"Reactive sputtering" 검색결과 1-20 / 130건

• 

  RF reactive magnetron sputtering으로 제조한 TiO2 박막의 구조 및 광학적 특성

  한국재료학회 강계원, 이영훈, 곽재천, 이동구, 정봉교, 박성호, 최병호

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착

  Simplified RF sputtering system.2.2.6. ... sputtering지도교수 김 D S이 논문을 학사학위청구논문으로 제출함2008. 12K대학교화학공학부 화학공학전공아 무 개? ... 학사학위논문Reactive Magnetron Sputtering에 의한ZnO 박막증착Deposition of ZnO thin film by reactive magnetron sputteringK대학교화학공학부

  리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06

  다운로드 장바구니
• 

  [물리전자2] 과제2 단원 요약 Fabrication of pn junctions

  , and reactive ion etching (RIE) which is the combination of plasma and sputter techniques. ... Wet etching encompasses impression and spray methods, while dry etching includes plasma sputter methods ... surface through the surface boundary layer.

  리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2023.12.21 | 수정일 2023.12.30

  다운로드 장바구니
• 

  [기초공학실험]Cu film의 전기적 특성 분석 실험

  Reactivity Sputtering마. ... 종류 ① DC sputtering직류전원을 이용한 sputtering 방법이다. ... DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering되지 않는다.

  리포트 | 8페이지 | 3,200원 | 등록일 2019.09.02 | 수정일 2020.08.10

  다운로드 장바구니
• 

  인하대 패터닝 결과보고서

  이 이유는 C2F6에서 튀어나온 F가 얇은 막을 형성하여 Ar에 의한 sputtering effect을 감소시키기 때문이다.2. ... C2F6 → e- + C2F5∙ (radical)+ F∙(radical)Plasma에 의해 활성화되거나 가속화된 Ar+, Ar*, C2F5 등의 분자가 웨이퍼에 physical sputtering ... 없다.일반적으로 상대적으로 무거운 C2F6 의 농도가 증가할수록 식각이 더 잘 진행될 것(식각 속도가 계속 빨라질 것)같았는데, 이번 실험을 통해 F에 의한 막이 형성됨에 따라 Ar의 sputtering

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.15

  다운로드 장바구니
• 

  반도체 공정 관련 내용 정리 리포트

  도달 구하기 쉽고 쌈Pre sputtering(불순물 제거 위해 shutter 닫아줌) 이후 sputtering 진행FPP 균일도 측정 면저항 = 비저항(물질 고유 특성)/두께Power ... (TiN) => 면저항값 측정 비교Direct -> target에 존재 , Reactive -> N2가스 주입로드락 챔버 : 760Torr -> 진공, defect증착속도가 빨라질수록 ... 섞음 저->고농도 순으로Material Safety Data Sheet 보호구 PPESputteringThin film (PVD) : Sputtering Direct(Ti) vs Reactive

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.03.12

  다운로드 장바구니
• 

  스퍼터링, RIE 실습 레포트

  Pre-sputter가 끝나면 셔터를 열고 스퍼터링 증착을 진행하는데 이 때 균일한 증착을 위해 로테이션을 돌려준다. ... 진행한다.① 플라즈마 방전이 확인되면 MFC를 이용하여 실험 조건의 Ar/O _{2}가스 유량으로 조절한다.② 3inch의 구리 타겟을 이용하여 Pre-sputter를 5분간 진행한다 ... 10mTorr로 설정한다.③ DC 전원을 키고 통전 전압 9V 확인 후 아웃풋을 눌러서 킨다.④ 200W로 설정하기 위해 전압을 조절하여 전류를 0.5A로 맞춰준다.(4) Pre-sputter를

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.28

  다운로드 장바구니
• 

  Looking at the synthesised polymer beads by SEM,TEM microscopy

  (참고문헌3)Ion sputter법 : 가장 널리 손쉽게 쓰여지는 방법입니다. ... 이것은 장치의 구조가 간단하고 조작도 쉽기 때문이며 sputter입자는 시료 전부분 골고루 막을 형성하기 때문에 charge-up 방지효과가 월등합니다. ... ,reactivity등의 물성과의 직접적인 관계를 알 수 있다.- Composition(물체를 구성하는 원소와 화합물의 종류 및 상대적인 양 분석)분광학에 의한 전자아 시편이 상호

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.01.18 | 수정일 2023.01.12

  다운로드 장바구니
• 

  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  전극으로 사용되고 있다.일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering ... 폭넓은 재료의 박막제작 가능2) 적절한 조건의 설정에 의해 다 원계의 복잡한 조성의 Target을 사용해도 거의 동일한 조성의 박막제작이 가능3) 방전 분위기 중에 산소 등의 활성인 Reactive ... 여기서, 측정시료의 형상이 단면적 S로 일정한 길이 L의 도선이라고 하면, 비 저항은 다음과 같이 구할 수 있다.ρ = (S/L)R = (S/L)(V/I)그림 2 point probe

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

  다운로드 장바구니
• 

  패터닝 예비

  일반적으로 건식식각이 일어나는 과정은 물리적 작용에 의한 스퍼터링(sputtering)효과, 화학적 작용에 의한 라디칼 반응 그리고 물리적 작용과 화학적 작용의 혼합효과로 나누어 생각해 ... .- Determine the optimal etch parameters and etching gas, then etch SiO2 layer using – Reactive Ion Etching ... objectiveUnderstand the process by which the patterns made by masks are engraved on the thin films, examine the film surface

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.05.05

  다운로드 장바구니
• 

  [2019 A+ 인하대 공업화학실험] 패터닝 결과보고서 공화실 결보

  이는 C2F6가 증가할수록 Ar+의 물리적식각, 즉 sputtering가 감소한다. ... 따라서 그 전까지 과정이 완료된 wafer을 이용한다.RIE (reactive-ion etching)안에 있는 두 판은 전극이다. ... 전체 기체 유량은 20 sccm이고 power은 700W 이며 압력은 5mTorr, dc-bias voltage는 300V이다.

