"Plasma Arc Evaporation" 검색결과 1-20 / 44건

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  Synthesis of Nickel and Copper Nanopowders by Plasma Arc Evaporation

  한국분말야금학회 Young-Sang Cho, Jong Woo Moon, Kook Chae Chung, Jung-Goo Lee

  논문 | 14페이지 | 4,600원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  진공의 이해

  상태 안정 플라즈마 플라즈마 적용 플라즈마응용 표면차리기술 진공증착 물리적 증착- Sputtering Sputtering Evaporation 플라즈마 기술의 장래성 플라즈마 산업기술 ... 구분되어 사용됨 (주로 DC 사용)Target의 Size, Cathode 형태, Target 물질에 따라서 선정 고려 (기본적인 Spec은 10kw,20kw(DC 기준)임) - Arc ... )이 없다. • 아크 증착(Arc deposition)시와 같은 macro-particle 이 형성되지 않는다. • 높은 온도를 요구하지 않는다. → 저온 or 상온 증착SputteringSputtering

  리포트 | 58페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.06.10

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  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  플라즈마 안은 동수의 양(+)과 음(-)에 전위를 갖는 소립자(전자, 이온 등)를 포함한 부분적으로 이온화 된 가스를 말한다. ... )이 없다.⑧ 아크 증착(Arc deposition)시와 같은 macro-particle 이 형성되지 않는다.⑨ 저온 증착이 가능⑩ 전자의 입사에 의한 기판의 손상⑪ 에너지의 비효율성⑫ ... 고용되지 않는 원소도 증착 가능③ 증착 시 증착물의 조성을 바꿀 수 있다.④ 산화물의 증착이 가능하다.⑤ 증착막 두께의 균일성⑥ 큰 면적의 타겟 이용 가능⑦ 열적증발(Thermal evaporation

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

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  PVD 원리와 종류

  Arc Processing그림7. ... 진공 증착법 이외의 두 개의 기본방법은 플라즈마를 적극적으로 이용한다. ... 이 방법에 의한 박막 제조 공정은 ①증발(evaporation) 및 승화(sublimation)에 의한 증발 대상 물질의 기체화 ②기화된 원자 또는 분자를 증발원(evaporation

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.07.27

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  왜 Plasma에 대해 알아야 하는가?

  이와는 달리 방출되는 빛의 스펙트럼이 연속적이어서 백색으로 보인다면 arc discharge라고 합니다.Plasma의 특성앞서 설명한 plasma의 발생원리에서 중성의 기체에 가해진 ... 하지만 끓는점이 낮은 순수한 금속을 evaporator에 이용하는 경우에0 ... 즉 박막을 형성시키거나 형성된 박막을 etching하는 원리가 동일하여 한 공정 내에서 두 가지 작용을 할 수 있다는 장점이 있습니다.마지막은 CVD나 evaporation과 같은

  리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2014.03.23

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  3. Thermal evaporation 예비

  추출해내는 플라즈마 전자빔 방식이 있다. ... selfsustaining arc를 발생시켜 피처리물에 코팅되게 하여 고경도 TiN코팅을 형성하는 것은 공구강 처리에 이용되고 있다.(6) 활성화 반응 증발산화성 피복층을 형성하고자 ... 목적 ObjectiveThermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.2.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.22

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  표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용

  이러한 결과는 입사하는 입자가 target과 합금이나 합성를 형성해서 evaporation 같이 spitting이 없다.arc deposition 같이 작은 물방울이 형성되지 않는다 ... 이러한 배열을 이용하면 플라즈마가 target 표면의 매우 가까운 곳에 유지되어 근처 지역에서 플라즈마 밀도가 높아지게 되므로 이온화 율이 증가한다.b. plasma를 가두었을 때의 ... sputtering, RF plasma sputtering, magnetron sputtering등이 있다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05

