"DC Magnetron sputtering" 검색결과 1-20 / 131건

• 

  DC Magnetron sputtering

  존재DC magnetron sputtering의 장점① 높은 증착 속도② 낮은 sputtering 압력③ 기판 온도 감소④ 산업적 규모의 공정으로 변환이 용이Unbalanced magnetron ... DC Magnetron sputteringSputtering의 원리이온 스퍼터링은 에너지를 가진 입자에 의해 표면을 bomardment하여 이때의 운동량 교환으로 고체 표면 으로부터 ... processDC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron sputtering다음 두 가지 방법이 기본이다.(1) metallic

  리포트 | 12페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

  다운로드 장바구니
• 

  재료공학실험(세라믹) 최종 보고서

  장치에 가스를 주입할 때 정확한 양 조절을 위한 장치-Chamber: 진공상태로 만들어진 후 Sputtering이 이루어지는 장소-Power: 전원 공급 장치-Substrate: sputtering을 ... STG를 이용하여 spot이 타원으로 되는 것을 보정하여 원 형상의 spot이 되도록 맞춘다.10. 6-7 과정을 저배율에서 고배율로 가면서 반복한다.5 실험 결과5.1 DC Sputtering박막 ... 실험 목적Magnetron 스퍼터링을 이용하여 각각의 웨이퍼에 재료를 증착시킨 후 박막 형성 결과에 대한 다양한 특성 평가를 진행한다.2.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.09.08

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 공정 term project

  이러한 현상을 물리학에서는 “sputtering”이라고 말한다.1)DC 스퍼터링1. ... ’이라고 부르기도 한다).DC sputtering은 코팅으로 사용될 target material에 이온화 된 가스 분자가 충돌하여 원자가 플라즈마로 sputtering되는 PVD(Thin ... DC Sputtering방법은 직류전원을 이용한 Sputtering 방법으로 구조가 간단하며 가장 표준적인 sputter 장치이다.

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

  다운로드 장바구니
• 

  Low-Temperature Deposition of Ga-Doped ZnO Films for Transparent Electrodes by Pulsed DC Magnetron Sputtering

  한국재료학회 Dongkeun Cheon, Kyung-Jun Ahn, Woong Lee

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  Evaporator_Sputter 레포트

  Magnetron Sputtering 등이 있다.먼저 DC Sputtering은 직류 전원을 이용한 스퍼터링 방법이다. ... 하지만, Magnetron 스퍼터링을 제외한 나머지에서 증착 속도가 낮고, 높은 에너지를 이용한 충돌에 의해 박막이 불균일하게 증착되고 Damage 발생 요인이 된다. ... DC Sputtering 구조 [5]또한, RF 스퍼터링에 비해서 증착 속도가 빠르고 박막의 균일도가 크며, 밀착 강도가 높다는 장점이 있다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.11.08

  다운로드 장바구니
• 

  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  종류 ① DC sputtering직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. ... DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다. ... 따라서 전자가 어느 한 쪽으로 몰리게 되면 다른 전극에는 ion으로 생성된 sheath가 생기게 되며 DC의 경우와 마찬가지로 sputtering이 발생하게 된다.

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

  다운로드 장바구니
• 

  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  마그네트론 Sputtering 법에 의한 ITO 박막의 합성1) RF, DC, Pulse DC-Sputtering System으로 건조시킨 glass 기판 사용하여 합성다. ... 전극으로 사용되고 있다.일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering ... 여기서, 측정시료의 형상이 단면적 S로 일정한 길이 L의 도선이라고 하면, 비 저항은 다음과 같이 구할 수 있다.ρ = (S/L)R = (S/L)(V/I)그림 2 point probe

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

  다운로드 장바구니
• 

  신소재프로젝트3 광전자 A+ 예비레포트

  솔라시뮬레이터의 분광조사강도 측정을 위해서는 분광복사계(spectroradiometer)라는 측정기와 표준전구(standard lamp)라는 표준기(standard)가 요구되는데, ... 실리콘 계열 및 대다수 화합물 박막 태양전지는 대부분 수십 μsec 이하의 매우 빠른 광 응답속도를 가지고 있다. ... CZT(S,Se) 박막 태양전지의 기본 구조는 p-n 접합 구조와 이의 양면에 각각 음극 전극으로 사용되는 금속전극과 양극 전극으로 사용되는 투명전극으로 구성된다.

  리포트 | 14페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.10.07

  다운로드 장바구니
• 

  sputtering (스퍼터링)

  DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering 되지 않는다. ... 않아 균일한 두께의 증착이 어려움스퍼터링 (sputtering)의 종류1) DC sputtering소스2) RF sputtering부도체 박막을 증착 시키기 위해 개발된 방법으로, ... 크게 sputtering과 evaporation으로 나눌 수 있다.스퍼터링 (sputtering)의 원리스퍼터링은 DC 또는 RF 전원이 두 전극 사이에 가해지면 음극에서 방출, 가속된

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.12.07

  다운로드 장바구니
• 

  투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

  Reactive sputtering에 적합③DC/RF 마그네트론 스퍼터링 장치기존 스퍼터링 방법에 자기장을 사용하면 마그네트론이라는 단어를 붙여 마그네트론 스퍼터링 방법의 특징을 띄게 ... Reactive sputtering : RF보다 불리함-RF sputtering-a. 전도체, 절연체, 비금속, 유전체b. HIP 또는 sintered powderc. ... 등 최첨단 전자 디바이스 제작에 폭넓게 이용되고 있다.여기에서 산화물이나 질화물박막을 원하는 조성으로 증착하고 싶을 때 추가적으로 가스를 공급하여 반응을 일으킬 수 있는데, 이를 DC

