NIL method(Nano Imprinting Lithography)2-2-1. ... 우선 Si substrate위에 결함 방행 요인인 수직정상파를 억제하기 위한 ARC(Anti Reflecting Coating)은 AZ-BARLi-II 90을 90nm로 코팅하였다. ... particle multilayer on the trapping layer, (c) embedding the bottom layer of the particles, and (d) removing