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  액중 전기선 폭발법에 의한 Ni-free Fe계 나노 합금분말의 제조: 2. 용매의 영향 및 제조 방법에 따른 분말입자의 비교 (Fabrication of Ni-free Fe-based Alloy Nano Powder by Pulsed Wire Evaporation in Liquid: Part 2. Effect of Solvent and Comparison of Fabricated Powder owing to Fabrication Method)

  한국분말야금학회 류호진, 이용희, 손광욱, 공영민, 김진천, 김병기, 윤중열

  논문 | 10페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05

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  박막 재료

  methods.ARC plasma deposition*Anodic arcs-Arc-deposition processes that have been developed capitalize ... In these appications ARE has been supe rceded by ion plating, reactive sputterin g, arc plasma, and CVD ... processesIn reactive evaporation the evaporant me tal vapor flux passes through and reacts whith gas

  리포트 | 31페이지 | 4,000원 | 등록일 2010.05.13

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  sputtering(스퍼터링)

  )이 없다.- 아크 증착(Arc deposition)시와 같은 macro-particle이 형성되지 않는다.- 높은 온도를 요구하지 않는다.- 기판의 sputter etching으로 ... 있다.- 내화 재료의 증착- 절연막의 증착- 증착막 두께의 균일성, step 또는 defect coverage가 좋다.- 큰 면적의 target 이용가능- 열적증발(Thermal evaporation ... 전자의 질량은 이온의 질량보다 훨씬 작기 때문에, 플라즈마 중에서의 전자의 이동도는 이온의 이동도보다 크다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.01

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  이온플레팅

  이것은 크게 Evaporation Process, Sputtering Process, Plasma-Asisted PVD(Ion Plating) 3가지로 나누어 진다.첫 번째로 Evaporation ... Process는 coating 재료를 여러 가지 방법(direct resistivity, radiation, arc discharge 또는 electric beam)으로 가열하여 ... 이 원자의 에너지는 약 1~2eV로 Evaporation Process보다는 높지만 비교적 낮은 편이다.끝으로 Ion Plating은 앞의 Evaporation Process처럼 coating

  리포트 | 18페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.07.02

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  이온 플레이팅

  의미에서 증발은 플라즈마 PVD(Plasma assisted PVD, 이하 PAPVD)의 분류에 속하지 않는다.이온 플레이팅은 증발에서 얻을 수 있는 빠른 증착 속도와 스퍼터링에서 ... Filtered arc deposition은 Arc 증발원에서 발생한 플라즈마를 Duct를 통해서 기판으로 인도하면서, 자기장을 적절히 이용해서 Macroparticle을 Filtering하는 ... 활성화하는 ARE(Activated reactive evaporation)공정이 개발되면서 화합물의 합성에도 응용되기 시작하였다.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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  sputtering을 통한 metal deposition 및 I-V, C-V 측정

  thermal evaporation 같이 spitting이 없다.?arc deposition 같이 작은 물방울이 형성되지 않는다.1) non-reactive process? ... 불활성 gas plasma를 이용하여 sputtering- target이나 기판에 직접적인 화합물 형성에 참여하지 않음? ... 플라즈마 내에서 이차 전자는 추가적인 이온화를 일으키고 플라즈마의 광학적 발산의 color, intensity는 target 재료, gas의 종, 압력, excitation 등의 특징으로

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

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  evaporator의 원리 및 이론

  Evaporator목차1. 진공의 기초 2. Evaporation 3. Plasma Assisted E-beam Evaporation 4. ... Plasma Assisted E-beam Evaporation각종 증착장비의 특성비교3. ... source LaserDC RF Pulsed DC Magnetron ReactiveReactive Cathodic arc3.

