"rf sputter 보고서" 검색결과 1-20 / 20건

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  학부생 연구프로그램 보고서

  업무 수행의 경과 및 결과ExperimentalMo 기판은 RF sputtering 방법으로 소다석회유리 위에 증착하였다. ... 겨울 학부생 연구 프로그램 결과보고서실 습 자 : 학번 2011 성명 김OO지도교수명 : 이OO 교수님기 간 : 12. 12. 26 ∼ 13. 02. 08내 용 : CIGS 전착을 ... 위한 sputtering 방법을 이용한 Mo 기판 제작1.

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.10.31

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  RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착 레포트

  실험 원리a) rf sputteringrf sputtering은 dc sputtering과 달리 금속외에 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 target에도 sputtering이 ... RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착김OO1. 실험 제목 : rf sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착2. ... 흐르게 설정후 잠시후 gas를 chamber안에 흐르게 한다.(1sccm=1cc/min의 gas flow)AC power를 켜주고 rf power를 키고 40w로 설정하고 플라즈마가

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.11.06

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  [고분자재료]ITO scribing & cleaning-예비레포트(만점)

  예비보고서※ 실습과제 #05 : ITO Scribing & Cleaning1. ... 기본적으로는 물, 용매, 초음파, UV 등으로 붙은 불순물을 제거하고, 이번 실험같이 더욱 큰 순도를 요하는 실험에서는 sputtering 등의 공정을 사용하기도 한다.sputtering ... 액체나 기체 상태의 이산화탄소를s)에 ITO 박막을 sputtering 기법으로 코팅한 것을 의미한다.

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2022.01.21

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정 최종보고서

  화공소재실험결과보고서실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정제 1 장. ... 때문에 개발된 sputter를 RF sputter라 하고 교류전원을 걸어주어 계속적으로 이온 플라즈마상태를 유지하면서 sputtring을 할 수가 있다.3. ... 이때 전극에서 나온 전자는 아르곤원자를 때리게 되고 이온화 시켜 플라즈마상태를 계속적으로 유지시키게 도와준다.그림1. sputter 공정 개략도위의 그림은 가장 간단한 DC sputter의

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.01 | 수정일 2020.08.17

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  OMO구조의 Metal층 두께에 따른 특성평가 예비보고서

  예비보고서1.실험이론1.1OMO구조그림 1 OMO구조 산화물 단일층으로 제작한 투명 전도막의 경우 상온에서 높은 저항을 나타낼 뿐 아니라 1×10-4 Ω-cm 이하의 비저항을 가지기 ... 수 있다는 장점이 있다.1.2스퍼터링 박막그림 2 스퍼터링의 원리 1.2.1원리스퍼터링(sputtering)이란 높은 에너지를 가진 입자,주로 이온이 고체표면에 충돌할 때 질량에 ... 양이온들이 타겟 물질과 충돌하게 되는데,그때 타겟 물질로부터 튀어나온 원자,이온,분자들이 기판으로 이동하여 증착이 되어지고 코팅이 이루어지게 된다.그러므로 박막은 타겟의 스퍼터링 수율(sputtering

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.18

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  재료공학실험3 2013년 1학기예비보고서RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해1) PVD 증착방식인 Sputtering의 원리에 대한 이해▶PVD (physical ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.그림 3 R.F. ... 수 있다.Sputter etch(Back sputtering) 에서는 기판에 -100V ~ -200V 정도의 RF 또는 DC(-) bias 를 걸어주어, Ar+ion 을 기판에 충돌하게

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr 증착, photolithography, Cr 식각 실험

  RF sputtering에 비해 성막속도가 크다.? 박막의 균일도가 크다? Target의 재료가 금속으로 한정된다.? 높은 Ar압력이 필요하다.(10 ~ 15m Torr)? ... 2014-2학기 광·전자화공소재실험결과보고서실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr 증착, photolithography, Cr 식각소속 : 응용화학공학부 광ㆍ전자화공소재전공분반-조-조원: ... 구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.? 성막속도가 여러 종류의 금속에 대해 거의 일정하다.? 전류량과 박막두께가 거의 정비례하므로 조절이 쉽다.?

