Electron beam lithography----------------------------------------p.12-(1) Electron beam lithography의 ... 현재 Electron beam lithography기술은 기존의 electron beam lithography, scanning probe lithography 등과 같은 직행과정이 ... 특히, 병행과정에 의한 electron beam lithography 기술은 소위 projection electron beam lithography기술로 통칭하여 부르는 기술로서,
Projection Lithog- raphy)이 사용될 것으로 예측하고 있다. ... EUV Lithography가 채택되어 선폭 45nm의 양산공정에 사용될 것으로 예측하고 있다.한편으로는 System on Chip과 같은 소량의 주문형 반도체 생산에는 EPL (Electron ... YAG laser beam이 gas jet assembly에서 분출된 Xenon cluster target(압력 10-15bar의 기체)에 집광되어 플라즈마를 발생하며, 이때 13.4nm의