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"GaN의 식각" 검색결과 1-20 / 45건

  • GaN의 식각
    실험목적ICP (Inductive Coupled Plasma)를 이용해 gas의 종류와 gas의 유량의 차이가 GaN의 식각에 어떤 영향을 미치는지 관찰Ⅱ. 본론1. ... 실어보내고 한 쪽에서는 암모니아 (NH3)를 불어넣어서 기판의 표면에서 TMGa의 Ga과 NH3의 N이 반응하여 GaN을 만들어내게 된다. ... 자주 발생하는 번갯불과 같은 것들이 플라즈마 상태라고 하면 이해하기가 쉬울 것이다.이중 공업적으로 이용이 활발한 플라즈마는 저온 글로우 방전 플라즈마로서 반도체 공정에서 플라즈마 식각
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2014.05.22
  • BCI3/H2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 GaN의 건식 식각에 관한 연구
    한국재료학회 김성대, 정석용, 이병택, 허증수
    논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • Cl2/h2 플라즈마 조건이 n-GaN 식각 특성 및 저저항 접촉 형성에 미치는 영향
    한국재료학회 김현수, 이용혁, 이재원, 김태일, 염근영
    논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • 2023 삼성전자 DS 공정설계 최종 합격 자기소개서
    같은 구조를 형성하는 공정이지만 습식 식각만 한 소자의 포화 전류가 작은 경향을 보였습니다.원인 분석 때 저는 식각 균일도를 고려하지 않았습니다. ... 컨택 홀을 형성할 때 RIE를 변수로 두고 습식 식각을 진행했습니다. ... 그에 비해 GaN의 경우 아직 상용화된 완성차에 적용된 경우는 존재하지 않습니다.
    자기소개서 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.07.23
  • DB하이텍 소자개발 직무 서류 합격 자소서 + 1차 면접 복기본
    또한 칩 간 분리를 위한 식각 중 알파스텝 측정 결과 언더에치로 인한 GaN층의 잔류를 확인했고 이는 쇼트를 야기하리라 판단했습니다. ... 따라서 식각 시간을 추가하여 칩 간 분리 구조를 성공적으로 형성했습니다. ... 한국나노기술원에서 교육생 대상 처음 제작된 마이크로LED 레시피를 각종 공정/계측 장비로 끊임없는 공정 개선을 도전하여 40μm의 마이크로LED 제작과 레시피 최적화에 성공했습니다.GaN
    자기소개서 | 4페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.08.03
  • 한양대 신소재공학부 대학원 연구계획서
    사용한 플라즈마 강화 원자층 증착으로 증착된 높은 습식 식각 저항 SiO2 필름 개발 연구, La(NO3)3·6H2O 산화제를 이용한 원자층 증착을 통해 제조된 HfOx 박막의 미세구조 ... 이미징 및 분석 연구, 플렉서블 소자 응용을 위한 2차원 나노물질에서 성장한 1차원 반도체 나노구조 개발 연구, Transferable, Flexible 원격 에피택시로 제작된 GaN ... 관한 연구 HVPE로 성장한 벌크 GaN 기판 사용 연구, 대규모 단결정의 빠른 합성 염화나트륨 첨가 시 가장자리가 잘 정의된 그래핀 개발 연구, 1,1,1-트리스(디메틸아미노)디실란을
    자기소개서 | 1페이지 | 3,800원 | 등록일 2022.09.20
  • LED에 대한 레포트
    사파이어 기판 사용 고가의 제조 설비 사용 제조공정 복잡02 LED 의 특징 단점 : 제조공정이 복잡하다 P 형 , N 형의 단결정 화합물 반도체 층 증착공정 칩과 전극 제작하는 식각공정 ... 조명 , 자동차 전조등03 LED 의 종류 – 출력의 크기에 따른 구분03 LED 의 종류 – 기판의 종류에 따른 구분 LED 용 기판 소재로는 사파이어 , SiC, GaAs, GaN
    리포트 | 43페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.09.08
  • 22년 상반기 SK온 SK on 모듈공정기술 서류 합격 자기소개서
    또한 칩 간 분리를 위한 식각 중 알파스텝 측정 결과 언더에치로 인한 GaN층의 잔류를 확인했고 이는 쇼트를 야기하리라 판단했습니다. ... 따라서 식각 시간을 추가하여 칩 간 분리 구조를 완벽히 형성했습니다. ... 투입한 5개의 웨이퍼 모두 불량으로 예상하셨지만 저는 ‘끊임없는 공정 개선으로 하나의 웨이퍼만이라도 양품을 제작해보자’란 열의를 갖고 소자 공정을 시작했습니다.MOCVD로 성장한 GaN
    자기소개서 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.08.04
  • 22년 상반기 SK하이닉스 서류합격 자소서 + 최종 면접 복기본 자료입니다.
