"mocvd기술트리" 검색결과 1-7 / 7건

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  박막형 Ⅲ-Ⅴ족 태양전지 주요공정 및 실습 리포트

  트리메틸 갈륨 등의 유기금속 원료가스를 GaAs 기판상에 흘려GaAlAa와 GaAs의 에피턱셜 성장에 사용하고 있다. ... GaAs Substrate 위에 AlAs, Epi Layer를 역성장1) MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)- MOCVD는 실용적으로는 ... Active Layer)에 증착된 Au와 Kapton Sheet에 증착된 Au를 Boding1) 상온에서 금속결합이 형성되는 원리를 이용(고압)2) 접착제가 별도로 필요없는 Bonding 기술2

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.08.06

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  [공학]반도체, LED용 특수재료가스 산업 현황

  한국법인 : 73년 설립되어, 80년 합작법인이 되었다가, 99년 (미) 가 지분 100%을 매입경쟁력 : 최첨단 정제기술, 독자적인 벌크 ISO 컨테이너기술특수가스전문취급업체인 자회사 ... 주요 특수 가스암모니아(NH3)수요처실리콘반도체 질화막 재료, LCD 분야 개척(TFT 절연질화막형성재료)고휘도 청색 LED용 질화갈륨(GaN)용 MOCVD재료.주요 업체 : 쇼와정공과 ... 이외에 모노실란(SiH4)과 삼불화질소(NF3)가 성장세임.이에 반해, 차세대 반도체용 가스로 부상하고 있는 트리메틸실란과 핵사플오로-1,3부타디엔(C4F6) 등이 기대만큼 성장하지

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2006.08.03

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  국내 주요 led 기업 동향

  또한 질화물 반도체의 MOCVD 에피 공정 및 LED 제조 공정라인을 가지고 있다.- 최근 백라이트에서 축적한 광 기술을 응용하여 조명 분야로의 사업 확대를 추진하고 있다.○ 2005년 ... , 보스(BOSE) 진영의 도요타고세이(일본)ㆍ트리도닉(유럽), 보스2(패키지 제외) 진영의 인티메틱스, BOSS 진영의 미츠비시화학(일본)으로 구분된다.- 니치아는 시티즌과 라이선스를 ... 전공정인 에피웨이퍼와 칩, 패키징분야를 우선 흡수하고, 이후 외주 가공 단계인 모듈 공정과 세트(조명)분야의 담당여부를 검토 중으로 알려져 있다.- 삼성전기·삼성전자가 구매를 결정한 MOCVD

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.09.27

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  epitaxy 공정

  전형적인 MOCVD 공정에서는 트리메틸갈륨(TMG :trimethyl gallium)이나 트리에틸갈륨(TEG : triethyl gallium) 등이 갈륨 원료로 사용되며가 비소로 ... Fig 8 은 TMG를 사용한 MOCVD 공정 개략도를 보여 주고 있다. ... 점차 중요성이 더하여 가고 있다.갈륨 비소의 에피택시 성장에 관한 4가지 방법 즉, 기상 에피택시(VPE : vapor phase epitaxy), 금속 유기물 화학 기상 증착(MOCVD

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.21

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  국내의 주요led 기업의 동향 및 기술정의

  LED형광체 관련 원천기술은 크게 조성물에 따라 YAG 진영의 니치아(일본), TAG 진영의 오스람(독일), BOSE 진영의 도요타고세이(일본)ㆍ트리도닉(유럽), BOSE(패키지 제외 ... 위해 인수전에 나섰고 남영전구 또한 에피밸리 인수를 검토중.- 현재 국내 대다수 LED기업들은 미국, 대만등에서 ODM형태로 칩 공급받고 있음.○ 에피밸리는 LED 생산과 관련된 MOCVD장비 ... 기술동향21-1. 기술발전 추이21-2. 국내 기술수준31-3. 기술개발 동향41) 국내 기술개발 동향41-4.

  리포트 | 42페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.09.27

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  Sol-Gel법 (MOD, Spin Coating)

  하나의 큰 과제로 되었다.원료로 모두 유기 금속을 사용한 MOCVD수소화물을 사용한 MOCVD에서는 부가반응을 피하는 것이 곤란하고 위에 기술한 바와 같이 감압계로 한다든가 원료공급 ... 1.{10 -Sol-Gel법가.Sol-Gel법의 필요성수 천년 동안 세라믹스의 제조에 분말을 성형하여 이들을 소결하는 기본적인 기술이 이용되고 있다. ... 사용된다.(5)그 외의 첨가물로서는 겔 모노리스의 균열을 방지하는 것으로 기대되는 포름아미드, 디메틸포름아미드, 디옥산 등이 사용되고, 균질한 반응 등의 목적으로 아세틸아세톤과 트리에틴올아민

  리포트 | 10페이지 | 2,000원 | 등록일 2004.05.02

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  [광전자 공학] wafer의 결장 성장 방법

  전형적인 MOCVD 공정에서는 트리메틸갈륨(TMG : trimethyl galliumG와 AsH₃를 유입시키기 전에 HCl 이나 AsCl₃를 통한 식각이 일어나게 하면 되며 식각 온도는 ... 현재 위와같은 배경에 의해 MOCVD (metal-organic chemical vapor deposition)이 중요한 금속화공정 기술로서 인식되어지고 있으며 기술 개발을 위한 많은 ... MOCVD 공정 기술은 기존의 금속화공정에 널리 사용되고 있는 Al에 비해 비저항이 낮고 electromigration과 stress-migration에 대한 저항력이 높은 Cu의

  리포트 | 13페이지 | 2,000원 | 등록일 2002.12.06

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