"etching" 검색결과 1-20 / 2,004건

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  A Study on Plasma Etching Reaction of Cobalt for Metallic Surface Decontamination

  한국방사성폐기물학회 Sang Hwan Jeon, Yong Soo Kim

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

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  Ammonia etched petroleum pitch‑based porous carbon as efficient catalysts for CO2 electroreduction

  한국탄소학회 Hui Ning, Zhihao Guo, Wenhang Wang, Xiaoshan Wang, Zhongxue Yang, Zhengguang Ma, Yangming Tian, Chenghao Wu, Jian Hao, Mingbo Wu

  논문 | 8페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.05.08

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  어플라이드 머티어리얼즈 CE 합격자소서 AMK/반도체/CS엔지니어/ETCH

  AMK 합격자소서1. Applied Materials에 지원한 이유와 Applied에서 이루고 싶은 목표는 무엇입니까?AMAT의 엔지니어가 되고 싶은 이유는 꾸준히 발전하는 엔지니어가 되고 싶기 때문입니다. AMAT는 전 세계 반도체 장비 점유율 1위라는 타이틀을 가지..

  자기소개서 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.10.31 | 수정일 2022.01.24

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  Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_결과레포트

  Etching은 dry etching과 wet etching이 있다. ... 감광제가 균일하게 코팅되어야 etching의 불량이 줄어든다. ... Hard bake를 진행하고 wet etching을 진행하였다.결과 사진실험에서 Photoresist로 사용한 AZ1512는 positive pr이다.

  리포트 | 6페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12

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  Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes_예비레포트

  제목: Microscale Patterning with Photolithography and Etching Processes실험 목적Photolithography와 etching의 ... Dry etching과 wet ecthing이 있다. ... Wet etching은 화학물질을 사용하여 식각한다.

  리포트 | 5페이지 | 3,000원 | 등록일 2023.12.12

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  Enhanced CO2 adsorption of activated carbon with simultaneous surface etching and functionalization by nitrogen plasma treatment

  한국탄소학회 Chaehun Lim, Cheol Hwan Kwak, Seo Gyeong Jeong, Daesup Kim, Young‑Seak Lee

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.05.22

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  [신소재기초실험]Wafer Wet Etching on lab

  (Etching) : 반도체 제작공정에서 PR에 피복되어 있지 않는 박막을 제거하는 공정endpoint(종말점): 식각이 끝나는 지점Wet etching웨이퍼를 식각 용액에 담그거나 ... Wafer cutting과 cutting이 끝난 Wafer를 BOE를 이용한 Etching 및 확인, SI Wafer의 P/N type 판정신소재기초실험1제출일: 2016-04-22 ... 초크랄스키 법2.2) 리소그래피- 리소그래피 방법2.3) EtchingP-TYPE과 N-TYPESeebeck effect실험 방법실험 결과와 고찰Wafer cutting리소그래피Etching

  리포트 | 17페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.01.07

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  [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry Etching, Metal Deposition

  결론본 실험에서 Etching depth는 시간에 따라 증가함이 확인되었고, PR의 etching rate가SiO _{2}의 ehching rate보다 느리다는 것은 모든 결과값에서 ... 실험 목적금속 증착은 반도체에서 Etching공정 후 전극을 형성하기 위해 Si Wafer 위에 금속을 증착시키는 공정이다. ... 사람이 손으로 길이를 설정하다보니 나오게 된 오류같다.또, 사진들에서 벽면이 비스듬한 모양으로 Etching이 되었음이 보이는데 이는 Chamber내의C _{x} F _{y} gas와

  리포트 | 10페이지 | 3,200원 | 등록일 2022.09.17

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  [반도체공정실험]Cleaning & Oxidation, Photolithography, Dry etching, Metal Deposition, Annealing(Silcidation)

  결과 분석표 1. etch 후 찍은 FE-SEM imagesSiO _{2} etch depthPR mask etch depth3min5min7min표 2. etch time에 따른 ... Etch rate표 3. etch time에 따른 etch rateSiO _{2} etch depthEtch rate3min0.33001100 A /min5min0.4300860 A ... etch depthSiO _{2} etch depthPR mask etch depth3min0.33001.10905min0.43000.87907min0.54900.7080플라즈마 에칭은

  리포트 | 19페이지 | 5,500원 | 등록일 2022.09.17

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  어플라이드 머티어리얼즈 CE 기업조사 AMK/반도체/CS엔지니어/ETCH