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  Ion plating method

  도입(글로방전) Ar 가스 이온화→기판에 입사 → 증착층의 표면에 충돌함 → 운동량 전달 → 증착층의 밀착성을 향상,미세조직을 치밀하게함 ARE(Activated reactive evaporation ... )의 증발 현상 Steered arc source Arc spot의 움직임을 제어하는 기술 증발원 타겟 균일하게 용식→수명 연장 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 이온 플레이팅(PVD ... )공정 전자빔 증발원(E.B Filament)과 보조양극(Ion Filament)을 이용하여 플라즈마를 활성화 이온 플레이팅(PVD)의 기본이론 전자빔 증발원을 이용한 반응성 이온

  리포트 | 20페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.03.18

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  RF-magnetron sputtering 기법을 이용한 박막형 강유전체의 특성평가

  (습식도금보다 불순물 적다.)● ARC PLASMA DEPOSITION→ 강질의 코팅막을 얻을 수 있다.?ARC 쓰면 입자들의 이온화도가 높고 속도가 빠르다. ... Ion Platind 법◆ reactive evaporation processes ⇒ reactive gas를 집어넣어하는 방법● PVD박막의 비교evaporationsputteringIon ... (순간적으로 확 가열되어서) ARC가 타겟을 때리면 튀어나오는 속도가 빠르고 E가 세다. ⇒ 아주 큰 반응성 이온?ARC로 코팅시키려면 막질이 좋아야한다.

  리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.01.25

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  Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조(결과)

  selfsustaining arc를 발생시켜 피처리물에 코팅되게 하여 고경도 TiN코팅을 형성하는 것은 공구강 처리에 이용되고 있다.(6) 활성화 반응 증발산화성 피복층을 형성하고자 ... 서론Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.2. 이론1) 박막이란? ... 막증착1) 세정된 기판 위에 shadow mask를 씌우고, crucible에 알루미늄을 넣는다.2) Thermal evaporator chamber 안에 (1)에서 준비된 기판과

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.12.11

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  PVD (Physical Vapor Deposition), 물리 증착법

  (근사적 의미의)에 평면기판일 경우 피막두께는 거리의 자승에 따라 감소한다.그림과 같은 상teringion platingElectron Beam Ion plaingCathodic arc ... PVD 원리◎PVD란PVD (Physical Vapor Deposition)란 아크, 열, 전자빔 등의 에너지에 의해 진공분위기에서 금속물질을 증발시키고, 플라즈마, 이온빔 등의 에너지로 ... 특히 공구나 금형 등의 하중과 충격이 큰 부품은 밀착력을 올리기 위해 플라즈마 클리닝과 이온충격공정을 반드시 하여야 한다.클리닝과 표면반응을 얼마나 효과적으로 하느냐에 따라 금형과

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.07.05

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  thermal evaporation법을 이용한 박막의 제조 레포트.

  Thermal Evaporation법을 이용한 박막의 제조1 목적Thermal Evaporation법을 사용하여 발광박막의 제조를 통하여 박막재료 제조 공정의 이해를 돕는다.2 이론박막이란 ... selfsustaining arc를 발생시켜 피처리물에 코팅되게 하여 고경도 TiN코팅을 형성하는 것은 공구강 처리에 이용되고 있다.(6) 활성화 반응 증발산화성 피복층을 형성하고자 ... 특히 코팅층이 피처리물에 우수한 접착력이 요구되거나 피처리물이 온도에 따라 성질이 변하는 경우는 이온도금을 사용하는 편이 유리하다.2-3.진공 증착법(Vacuum Evaporation

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.11.15

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  박막증착 (박막공정)

  물리 증착은 증발(evaporation), 스퍼터링(sputtering), 이온 플레이팅(ion plating), 아크증착(arc deposition), 이온 빔 보조증착 (ion ... (Plasma Enhanced CVD)와 Sputtering, ion plating 의 경우에 플라즈마를 이용한 박막 증착방법이다. ... Enhanced CVD) 등으로 세분하여 방법상으로 분류되어진다.또한 박막 증착은 플라즈마(Plasma)를 사용하는가에 대한 유무에 따라 분류해보면 앞에서 얘기한 CVD중 PECVD

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.13

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