"ITO Cleaning" 검색결과 1-20 / 76건

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  ITO Scribing & Cleaning 예비

  그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다.? ... Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. ... 기판(glass)에 ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16

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  ITO Scribing & Cleaning 예비레포트

  ITO Scribing & Cleaning2. 실험목적?OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.? ... Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. ... 실험이론 및 배경Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.07.15

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  ITO Scribing and Cleaning

  ITO Scribing & Cleaning1. 실험목적?OLED device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.? ... 한다.< Clean room > < oled 구동원리 >? ... Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.07

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  ITO Scribing & Cleaning 예비보고서

  ※ 실습과제 : ITO Scribing & Cleaning· 학과 :· 학번 :· 이름 :· 조 :· 공동실험자 :1)실험목적◦OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ... Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야 한다. ... Toluene(20분)→DI rinse(10분)→IPA(20분)→DI rinse(10분)→MeOH(10분)→DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Oven 건조(100℃, 15분)→UVO Clean

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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  ITO Scribing & Cleaning

  제출일 :실험일 :제목 : ITO Scribing & Cleaning1. 실험목적1. ... Acetone(20분)→DI rinse(10분)→IPA(20분)→DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Oven 건조(100℃, 15분)→UVO Clean(10분)5. ... Toluene(20분)→DI rinse(10분)→IPA(20분)→DI rinse(10분)→MeOH(10분)→DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Oven 건조(100℃, 15분)→UVO Clean

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.12

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  ITO Scribing & Cleaning 결과보고서

  ※ 실습과제 ITO Scribing & Cleaning· 학과 :· 학번 :· 이름 :· 조 :· 공동실험자 :1) 실험목적◦OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ... ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다. ... ◦원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을 세정하여 소자의 성능 및 수율을 향상시킨다.2) 실험 결과 토의 및 고찰ITO coating면을 위로 향하게 하여Scriber

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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  [고분자재료실험] 5. ITO Scribing & Cleaning. - 예비

  ITO Scribing & Cleaning / 2014년 10월 17일2. 실험조 및 실험자 :3. ... 예비레포트고분자 재료 실험 5주차5주차 : ITO Scribing & Cleaning소 속 :2014년 11월 04일 제출학 번 :제 출 자 :조 번 호 :실 험 자 :실 험 일 : ... 실험목적 :OLED/PLED/OPV device의 투명전극으로 사용되는 ITO glass를 원하는 크기로 자르는 방법을 습득한다.원하는 모양으로 자른 ITO glass의 오염된 표면을

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.26

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  ITOscribingcleaning A+ 레포트 건국대학교 고분자재료과학

  ITO Scribing & cleaning과목명고분자재료실험담당교수담당조교학과학번이름공동실험자제출일자1. 실험제목 : ITO Scribing & Cleaning2. ... Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. ... 실험이론Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야

  리포트 | 16페이지 | 2,000원 | 등록일 2023.06.03

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  [고분자재료실험] ITO scribing & cleaning 결과레포트 (만점)

  실험배경Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 진행한다. 기판(Glass) 세정 공정은 모든 공정 전후에 반드시 행해져야 한다. ... )→DI rinse(10분)→IPA(20분)→DI rinse(10분)→질소로 물기제거→Hot plate 건조(110℃, 10분)→UVO Cleaning(10분)4. ... ITO scribing & cleaning일자: 2021.ITO Scribing & cleaning1.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)

  예비보고서※ 실습과제 #05 : ITO Scribing & Cleaning1. ... 한다.◦ Cleaning & Wet-Station 의 중요성모든 반도체 공정은 오염물들의 근원이고 이는 소자의 성능과 수율에 직접적인 영향을 미치게 된다. ... 원 리Pattern 공정을 하기 위해서는 주변의 청정도가 매우 중요한데, 아래 그림에서 보는 것과 같이 Clean room 에서 빛에 노출되지 않는 환경을 구비한 후 공정을 시작하여야

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21

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  [고분자재료실험]ITO patterning 결과레포트

  시간이 달라진다.이번 실험에서는 HCl:Fe:=1:1:1 비율의 etchant를 이용하여 5~5m30sec 동안 dipping하였다.3) 각 공정 시 주요한 원리 및 반응을 이해한다.Cleaning ... ITO가 etching되고 나면 patterning된 ITO위에 남아있는 PR을 제거해 주어야 한다.3. ... 결과보고서※ 실습과제 #06 : ITO Pattering 공정1.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  ITO glass를 이용한 OLEDPLED 제작 공정 결과

  크기(35mm×35mm)의 Size로 ITO Glass를 자르고 질소(또는 에어)를 이용하여 유리가루 등의 이물질을 불어낸다.3.2 ITO Cleaning기판에 붙어있는 여러 종류( ... 기판의 Cleaning(전처리)② Spin coater위에 기판을 올려놓고 진공을 잡아 고정시킨 후, photo resister를 뿌려 전면에 고르게 코팅③ PR coating 후 ... 서론ITO Glass는 투명 기판에 Indium, Tin, Oxygen의 혼합물인 ITO를 코팅하여 만든 전도성을 가진 기판이다.