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

  다운로드 장바구니
• 

  [고체 물리] 스퍼터링 결과 보고서

  토의사항우리 실험의 목적은 박막 성장 방법 중의 하나인 sputtering을 이용해 substrate 물질인 silicon에 target물질인 구리를 증착시키는 것이다. ... 그리고 이러한 둥근 모양은 heat distribution이 골고루 잘 되게 한다.그리고 이 실험이 오래 걸렸던 이유 중 하나는 온도가 떨어질 때까지 기다려야했기 때문인데, sputtering에 ... 실리콘은 melted sand로부터 만들어 지는데, 이 것이 적정한 온도까지 올라갔을 때 crystal seed(씨 결정)을 melted sand에 떨어뜨리면, 결정이 자라나면서 회전하게

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.07.30

  다운로드 장바구니
• 

  진공의 이해

  진공의 이해진공이란 진공의 단위 및 분류 증착 장비 Magnetron Sputtering 플라즈마 기초 및 응용분야 플라즈마란? ... sputtering • 원리 - 충분한 농도(1~5CNT/나노 초정밀 가공/NEMS 소자나노산업생체재료/멸균/신약바이오 산업정보통신산업통신부품용 박막제조/EMI 부품/ 광통신 소자 ... N/m2= 7.5 x 10-3 Torr 주요 압력 단위 환산 관계진공의 단위 및 분류증착 장비증착 기술 - PVD (Physical Vapor Deposition) • 스퍼터링 (sputtering

  리포트 | 58페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.06.10

  다운로드 장바구니
• 

  VLSI공정 5장 문제정리

  sputtering와 RF sputtering을 비교하여라.glow방전을 위해 DC power를 사용하는 것이 DC sputtering 이며 타겟으로 금속만 가능하다.RF sputtering은 ... 13.56MHz의 RF power를 사용하여 자기 바이어스를 일으키므로 부도체 타겟도 가능하다.Magnetron 스퍼터링은? ... -대면적을 균일한 두께로 증착 가능-두께 조절 용이-정확한 합금성분 조절-step coverage, grain structure(입자구조), stress(응력) 조절가능-전처기 청결

  리포트 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

  다운로드 장바구니
• 

  표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용

  원형, 2차원 마그네트론 음극 개략도-마그네트론의 제한과 전자궤도를 설명 앞에서 본 바와 같이 magnetron target은 전형적으로 ‘racetrack' 형태로 sputter ... sputtering, RF plasma sputtering, magnetron sputtering등이 있다. ... 낮은 sputtering 압력?기판 온도 감소?산업적 규모의 공정으로 변환이 용이⑤ Unbalanced magnetron sputteringa. 특징?

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05

  다운로드 장바구니
• 

  SPUTTER

  그러나, 이온의 에너지가 너무 크면 이온 주입이 일어나 오히려 sputter yield는 감소한다.자료: Angstrom SciencesSputtering 종류DC sputtering ... 필라멘트를 가열시켜 열전자를 방출하여 이온화률 높여 낮은 압력과 전압에서 증착가능 Magnetron sputtering 강한 자기장을 이용하여 target 근처 plasma 밀도를 ... 이와 같은 상황을 아래 그림에 나타내었다.- 앞에서 본 바와 같이 magnetron target은 전형적으로 'racetrack'형태로 sputter erosion이 일어난다.

  리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.07

  다운로드 장바구니
• 

  D.C magnetron sputter법으로 증착된 TiAlN의 중간층에 따른 특성연구

  한국재료학회 김명호, 이도재, 이광민, 김운섭, 김민기, 박범수, 양국현

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  Influence of Plasma Discharge Power on the Electrical and Optical Properties of Aluminum Doped Zinc Oxide Thin Films

  한국재료학회 Moon, Yeon-Keon, Park, Jong-Wan

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  이러한 현상은 DC sputtering 의 경우 sputter 초기부터 target 뒷면의 영구자석을 회전시켜 주거나, 자석의 전류를 변화시키면 개선할 수 있다▶Magnetron Sputtering마그네트론 ... DC magnetron sputtering이라 한다.그림 4 Magnetron Sputtering System출처 : en.wikipedia.org/wiki/Sputteringhttp ... Sputtering인가된 전원이 직류(direct current, DC)일 경우를 직류스퍼터링법(DC sputtering)라 하며 일반적으로 전도체의 스퍼터링에 사용된다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

  다운로드 장바구니
• 

  부산대학교 졸업 논문 (Flexible Display용 PI기판 위 ITO 증착 시 Stage Temperature에 따른 특성 변화 연구)

  사용한 증착 장비는 DC/RF magnetron sputtering system이며, 측정 장비는 XRD, 4-point probe, UV-VIS spectrophotometer이다 ... 증착 장비로는 DC/RF magnetron sputtering system을 사용 했다. Table 1은 사전 실험 후 측정한 deposition rate를 보여준다. ... 또한, ITO가 다른 물질에 의해 오염이 되었을 수도 있으므로, pre-sputtering을 30분 동안 실시하였고, 증착이 완료된 시편은 알파스텝을 이용하여 두께를 측정했다.

  논문 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.05.18

  다운로드 장바구니
• 

  ZnO 투명 전도막의 전기적 특성에 미치는 Al2O3 의 도핑 농도 및 방전전력의 효과

  한국재료학회 박민우, 박강일, 김병섭, 이세종, 곽동주

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니