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"catalytic chemical vapor deposition" 검색결과 1-20 / 628건

  • Synthesize multi-walled carbon nanotubes via catalytic chemical vapour deposition method on Fe-Ni bimetallic catalyst supported on kaolin
    한국탄소학회 Aliyu A, Abdulkareem AS, Kovo AS, Abubakre OK, Tijani JO, Kariim I
    논문 | 18페이지 | 5,200원 | 등록일 2023.04.05
  • Uniform deposition of large‑area graphene films on copper using low‑pressure chemical vapor deposition technique
    한국탄소학회 Mehmet Gürsoy, Emre Çıtak, Mustafa Karaman
    논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.05.08
  • ASML 영어 이력서 및 자소서 (English CV and Resume)
    Vapor Deposition (CVD) system more than 1.5 yearsExperienced photolithography to make micrometer scale ... Fabrication Process (CVD, lithography) Specialist +82-10-****-*********@****.ac.krPROFILESet up and utilized Chemical ... EDUCATIONMaster, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), PohangMarch 2019 – February 2021Chemical
    자기소개서 | 3페이지 | 5,000원 | 등록일 2022.01.22
  • A review of carbon‑based materials and their coating techniques for biomedical implants applications
    한국탄소학회 Sadia Hassan, Aroosa Younis Nadeem, Hafsah Qaiser, Amer Sohail Kashif, Ammad Ahmed, Khushbukhat Khan, Amna Altaf
    논문 | 18페이지 | 5,200원 | 등록일 2023.12.18
  • (특집) 증착공정 심화 정리5편. CVD, PVD
    CVD / PVD >[ CVD : Chemical Vapor Deposition ]'CVD(Chemical Vapor deposition) '에 대해서 소개하겠습니다.? ... [ PVD : Physical Vapor Deposition ]PVD 반응 과정(렛유인 참고)PVD장비는 Sputter라고 부릅니다.?1. ... Reactants enter chamber : 가스가 챔버에 들어옵니다.ex) SiH4 + H2O → SiO2?2.
    리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.11.02
  • [물리전자2] 과제2 단원 요약 Fabrication of pn junctions
    However, it can also cause implantation damage.5.1.5 Chemical Vapor Deposition (CVD)Chemical vapor deposition ... be challenging.5.1.6 Chemical Mechanical Polishing (CMP)Chemical mechanical polishing (CMP) is a technique ... a chemical reaction at the silicon surface.
    리포트 | 5페이지 | 2,500원 | 등록일 2023.12.21 | 수정일 2023.12.30
  • Properties, assembly and characterization of carbon nanotubes: their application in water purification, environmental pollution control and biomedicines—a comprehensive review
    한국탄소학회 Faiza Asghar, Babar Murtaza, Bushra Shakoor, Nabtahil Iqbal, Maria Shafique, Rafia Murtaza, Ian Sydney Butler
    논문 | 32페이지 | 7,800원 | 등록일 2023.05.22
  • 싱글 레이어 그래핀 성장
    CVD (Chemical Vapor Deposition; 화학 기상 증착법)CVD는 Chemical Vapor Deposition의 줄인 말로, 화학 기상 증착법이라고 불린다. ... Zhang, C. Zhou. Review of Chemical Vapor Deposition of Graphene and Related Applications. Acc. ... Cu-C, Ni-C Phase diagram이며, Cu-C Phase diagram은 조성 축을 확대하여 보였다.
    리포트 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2021.04.29
  • [태양전지실험] Study of Organic and Inorganic Solar Cells
    Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) PAGull lines). ... Non-ideal components are shown by the dotted line.The corresponding I-V characteristic is described by ... (100mW/cm2).
    리포트 | 40페이지 | 30,000원 | 등록일 2020.11.16
  • Sol-Gel 법을 통한 Glass 제작 시 Crack 억제 방안
    Vapor Deposition), PVD(Physical Vapor Deposition)법에 비하여 생산효율이 높다.⑥저온 process이므로 에너지를 절약할 수 있다. ... .②균일용액을 경유하여 균일한 유리를 얻을 수 있다.③박막 및 섬유상의 유리를 제작하기 쉽다.④축합반응을 정밀하게 제어함으로써 분자 설계에 근거한 유리를 제작할 수 있다.⑤CVD(Chemical ... 건조 중의 Crack 발생 기구 건조 중 crack이 발생하는 원인은 Gel과 세공 사이에 모세관력이 작용하기 때문이다.
    리포트 | 10페이지 | 4,900원 | 등록일 2021.03.24 | 수정일 2021.03.25
  • 반도체 금속공정
    Vapor Deposition) 화학 반응으로 인해 분해된 입자를 쏘아서 표면에 증착 ( 일반적으로 ) 높은 온도 , 낮은 압력 PECVD(Plasma Enhanced CVD) : ... Mechanical Polishing ) 회전하는 Plate 위에 Slurry 용액을 뿌린 후 Wafer 를 눌러주며 회전Method PVD(Physical Vapor Deposition ... : 열에너지를 이용하여 입자를 이동시켜 증착 s puttering : 전압으로 비활성기체 ( Ar 등 ) 이온화 시켜 타겟 (-) 에서 기판 (+) 으로 증착Method CVD(Chemical
    리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.02.26
  • CNT 분산 및 제조 리포트
    .2-2)CVD(Chemical vapor deposition)은 증착 하려는 물질을 기체상태로 퍼니스에 주입하여 기판에 증착 시키는 것이다. ... production -[E.Couteau, K.hernadi, J.W.Seo 외 4인]⊙Model of carbon nanotube growth through chemical vapor ... 참고문헌⊙VAPOR-LIQUID-SOLID MECHANISM OF SINGLE CRYSTAL GROWTH-[R. S. Wagner and W. C.