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16

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  1-1. AMOLED Full Device - Polymer report (A+)

  : spin coater를 이용한 고분자 기반 OLED제작 및 특성 평가실험 장비 : Thermal evaporation, Spin coater, CS-2000(측정장비)실험 이론Cleaning ... ITO/PEDOT/PFO/LIF/ALPEDOT : PSS PFOPEDOT:PSS는 poly styrene sulfonate를 전하균형을 맞춰주는 template으로 사용해서 3,4- ... 일함수가 0에 위치하는데 Hole이 이동하려면 사이에 Band Gap차가 적을수록 hole이 주입하기 쉽다 ITO를 UVO treatment를 안하게 된다면 4.17eV인데 254nm

  리포트 | 15페이지 | 15,000원 | 등록일 2023.07.30

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  2-2. AMOLED Full Device - Polymer report (A+)

  실험 방법① ITO전극을 Patterning한다.② 기판을 Sonication을 사용해 Cleaning을 한다.③ UVO Exposure을 사용해 기판에 UV를 조사한다. ... ITO의 Work Function을 낮춰주기 위해 UV 처리를 한다.UV를 조사하면 일함수가 낮아지게 된다. 그로 인해 ITO전극으로부터 hole을 주입하기 용이해진다. ... 높은 에너지를 가진 UV를 조사하면 ITO전극 표면에 있는 단일, 이중, 삼중결합들이 떨어져 나가게 된다.

  리포트 | 10페이지 | 15,000원 | 등록일 2023.07.30 | 수정일 2023.08.18

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  2-3. AMOLED Full Device - Small molecule report (A+)

  실험 방법① ITO 전극을 Patterning한다.② 기판을 Sonication을 이용해 10분간 Cleaning한다.③ UVO Exposure을 사용해 기판에 UV를 조사한다. ... HIL층은 hole이 EML층에 쉽게 주입되기 위해 ITO전극과 일함수 차이가 작아야 한다. HIL은 방출광이 재 흡수되지 않도록 적절한 Band-gap을 필요로 한다.

  리포트 | 9페이지 | 15,000원 | 등록일 2023.07.30 | 수정일 2023.08.18

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  IGZO TFT ( PR patterning, channel dimension ) 발표 PPT

  R C Photoactive Compound Wolf rearrangement Ketene Dissolution enhancar AZ GXR-601 MaskIntroduction Cleaning ... Transparent ITO Channel Dimension Property Mid term Presentation Final Presentation Patterning yield ... width, length Midterm Presentation Midterm PresentationPresent progress PR Patterning Optimization ITO

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.11.05

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  일상생활 속에 발생하는 김서림,성에,결로 및 해결방안 그리고 기술 동향

  방법 _ 발열 방법 ※ 김서림방지시스템 , 미러히팅 필름 , 투명면상 발열체 , 스마트 발열유리 발열방법 미러히팅 필름 , 열선 히팅 투명면상 발열체 PCT, Carbon 계열 , ITO ... 사이드 공기저항 , 사각지대 , 디자인 Car Monitoring System스마트 유리 _ 전기습윤 기술 ※ Drop Free Glass , 지능형 유리 , 자가 세정 (Self Cleaning

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.10 | 수정일 2021.05.08

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  SK하이닉스 소자 직무 합격 자기소개서 (2)

  또한, 매일 방진복을 입고 평소 전공 공부를 통해 사진으로만 배웠던 장비들을 직접 만지며 Wafer를 세척하고 ITO나 Ag를 Patterning하여 터치패널을 만들거나 Spin-coater ... Clean Room에는 위험한 용액들이 많이 있었기 때문에 항상 주의를 기울이고 작은 먼지도 신경 쓰며, 진행되는 반도체의 공정들을 이해할 수 있었고 직접 실습함으로써 제게 맡겨진 ... 이를 통해 4학년 여름방학 6주동안 연구인턴으로 일할 때, 부서 선배님들께서 Clean Room에서 이야기 하시는 공정들을 큰 어려움 없이 이해하며 빠른 시간 안에 적응할 수 있었고

  자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.02.06

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  [고분자재료]OLED 소자제작 결과레포트

  Cleaning 부터 마지막 encapsulation 공정까지 소자 하나를 만드는데 여러 정밀한 공정이 있다는 점에서 전체적인 흐름을 파악하는데 큰 도움이 되었다. ... 쪽에서는 정공의 투입이 쉬워진다.2) Hole transfer layer materials◦ PEDOT:PSSPEDOT:PSS(poly(ethylene dioxPSS는 강산으로써 ITO ... 위에 spin coating 시 ITO를 부식하게 하며, 소자의 수명 및 장기적인 안정성을 떨어뜨릴 수 있다.3) Polymer emitting layer materials◦ poly

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2022.01.21

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  나노화학실험 DSSC 예비보고서

  Donor에서 태양 빛을 받아 들뜨게 된 후에 전자와 hole이 형성(exciton)된 후 acceptor에서 전자를 받아 Al(전극)로 보내서 정공은 ITO로 이동한후 전류가 형성된다 ... TiCl4 처리를 한 FTO기판을 조심히 꺼내어서, EtOH로 cleaning 후 N2 blowing 해준다.Cleaning한 TiCl4처리를 한 TiO2 기판을 도가니에 담고, metal

  리포트 | 8페이지 | 4,500원 | 등록일 2020.06.30 | 수정일 2020.07.05

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