  CE 인터뷰*ETCH 장비*모집 분야AMK(https://www.appliedmaterials.com/ko)한국 반도체 업계의 시작과 함께하며 반도체 생산에 필요한 최첨단 장비와 글로벌 ... [다양한 공정 장비]1) ALD2) CMP3) CVD4) ECD : 반도체 소자 제조에서 대량으로 구리 배선을 형성하는 빠르고 비용 효과적인 방법5) EPITAXY6) ETCH7)

  리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2021.10.31 | 수정일 2022.01.24

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  ETCHING

  Etching 1 Contents 1. Introduction to the etch process 2. Dry etching 3 . ... Dry etching Application 4. Wet etching 2 Introduction to the etch process 3 What is the etching? ... + ( physical etch component ) F (chemical etch component ) 28 6.

  리포트 | 56페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

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  생체재료etching처리

  결과:controletching1분etching3분etching5분etching10분표면관찰10배표면관찰20배접촉각평균: 25.31왼쪽: 26.07오른쪽: 24.54평균: 50왼쪽: ... 제목: 생체재료 etching 처리2. ... 출처: https://ace-uk.net/processes/titanium-etching(Advanced Chemical Etching)

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.12.12

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  Photo 및 Etching 공정

  1. 사진(Photo) 공정 - 사진(Photo) 공정 포토리소그래피는 마스크상에 설계된 패턴을 실리콘 웨이퍼 표면에 전사하는 모든 공정-Automated Wafer Track for Photolithography-Koreatech Photolithography Pro..

  리포트 | 24페이지 | 3,000원 | 등록일 2018.04.04 | 수정일 2018.04.06

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  DRY ETCHING

  05.21 R E P O R T목 차 Dry Etch 란 ? ... 플라즈마 ETCH 의 반응 원리 건식 식각의 분류 PLASMA 의 이해 건식 식각의 활용 방법 PLASMA 를 이용한 건식 식각의 용도 식각률 (Etch Rate) 균일성 (Uniformity ... 반응성 라디칼을 사용하여 화학적으로 식각 Reactive Ion Etching(RIE) : 물리적인 방법과 화학적인 방법을 동시에 사용 살마루PLASMA 의 이해플라즈마 ETCH

  리포트 | 26페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.05.21

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  반도체공정-Etching(wet,dry)

  (Reactive Ion Etching) Wet Dry Etching- wet etching Etch 속도를 조절하는 방법 출처 Etching 이란 ? ... Etching( wet,dry ) Contents Etching 이란 ? Etching 의 중요한 parameters Wet Dry Etching RIE 란 ? ... 쌓는 과정 Etching : Diffusion 되어 들어온 Reactants 가 표면에서 chemical reaction 을 통해서 film 을 없애는 과정 Etching 의 중요한

  리포트 | 14페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.02.27

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  15Etching

  - Etching -목차#. Etching ? #. Wet etching? ... - 기본과정 - 스퍼터 에칭 - 플라즈마 에칭 - RIE - Dry etching 장단점 #. Wet etching vs Dry etching#. ... Dry Etching의 종류 1. 물리적 방법- Sputter Etching 2. 화학적 방법 – Plasma Etching 3.

  리포트 | 48페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  Etching (에칭)

  또한 각각의 etching 방식은 선택적(selective) etching과 비선택적(nonselective) etching으로 나눌 수 있다.2. ... Etching 예비 리포트1. ... 식각 공정은 그 방식에 따라 크게 wet etching과 dry etching으로 구분할 수 있다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.12.20

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  저에너지의 Ar 중성빔을 이용한 Silicon의 Atomic Layer Etching

  한국재료학회 오창권, 박상덕, 염근영

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Dewetting된 Pt Islands를 Etch Mask로 사용한 GaN 나노구조 제작

  한국재료학회 김택승, 이지면

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  wet etching

  Layer를 제거하는 공정 Wet Etching 과 Dry Etching이 있다Pattern의 식각 형태가 등방성(Isotropic etch). ... 프린트 배선판 제조, 금속 명판제조, 반도체 소자제조 분야 등Wet Etching Parameter Etchant 조성 Etchant 온도 Etching 방식 Etching 방식 : ... Poly-Si etch Si3N4 etch Al etchOxide란 SiO2 를 일컫는 것으로 이것의 막질의 식각 물질로는 DHF 또는 NH4F + HF 혼합액을 이용하여 식각하는

  리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.01 | 수정일 2013.12.18

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