"pulsed DC magnetron sputtering" 검색결과 1-15 / 15건

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  Low-Temperature Deposition of Ga-Doped ZnO Films for Transparent Electrodes by Pulsed DC Magnetron Sputtering

  한국재료학회 Dongkeun Cheon, Kyung-Jun Ahn, Woong Lee

  논문 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2023.04.05

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  [재료공학실험]투명전극재료의 합성 및 물성 평가

  마그네트론 Sputtering 법에 의한 ITO 박막의 합성1) RF, DC, Pulse DC-Sputtering System으로 건조시킨 glass 기판 사용하여 합성다. ... 전극으로 사용되고 있다.일반적으로 박막의 제작에는 저항 가열법(thermal evaporation) 과 전자선 가열법(eletron beam evaporation) 그리고 스퍼터링(sputtering ... 여기서, 측정시료의 형상이 단면적 S로 일정한 길이 L의 도선이라고 하면, 비 저항은 다음과 같이 구할 수 있다.ρ = (S/L)R = (S/L)(V/I)그림 2 point probe

  리포트 | 6페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.02.20 | 수정일 2022.02.22

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  원통형 타겟 타입 Pulsed DC Magnetron Sputtering에서 두께 변화에 따른 Al-doped ZnO 박막의 특성 변화

  한국재료학회 신범기, 이태일, 박강일, 안경준, 명재민

  논문 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  PVD

  위해서 사용되는 sputtering 가스는 이온화가 용이하고 target 이나 박막과는 거의 반응이 없는 불에 의해 (RF 또는 DC)target 로부터 방출되는 전자를 target ... sputtering 시 형성되는 박막에 잔류기체의 침입으로 인한 불순물 효과를 충분히 줄여 주여야 한다 . ● 스퍼터링 가스와 반응가스 sputtering 시 plasma 의 형성을 ... Magnetron Sputtering 63구성 : Target[cathode] + Substrate[anode] + RF power supply + impedance matching

  리포트 | 77페이지 | 3,000원 | 등록일 2012.12.24

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  플라즈마, Chemical Vapor Deposition 와 Physical Vapor Deposition

  V dc ≒ -100V RF Ionization of DC magnetron sputtering is mainly affected by secondary electron emission ... target for magnetron sputtering N N N S S S Substrate holder Substrate center side erosion Magnet good ... the sputtering target.DC Sputtering Process DC Sputtering Using Direct Current Power Low substrate temperature

  리포트 | 28페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.06.18

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  박막증착

  아마도 단원자들은 DC 스퍼터링에 반응하고 화합물은 RF/Pulsed DC Sputtering이나 반응성 DC Sputtering에 반응한다. ... 비균형적인 스퍼터링이 불리한전도 plasma의 밀도가 낮아서 target의 효율과 sputter rates가 낮아진다는 것이다.(5) E-Beam 일반적인 증착 /반응적 증착E-Beam ... (일반적인 마그네트론 스퍼터링의 자기장sma를 사용한다. 박막이 더 낮은 기판온도에서 만들어지므로 PECVD는 온도에 민감한 박막이나 기판용이 선호된다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01

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  ITO Glass

  , Pulsed laser deposition 등이 있는데, 가장 많이 사용되는 방법은 DC/RF Magnetron sputtering이다.* Magnetron SputteringSputtering은 ... ITO 박막 제조ITO 박막의 제조는 Chemical vapor deposition, DC/RF Magnetron sputtering, Evaporation, Spray pyrolysis ... 기판이 과열되기 쉽다.2) RF Sputtering : DC sputtering에서는 target이 산화물이나 절연체일 경우 sputtering이 되지 않는다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.17

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  SPUTTER

  그러나, 이온의 에너지가 너무 크면 이온 주입이 일어나 오히려 sputter yield는 감소한다.자료: Angstrom SciencesSputtering 종류DC sputtering ... 필라멘트를 가열시켜 열전자를 방출하여 이온화률 높여 낮은 압력과 전압에서 증착가능 Magnetron sputtering 강한 자기장을 이용하여 target 근처 plasma 밀도를 ... 이와 같은 상황을 아래 그림에 나타내었다.- 앞에서 본 바와 같이 magnetron target은 전형적으로 'racetrack'형태로 sputter erosion이 일어난다.

