서

  는 고정시키고 C2F6/Ar만 변화시켜 압력에 따른 식각 속도를 나타낸 그래프이다.x축은 C2F6의 비율, y축은 그에 따른 식각 속도를 나타낸다.C2F6와 Ar을 섞은 가스에서 ... 즉, PR코팅만 마친 상태. eq \o\ac(○,2) RIE의 전원을 켜고 핀셋으로 시료 1, 시료 2를 챔버에 넣어준다. ... 이온화 에너지가 커지면 Ar은 쉽게 플라즈마 상태가 되고, C2F6은 쉽게 라디칼이 된다. 즉 Ar 양이온 농도가 증가하고, 플라즈마의 밀도도 증가한다.

  리포트 | 15페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.01.31 | 수정일 2020.02.10

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  부산대학교 MEMS 실험 3 (박막형 반도체 가스센서) 결과 보고서

  PR도포 시에는 최대한 기판 중앙에 떨어뜨리도록 하며, spin coating을 할 때 관찰을 통해 comet현상이 일어나지는 않는지, 일어난다면 다시 실험할 수 있도록 해야 한다. ... (이유 : SnO{}_{2}가 외부에 있어서 이물질이 묻어 있을 수도 있기 때문에 이를 제거하기 위해서)공정 시간 : 4시간Ar : 23sccm, O{}_{2} : 7sccm (약 ... 공정 조건 확인 후 Etching-공정 조건-공정시간 : 1조는 1분,3분 / 2조는 5분공정가스 : CF{}_{4} 10sccm, Ar : 5sccmWorking pressure

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.05.17 | 수정일 2023.05.10

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