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"Wet 공정" 검색결과 1-20 / 854건

  • 반도체공정-Etching(wet,dry)
    Etching( wet,dry ) Contents Etching 이란 ? Etching 의 중요한 parameters Wet Dry Etching RIE 란 ? ... (Reactive Ion Etching) Wet Dry Etching- wet etching Etch 속도를 조절하는 방법 출처 Etching 이란 ? ... Etching( 식각공정 ) : 필요한 회로 패턴을 제외한 불필요한 부분을 액체나 기체의 Etchant( 플라즈마도 포함 ) 를 이용해 선택적으로 제거하는 과정 도체를 구성하는 여러
    리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.02.27
  • 식각액(Wet Etchant)제조공정의 품질향상을 위한 강건설계에 대한 연구
    대한안전경영과학회 최용석, 황덕형, 조광희, 오선일, 강경식
    논문 | 11페이지 | 4,200원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • MCFC용 wet-seal부의 내식성 향상을 위한 NiAl/Y 피복 공정에 관한 연구
    한국재료학회 최재웅, 강성군, 송상빈, 황응림
    논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05
  • 액상환원공정을 이용한 나노 코발트 분말의 합성 (Preparation of the Nano Cobalt Powder by Wet Chemical Reduction Method)
    한국분말야금학회 홍현선, 고영대, 강이승, 김건홍, 정항철
    논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.01 | 수정일 2023.04.05
  • 디스플레이 식각공정이란? /건식식각/습식식각/dry/wet ethcing
    4. 컬러 필터와 포토 레지스트(1) 컬러필터는 색상을 구현하는 컬러필터 패턴과 R, G, B 셀 사이의 구분과 광 차단 역할을 하는 블랙매트릭스(Black Matrix), 그리고 액정에 전압을 인가하기 위한 공통 전극으로 구성되어 있다. 컬러 필터 제작 순서는..
    리포트 | 13페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.12.22 | 수정일 2015.01.19
  • 세라믹제조공정-젖음(Wetting)
    응용분야로서는 섬유공업에서의 표백, 염색공정, 머서화공정에서의 균일성 향상, 종이·펄프공업에는 종이의 사이징과 흡수성 향상 등에 사용되고, 농약의 전착제, 도료·잉크공업에서의 안료분산제로도 ... 이 과제를 통하여 젖음(Wetting)의 정의와 접촉각(Wetting angle), 젖음성, 젖음력등 특성을 알아보면서 어떠한 경우에 젖음성이 좋은지 나쁜지를 구분할 수 있는 개념을 ... 서론이번 과제는 시험과 과제 제출일이 같아 당황은 했지만, ‘세라믹 제조공정’ 과목을 효과적으로 시험공부에 포함된 젖음에 관해서 알 수 있는 좋은 기회인거 같다.
    리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.10.12
  • [화공양론] 회전건조기를 이용한 문제 풀이 자료
    화 학공정계산 PresentationI ndex Ch.1 Concept Ch.2 Problem solving [ 문제 8.75.] ... Hot air is fed to the dryer at a rate of 11.6 m 3 (STP)/kg wet chips. ... 건구온도 [WET-BULB TEMPERATURE] 습구온도는 물을 묻힌 솜이나 거즈를 습구온도계의 수감부에 감은 상태로 측정하는 것이다 .
    리포트 | 19페이지 | 2,500원 | 등록일 2021.01.31
  • [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)
    Tube Furnace를 이용하여 Wet oxidation을 실시한다.Oxidation은 1000도에서 진행되며 2시간, 4시간, 6시간 세 번 진행된다.6) Ellipsometer을 ... 실험 목적MOS CAP을 제작하는 전체의 공정에서 첫 번째 공정에 해당하는 ‘Wafer cleaning & Oxidation’ 공정을 실시한다. ... 이 때 세정되는 표면의 특성이 친수성(hydrophilic)인가 소수성(hydrophobic)인가에 따라서 용제의 선택과 첨가물의 선택이 달라져야 한다.5) Wet oxidationVertical
    리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17
  • [반도체공정]Thermal Process 열공정 레포트 및 문제풀이
    oxidation:H2O). dry oxidation은 wet oxidation보다 느린 성장속도를 갖는다. ... 이러한 이유로 masking, field oxide 등 두꺼운 산화물 성장에는 wet oxidation이 선호된다.산화속도는 또한 도펀트 종류와 도펀트 농도와 관련이 있다. ... 반도체 공정에서는 여러 합금 공정이 사용되어 왔다. Self-aligned silicide 공정에서 cobalt silicide(CoSi2)가 대표적인 예이다.
    리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.09.25
  • (특집) 포토공정 심화 정리1편. 공정 Process 개략도& Wafer Priming
    6) Development- 전면의 Photoresist에서 원하는 Pattern을 만들어내는 일종의 Wet etching? ... < (특집) 포토공정 심화 정리1편. ... 포토공정 아래 그림과 같이 크게 구성됩니다.?
    리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.08.15
  • ITO Patterning 예비
    유기전자 디바이스의 Patterning 공정에서는 wet etching 방식을 사용한다. ... 기판 표면에서 선택한 영역을 제거하는 공정이다. dry process와 wet process로 나눠진다. dry process는 플라즈마를 이용하여 회로 윤곽을 형성하는데 사용하며 ... , wet process는 기판을 세정하는데 쓰인다.