    또한 칩 간 분리를 위한 식각 중 알파스텝 측정 결과 under-etch로 인한 GaN층의 잔류를 확인했고 이는 쇼트를 야기하리라 판단했습니다. ... 따라서 식각 시간을 추가하여 칩 간 분리 구조를 완벽히 형성했습니다. ... 처음 시도한 레시피이므로 투입한 5개의 웨이퍼 모두 불량으로 예상하셨지만 저는 ‘끊임없는 공정 개선으로 한 웨이퍼만이라도 양품을 제작해보자’란 열의를 갖고 소자 공정을 시작했습니다.GaN
    자기소개서 | 9페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.08.04
  • 반도체 제조 공정 (P-N Junction) 반도체 공학
    CVD(Chemical Vapor Depositon ) 장점 : 큰 면적 증착 단점 : 1000 ℃ 이상 고온이필요한 공정 화학 증착재료 GaN ( 질화갈륨 ) 등 Metal P-type ... 균일도 결과 값이 낮다는것은 Wafer 의 모든 식각면이 비슷한 Rate 로 식각이 되었다는것을 증명한다 .반도체 제작 공정 3-1 선택적 식각 (Selective etching)- ... 시 식각 부의 내부 표면의 내구성을 올리기위해서이다 표면이 약하면 Wafer 표면이 식각되어 Spread 불량이 생길수있다 .
    리포트 | 15페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.11.18 | 수정일 2013.11.21
  • 아주대 기계설계 분야별 실험3
    그 윗면에는 전압을 걸어 주기 위한 (+)전극이 형성되어 있으며, (-)전극은 절연체인 기판상에 형성될 수 없으므로, Dry 에칭방식으로 가장 위쪽에서 N-GaN의 일부분까지 식각 ... 에피 웨이퍼 제조 공정을 청색 LED를 예를 들어 설명하면, 청색을 내는 반도체 재료로는 GaN가 있으며, Sapphire (Al2O3)나 SiC 기판 상에 N형 반도체(N-GaN) ... 와 활성층(InGaN), P형 반도체(P-GaN)가 MOCVD로 차례로 증착 된다.
    리포트 | 16페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.07.22
  • LED 발전 과정, 최신 동향, 기초 이론, 제조 공정, 측정 분석
    LED 최신 동향 LED 기초 이론 LED 제조 공정 Ⅵ LED 측정 분석 구성 및 목차 Ⅰ 발표분담Ⅰ 발표분담 Wafer 공정 초크랄스키 법 키로플러스 법 FAB 공정 리소그래피 식각 ... GaN -barrier P+AlGaN P- GaN P++ GaN Substrate(sapphire) GaN buffer N – GaN (Si-doped GaN ) MQW (Multiple ... Quantum Well) P – GaN (Mg-doped GaN )Ⅳ LED 기초 이론 Wafer 공정 Epi 공정 FAB 공정 Module Pakaging GaN Structure
    리포트 | 82페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24
  • White LED의 기술개발동향과 전망
    일부 식각하여 top-top 형태로 전극을 배치한다. ... )LED 칩을 제작하기 위해서는 노광공정(photolithography), 식각공정(etching), 금속전극 증착공정(metallization), passivation, lapping ... 커지게 되어 양질의 막을 얻기가 매우 어려운 실정이다.을 제작한 후 그 위에 GaN을 에피성장하면 편평한 기판 위에 성장되는 GaN 구조에 비해 TD 감소과 소자의 출력향상의 효과를
    리포트 | 18페이지 | 4,000원 | 등록일 2011.11.21
  • LED 제조공정 및 개요
    식각 한 후 , (-) 전극 (Ti/Al) 을 형성한다 .3. ... (N- GaN ) 와 활성층 ( InGaN ), P 형 반도체 (P- GaN ) 가 MOCVD 로 차례로 증착 된다 . ... 에피 웨이퍼 제조 공정을 청색 LED 를 예를 들어 설명하면 , 청색을 내는 반도체 재료로는 GaN 가 있으며 , Sapphire (Al2O3) 나 SiC 기판 상에 N 형 반도체
    리포트 | 24페이지 | 3,500원 | 등록일 2012.06.19 | 수정일 2015.12.14
  • 아주대 분야별실험 기계설계실험 LDV, Gap sensor를 이용한 변위측정
    전 공정은 P,N전극형성 공정, 식각공정, 보호막 형성 공정이 있다. ... 출하검사 및 출하LED칩의 계열별 제작공정은 ①InGaAIP/GaAs 계열의 공정과 ②InGa(AI)N/GaN 계열의 공정으로 분류한다.① InGaAIP/GaAs 계열은 N+-GaAs ... 에피층 식각 4. P패드 형성5. P패드 금속합금화 6. N형 전극 증착 7. N형 전극 합금화 8. 보호막 형성9. 이면 연마 10. 스크라이빙 11.