  리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.07

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  evaporator의 원리 및 이론

  LaserDC RF Pulsed DC Magnetron ReactiveReactive Cathodic arc3. ... E-beam Evaporation증착방법에 따른 굴절률 (TiO2)- E-beam evaporation, ARE : 2.2~2.35 IAD : 2.35~2.5 IP, Ion beam sputter ... Plasma Asun power supply DC power supply MFC lead out Thickness monitor RF generator Vacuum gauge controllerPAEBE

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.24

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  [공학기술]박막 공정,PVD,증착,진공증착,스퍼터링 보고서

  타켓이 전도체일 경우에는 DC 바이어스를 사용할 수 있지만 부도체인 경우에는 공간전하(Space charge)가 축적되는 것을 막기 위해서 RF(13.56MHz)나 Pulsed DC ... 스퍼터링- 음극스퍼터링(cathode sputtering)24p4.4.1. 직류스퍼터링(DC sputtering)34p4.4.2. ... 또한 step coverage가 좋아서 균일한 성막이 가능하다. sputter 방법이 갖는 단점인 낮은 성막 속도는 magnetron 이나 ECR (Electron Cyclotron

  리포트 | 70페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.08.16

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  박막의증착

  (A) Magnetron sputtering☞ Cathode에 영구 자석이 장착되어 타겟 표면과 평행한 방향으로 자장을 걸어 주는 sputter장치이다.☞ 자장이 타겟 표면과 평행하기 ... 타켓이 전도체일 경우에는 DC bias를 사용하지만부도체인경우에는 RF(13.56MHz)나 Pulsed DC전원을 이용해서 바이어스를 걸어줘야한다.??????????????????? ... PVD(Physical Vapor Deposition)금속 또는 비금속을 고진공 중에서 가열하면 증발 또는 승화하여 저온도 부분에 sputtering 할 수 있다.?

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.26

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  [반도체 공학] pvd의 종류및 증착원리

  DC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron 스퍼터링 장치가 반응성 스퍼터링 장치로 이용될 수 있다. ... 박막 증착에서 sputtering이라 하면 target 원자의 방출과 그 원자의 substrate에의 부착이라는 2가지 과정을 포함하는 개념으로 볼 수 있다. ... Target을 cathode로 하여 스퍼터링 할 때 주파수가 10 MHz 이상 되어야 효과적인 sputtering이 일어난다.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.09.30

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  [박막증착]박막증착

  따라서, target에서 균일한 증착속도가 얻어지지 않는다.이처럼 Magnetron target은 전형적으로 racetrack 형태로 sputter erosion이 일어난다. ... evaporation), 열증착법 (Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법 (L-MBE, Laser Molecular Beam Epitaxy), 펄스레이저증착법 (PLD, Pulsed ... (CVD)APCVD, LPCVD, PECVD, EPITAXY, MOCVDSOL_GELDIPPING물리적 박막 형성진공증착법 (Evaporation)SputteringDC, RF, DC

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.04.20

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  [반도체 제조공정] 반도체 제조공정

  타겟이 전도체일 경우에는 DC 바이어스를 사용할 수 있지만 부도체인 경우에는 공간전하(Space charge)가 축적되는 것을 막기 위해서 RF(13.56MHz)나 Pulsed DC ... DC diode, RF diode, triode, magnetron, modified RF magnetron 스퍼터링 장치가 반응성 스퍼터링장치로 이용될 수 있다.스퍼터링 기술의 큰 ... 이러한 공정을 반응성 스퍼터링(Reactive sputtering)이라고 한다.

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.12.11

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  초전도체의 연구개발 현황 및 종류

  박막제작에 가장 많이 쓰이고 있는 방법은 off-axis magnetron sputtering 과 고출력 엑시머 레이저를 이용한 레이저 증착(PLD){ PLD : Pulsed Laser ... 한국표준과학연구원에서는 니오 븀 초전도 박막을 이용한 고감도의 dc SQUID 그라디오미터를 개발하였으며, 다채널 심자도 측 정장치를 개발중에 있다. ... 초전도체의 종류와 응용분야{구 분재 료용 도저온초전도재료(금속{cdot금속화합물)NbNbTiNb3SnPbMo6S8SQUID 의료진단기7T 이하의 초전도자석8T 이상의 초전도자석초전도자석으로

  리포트 | 11페이지 | 2,500원 | 등록일 2000.10.08

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