    리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2019.12.16
  • [소자및공정 에리카 A+] CMOS Inverter Mask design Project
    Active region 주위에 wet oxidation을 사용하여 두꺼운 Field oxide를 만들어주게 되는데 이것은 Transistor끼리의 전기적인 절연을 위해 사용된다.Mask3 ... Contact MaskCVD공정을 사용하여 wafer표면에 산화막을 형성한다. 이때 낮은 온도에서 공정하여 고온공정으로 인한 transistor 손실을 막는다. ... Via Contact and MetallizationMetal 위에 CVD공정을 사용하여 oxide를 형성하는데 이때 저온공정을 사용한다. 이유는 mask7의 이유와 동일하다.
    리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.05.14 | 수정일 2020.08.26
  • 기판 (glass, silicon 등) 클리닝 공정 정리
    주제: 다양한 기판 클리닝 공정에 대한 조사1.Wet cleaning1-1) RCA cleaningRCA SC-1(Standard Clean-1, APM) 세정공정은 암모니아와 과산화수소 ... 세정법은 유기오염물 중에서도 포토레지스트와 같은 유기오염물을 효과적으로 제거하며 세정 후 기판 위에 화학적 산화막을 형성시키고 기판 표면을 친수성으로 만들기 때문에 다른 세정액의 Wetting을 ... 습식세정공정 (이원규_강원대학교)2. Skhynix newsroom, 세정공정
    리포트 | 1페이지 | 3,000원 | 등록일 2021.10.07 | 수정일 2021.10.29
  • [신소재기초실험]Wafer Wet Etching on lab
    PR에 피복되어 있지 않는 박막을 제거하는 공정endpoint(종말점): 식각이 끝나는 지점Wet etching웨이퍼를 식각 용액에 담그거나 뿌려서 식각하는 방법-식각 용액이 웨이퍼 ... 가장 많이 사용되는 실리콘과 실리콘 소자 공정에 대해 공부하고, 실리콘 소자 공정의 기본인 리소그래피와 에칭의 원리를 이해한다.2.이론적 배경실리콘의 구별과 초크랄스키 법silicon ... 이온을 주입한 후에는 꼭 열처리 공정이 뒤따르는데, 도핑된 이온들의 활성화와 기판을 anneal각)
    리포트 | 17페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.01.07
  • 수처리공정 - 물리적,화학적처리공정
    )- 화학적 산화 (chemical oxidation)- 습식 산화 (wet air oxidation)- 초임계수 산화 (super-critical water oxidation)- ... 그러나 또한 이전 공정에서의 침전 공정 또는 촉매를 이용하는 생산 공정에서 발생하는 중금속이나 중금속 혼합물과 같은 위험한 물질로 구성될 수도 있다. ... 그리고 업종, 공정, 운영방식에 따라 폐수의 질과 양이 다르기 때문에, 같은 종류의 상품을 생산하는 제조업체라 하더라도 배출되는 폐수의 수질은 차이가 있다.
    리포트 | 42페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.09.21 | 수정일 2024.03.18
  • Catalyst and Process to Remove Sulfur (수소화 탈황, WSA 레포트)
    본 레포트 에서는 연료 탈황 공정의 대표적인 예시인 수소화 탈황과 WSA process의 필요성, 반응 특성, 사용되는 촉매, 그리고 공정 특성에 대하여 서술한다. 1. ... 황산 배출 감소 외에도 공정 과정 속 고가의 금속 촉매(백금, 레늄 등)가 오염되는 것을 방지하는 효과가 있다. ... Hydrodesulfurization(수소화 탈황)(1) 공정의 필요성수소화 탈황(수첨탈황)이란 촉매를 이용하여 석유 속 유황 화합물을 수소화를 통해 제거하는 것을 이르며, 나프타,
    리포트 | 5페이지 | 2,000원 | 등록일 2024.06.16
  • 제품 형성 공학
    즉, 방사공정은 고분자를 섬유로 전환시키는 것으로 bulk상인 고분자물질을 filament의 형태로 일차원화 시키는 초기공정이다. polypropylene등과 같은 polyolefin섬유나 ... 방법으로는 용융방사, 용액방사, 전기방사 등이 있다.2.용융방사공정 순서(그림1)용융방사공정은 (그림1)과 같은 장비구성을 가지고 있다.①고분자가 extruder에서 용융되어 melting ... 적용하기 위해 유제를 처리하는 lubricant applicator 공정을 거쳐서 연신, 권취된다.2.1공정 장비 구성2.1.1)Extruder(그림2)Extruder의 역할은 용융상태를
    리포트 | 23페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.11.03
  • LG,삼성대기업합격_PT_양식서입니다. 많은 도움 되세요
    개발 장비 평가 진행LED wet/Spin 공정 업무 1) 신규 wet/spin 공정 set up 2) Customer 공정 issue 개선 진행 3) 신규 공법 개발 장비 평가 진행진행 ... 기술 engineer업무 경험 사항 입력 Summary반도체 Wet Station/Single Tool/Dryer 공정 업무 1) 신규 Wet Station/Single Cleaning ... 반도체 Wet Station(200mm) : 10대  약 76대 공정 Set up 및 Recipe Setting 및 양산 안정화 진행 2) 공정 Issue 및 안정화 관련 -.
    이력서 | 7페이지 | 6,000원 | 등록일 2020.06.30 | 수정일 2023.02.09
AI 챗봇
2024년 09월 03일 화요일
AI 챗봇
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- 작별인사 독후감
방송통신대학 관련 적절한 예)
- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대