    리포트 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2022.11.03
  • [신소재기초실험]MOS 소자 형성 및 C-V 특성 평가
    PVD(Physical Vapor Deposition)와 CVD(Chemical Vapor Deposition)다. ... 기상증착법(Vapor Deposition)기상증착법(Vapor Deposition)들은 크게 두 가지로 분류된다. ... (chemical oxide도 제거)나.
    리포트 | 10페이지 | 3,600원 | 등록일 2020.04.19 | 수정일 2020.08.13
  • 졸업논문(포스터) Fabrication of GaN on Si hierarchical nanowire
    VLS growth mechanism on p - Si (100) substrates in metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD) reactor ... vapor liquid solid growth. ◈ Hierarchical nanowires have shown much lower reflection in comparison with ... of uniform length and diameter were successfully fabricated on Si (100) substrate by metal assisted chemical
    리포트 | 1페이지 | 2,000원 | 등록일 2019.11.30
  • 나노화학실험 CVD 예비보고서
    나노화학실험 예비보고서 – CVD(Chemical Vapor Deposition)1. 실험제목 : CVD(Chemical Vapor Deposition)2. ... -특징Indirect gauge측정범위 : 10-1~10-3torr반응속도가 느리다기체종류에 따른 보정이 필요하다[5] CVD(Chemical Vapor Deposition)의 정의-기판 ... coverage : 기관이 움푹파이거나 혹은 계단처럼 튀어나오거나 했을 때 얼마나 잘 증착되는가의 척도Ratio : step coverage(s/t) → 균일화 정도의 여부Ratio
    리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.06.30 | 수정일 2021.05.30
  • 반도체 박막 증착 공정의 분류 보고서 (3P)
    vapor deposition) 증착 공정(Fig.3)으로 크게 1) APCVD(atmospheric cvd), 2) LPCVD(low pressure cvd), 3) PECVD( ... 첫 번째 공정 법은 PVD(physics vapor deposition) 증착 공정(Fig.1)으로 물리적 기상 증착이라 불리며 물리적 방법을 활용해 반도체 금속 박막 증착에 주로 ... 증착), 박막을 위한 조건의 복잡성, target의 제한성(금속) 등의 단점을 갖는다.Fig. 3 CVD 증착 공정 형태이어서 반도체 제조에 주로 사용되는 두 번째 공정은 CVD(chemical
    리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.03.14
  • 나노화학실험 CVD 결과보고서
    나노화학실험 결과보고서 – CVD(Chemical Vapor Deposition)1. 실험제목 : CVD(Chemical Vapor Deposition)2. ... 따라서 cleaning시에는 아세톤으로 세척 후에 에탄올로 마무리하면 깨끗하게 cleaning할 수 있다.주의해야할 점열선이 끊어짐을 방지하기 위해서 온도는 5분씩 끊어서 10V씩 ... 아세톤은 세정, 세척, 살균 능력이 뛰어나 처음에는 아세톤으로 cleaning 하는 것이 좋다.
    리포트 | 3페이지 | 3,500원 | 등록일 2020.06.30 | 수정일 2021.05.29
  • 진공증착레포트
    (PVD)과 화학적 방식을 이용하는 Chemical Vapor Deposition(CVD)이 있습니다. ... 물질(금속, 폴리머)을 얇은 두께의 박막(Thin film)으로 형성하는 과정을 의미합니다.박막을 제조하는 기술은 크게 물리적 방식을 이용하는 Physical Vapor Deposition ... 2.0 torr, 300 C - 900 C에서 동작- 필름의 순도가 높고 균일하다- 증착률이 낮고, 높은 온도가 단점3.
    리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.11
  • SK 하이닉스 합격 자소서 (2021년)
    하지만 저의 연구실이 신생 연구실이라 합성할 수 있는 시스템이 제대로 갖춰져 있지 않아서, chemical vapor deposition(CVD) 시스템부터 구축하여야 했습니다. ... 또한, silicon wafer 위에 절연막이나 전도층을 증착할 때 쓰이는 CVD(chemical vapor deposition) 공정은 제가 직접 연구실 내에 system을 구축하기도 ... 크게는 전체 공정 디자인, furnace, mass flow control 종류 및 스펙 선택부터 시작해서 작게는 pipe와 O-ring 연결은 어떻게 하는지, fitting은 어떻게
    자기소개서 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.01.22
  • 국내 기업중 한 회사를 선정하여 간략한 회사소개 후, 해당 기업을 마이클 포터의 5팩터 경쟁요인에 적용하여 경쟁력을 분석하시오.
    그 밖에도 OLED용 박막봉지장비(Thin Film Encapsulation system)와 UVC LED용 MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition ... 구체적으로 (주)테스는 반도체 제조에 필요한 전공정장비 제조를 주된 사업으로 영위하고 있으며, 반도체 관련 주요 제품은 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor ... 출처- (주)테스 홈페이지 (http://www.hites.co.kr)- 전자신문, 중국, 반도체 장비 산업도 준비 '착착', 2018.08, 한주엽 반도체 전문기자- 전자공시시스템
    리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.06.10 | 수정일 2023.01.17
AI 챗봇
2024년 09월 01일 일요일
AI 챗봇
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2:43 오후
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- 작별인사 독후감
방송통신대학 관련 적절한 예)
- 국내의 사물인터넷 상용화 사례를 찾아보고, 앞으로 기업에 사물인터넷이 어떤 영향을 미칠지 기술하시오
5글자 이하 주제 부적절한 예)
- 정형외과, 아동학대