  리포트 | 17페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.04.13 | 수정일 2020.04.18

  다운로드 장바구니
• 

  표면개질공학 sputtering 원리와 특징, 현상과 응용

  위해 reactive sputtering을 이용한다. ... Reactive sputtering에 의한 화합물 박막 형성은, 산화물이나 질화물 target을 직접 sputter하는 것 보다 제조, 순도 및 가격 면에서 유리하다. ... Reactive sputtering중 기판온도를 올려주면 화합물 형성속도가 빨라져 성막속도를 증가시킬 수 있다. 그러나 reac다.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2016.01.05

  다운로드 장바구니
• 

  투명전극(ITO)과 진공펌프 및 게이지와 스퍼터링의 종류들과 원리

  Reactive sputtering : RF보다 불리함-RF sputtering-a. 전도체, 절연체, 비금속, 유전체b. HIP 또는 sintered powderc. ... Reactive sputtering에 적합③DC/RF 마그네트론 스퍼터링 장치기존 스퍼터링 방법에 자기장을 사용하면 마그네트론이라는 단어를 붙여 마그네트론 스퍼터링 방법의 특징을 띄게 ... 게이지의 정의3.2진공 게이지의 종류 및 원리4.스퍼터링4.1스퍼터링의 정의4.2스퍼터링의 종류4.3스퍼터링의 원리1.투명전극투명전극은 통상 80% 이상의 고투명도와 면저항 500 Ω/sqm

  리포트 | 22페이지 | 2,500원 | 등록일 2019.07.03 | 수정일 2019.07.04

  다운로드 장바구니
• 

  [고분자공학실험]ITO Pattering 공정

  특히 dry etching의 경우 이온 가속만을 이용하는 IBE(ion beam etching)와 sputtering과 같이 magnetron을 이용하는 sputtering etching ... 이 비선택적 etching이며, 이온 가속에 반응성 gas를 사용하는 RIE(reactive ion etching)은 선택적 etching이다. ... PR을 용제(solvent)에 녹이는 과정에서 PR 위에 deposition된 필름은 제거되고 기판 위에 deposition된 필름만이 남게 되는 것이다.

  리포트 | 4페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.11.12 | 수정일 2020.08.05

  다운로드 장바구니
• 

  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  ▶Reactive SputteringBias sputtering 과는 정반대의 역할로, 임의의 목적에 따라 산화물 또는 질화물 등의 박막(유전체 박막 등)을 형성하기 위해 reactive ... Reactive sputtering 에 의한 화합물 박막 형성은, 산화물이나 질화물 target을 직접 sputter 하는 것보다 제조, 순도 및 가격 면에서 유리하다. ... Reactive sputtering 중 기판온도를 올려주면 화합물 형성속도가 빨라져 성막속도를 증가시킬 수 있다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

  다운로드 장바구니
• 

  플라즈마 공학 실험 - DC 스퍼터링 및 RIE 식각 실험 레포트

  5분동안 진행하는데 target에 있는 불순물을 없애주고 기판표면의 불순물을 없애주어 기 판 위에 불순물이 존재하지 않게 하는 작업으로 pre-sputtering이 끝난 후에 스퍼터링을 ... pump로 진공을 빨아들이는 모습(저진공)Throttle vavle와 Main vlave를 열어 Diffusion pump를 이용해 진공을 빨아들이는 모습(고진공)그 후 pre-sputtering을 ... Ar과 O2, N2기체를 주입하는데, 물리적 식각으로는 기판 표면에 이온충돌로 인하여 불순물들이 이온의 크 기와 비슷하면 탄성충돌로 인해 불순물 내부에서의 충돌로 표면의 불순물이 sputtering돼

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2017.06.25

  다운로드 장바구니
• 

  반응성 스퍼터링법으로 증착된 CoNx 중간층을 이용한 (100)Si 기판 위에서의 에피택셜 CoSi2 성장 연구

  한국재료학회 이승렬, 김선일, 안병태

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  반응성 스퍼터링법으로 제조된 anatase TiO2박막의 미세조직에 관한 연구

  한국재료학회 최용락, 김선화, 이건환

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  재공실 - sputtering 결과보고서

  RF Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1. sputter의 각 부분의 명칭과 기능sputter system 위 그림처럼 크게 6개의 파트로 나눌 수 있는데 ... ), 불순물 가스 흡수용 타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다 ... sputtering), 스퍼터 가스가 증착막에 혼입하는 것을 막아 순도가 높은 박막을 형성하기 위한 목적에서 기판에 바이어스를 인가하는 바이어스 스퍼터(bias sputtering

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

  다운로드 장바구니
• 

  SnO/Sn 혼합 타겟을 이용한 SnO 박막 제조 및 특성

  한국재료학회 김철, 김성동, 김은경

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.06.04 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니