    리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.03.31 | 수정일 2014.04.07
  • CABIE-dry etching
    같은 기체를 흘려주어 식각에 관여 화학적 방식CAIBE 방식GaN 계열의 박막 에칭과 InP 계열의 박막 에칭에 이용된다. ... 식각 공정은 식각 형태와 식각 방법에 따라 다음과 같이 분류된다.식각(Etching) 이란? ... 습식 식각이 주로 등방성 식각을 하는 반면, 건식 식각은 주로 이방성 식각을 한다.건식 식각(Dry Etching) 이란?건식 식각(Dry Etching) 이란?
    리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.12.04
  • GaN 발광소자, 발광소재 현황
    은 삼성 종합 기술원에서 제조된 사파이어 기판에 MOCVD로 성장한 뒤 CAIBE로 식각한 LED의 특성이다. ... 형성된 column위에 pendeo-epiaphy), 식각(etching), 금속 전극 증착(metallization), 후면가공 (lapping/polishing), 칩 절단(scribing ... 성장이 행하여진 후 표면을 n-GaN 층까지 식각시킨 후 금속 전극을 형성한다. p-GaN에는 Ni/Au를 사용하며 n-GaN에는 Ti/Al을 사용하여 전극을 형성한다.현재 실외용
    리포트 | 53페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.10.29
  • 반도체기술
    참고로 최근 전세계가 주목하고 있는 반도체 재료로 파란색 빛을 발하는 GaN와 군사용목적으로 연구되고 있는 GaSb가 있다.② 초고속 소자 만들 수 있다.* 탄소나노 튜브테라급반도체 ... 상감공정 : 절연막 내부로 배선라인 트랜치 및 비어등을 먼저 식각한 후, 배선물질인 구리를 채우는 방식* 저유전체 : 4이하의 낮은 유전상수 값을 가진 물질로, 반도체 절연물질로 쓰이는 ... 필수적인 것으로 평탄하게 선을 얹었을 때 잘 올라가게~웨이퍼 표면의 돌출된 부분을 제거하는 평탄화 공정으로, 보다 효과적인 다층 배선 반도체 소자 제작을 위해, 혹은 기존 건식 식각
    리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.03.28
  • 반도체 공정
    Mg : 1s22s22p63s2 원자가 = 2반도체 재료 및 결정구조SiC:Silicon carbon GaN:Gallium nitride InP:Indium phosphide InSb ... 넣어 Plasma를 형성시켜 막을 식각식각 제어력이 높음 선택성 저하, 불순물에 의한 오염, X선 등에 의한 손상 가능Etch 공정PR의 패턴대로 하부막을 가공하는 공정PR ... 제거(Ashing) 공정Etch 또는 이온주입공정 후 임무가 끝난 PR을 제거하는 공정(건식식각 공정) 산소, 오존등과 반응시켜 PR을 태워버림불순물 주입공정(Doping)-열확산법P형
    리포트 | 50페이지 | 5,500원 | 등록일 2011.03.31
  • FPD장치조사 - PDP 와 FED 의 비교 분석
    박막 가공공정은 제작된 박막재료를 소자의 특성에 따라 식각, 도핑 및 금속전극 형성공정 등이다. ... 같은 III-V 화합물반도체에 관한 연구, FED에서의 저전압 전자방출을 위한 GaN tip 및 carbon nanotube에 관한 연구, TFT-LCD에서의 mobility향상을 ... 이중에서 정보표시소자의 플라즈마를 이용한 건식식각공정은 GaN의LED 및 LD제작, TFT-LCD 및 FED 소자제작, 그리고 micro-actuator를 이용한 projection
    리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.10.14
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2024년 09월 01일 일요일
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- 작별인사 독후감
방송통신대학 관련 적절한 예)
- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대