  리포트 | 31페이지 | 2,000원 | 등록일 2016.04.26

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  [예비보고서] RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  이러한 교류 전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링법을 교류스퍼터링(RF sputtering)법이라 한다. ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로의 noise 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다.마그네트론 스퍼터링 ... ·DC magnetron sputtering이라 한다.나.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  스퍼터링 장비(펌프,게이지,Sccm)

  예비보고서 (4/27)윤영훈주제 : RF-magnetron sputtering을 이용하여저온증착 ZnO 및 고온증착 ZnO 박막의 증착 및 분석1.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.18

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  Photolithography 예비보고서

  ○○○○실험Photolithography예비보고서??Ⅹ?Ⅸ . ... RF sputtering법은 다른 디지털 회로에 noise의 발생 원인이 될 수 있으므로 시스템적으로 noise filter나 절연체에 의한 차폐와 접지가 중요하다. ... 포토리소그래피를 끝나면 sputtering을 진행한다. sputtering법은 sputtering 가스를 진공분위기로 이루어진 camber내로 주입하여 성막하고자 하는 target물질과

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.07.10

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  스퍼터링

  스퍼터링 (sputtering)-결과 보고서-목차1.실험목적2.기초이론 및 원리3.준비 기구 및 장치4.실험과정5.실험결과6.토의 및 고찰7.인용 및 참고문헌1. ... 사용하고 세라믹은 RF sputter를 사용할까? ... 기초이론 및 원리1)스퍼터링(sputtering)이란?

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.11.16

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  [토리컴자기소개서] 토리컴 합격자 자기소개서예문,토리컴합격자소서,토리컴(생산)공채입사지원서,토리컴자기소개서견본,토리컴자소서양식

  첫 과정은 사파이어 위에 P형 GaN를 증착한 후 900도에서 activation을 하고 RF Magnetron sputter를 이용하여 온도별로 n형 ZnO를 증착하는 것이었습니다 ... 그리고 선배들이 측정한 결과를 제가 분석하여 대학원 연구생과 토론하고 그 내용을 보고서로 작성했습니다.

  자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.07.25

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  GDS에 관한 예비/결과보고서

  GDS(Glow Discharge Spectroscopy)결과보고서1. ... 그러나 GDS 분석법은 비교적 높은 sputtering 속도를 가지고 도금층의 계면까지 용이하게 분석할 수 있고 수소 원소도 분석할 수 있으며 또한 RF교류 전원 source를 사용하여 ... 특히 높은 sputtering rate를 이용하여 유기물로 코팅된 표면처리 강판의 조성 분석과 깊이 방향 분석에 매우 유용한 방법이다.2.

  리포트 | 2페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.08.31

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  [전자공학][공학][초전도이론][제어시스템][반도체][다이오드]전자공학의 교과과정, 전자공학과 초전도이론, 전자공학과 제어시스템, 전자공학과 반도체, 전자공학과 다이오드 분석

  프로젝트를 수행하는 교과목들은 일반적인 실습 리포트 이외에 정식으로 프로젝트 보고서를 작성하고 결과를 발표하는 과정을 거치도록 한다.7) 실제적인 공학적 문제를 다룰 수 있는 디자인 ... 박막제작에 가장 많이 쓰이고 있는 방법은 off-axis magnetron sputtering 과 고출력 엑시머 레이저를 이용한 레이저 증착(PLD) 방법이다. ... Microelectro 소자② mm파의 검출, dc 및 rf 스퀴드(SQUID) 등과 같은 능동 아날로그 소자③ 고속으로 작동하는 마이크로 프로세서 등에 쓰일 능동 디지털 소자이러한

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.25

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  DSSC

  cathodic electrodeposition, rf-magnetron sputtering, Chemical vapor dsposition 등이 있다.이런 차단층의 조건 또한 매우 ... DSSC(Sputtering 및 Cell 제작)- 예비 보고서 -과 목재료공학실습Ⅱ분 반1 분반담당교수김상호 교수님학 과신소재공학과학 번2005171032이 름임 언 호목 차1. ... 그래서 이렇게 구멍이 많게 비표면적이 넓어진 구조를 만듦으로서 염료분자가 부착될 공간이 많이 확보된 것이다. 이런 구조면 TiO2 박막 안쪽에도 염료분자가 부착이 된다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.25

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  산화아연의 전망

  Ryu등9)은 PLD 법을 이용하여 GaAs 기판에 의한 As 도핑 방법을 이용하여 p-형 ZnO 박막을 제조하였다고 보고하였으며, RF magnetron sputter 법을 이용하여 ... 서 론2Ⅱ. 본 론31. 산화아연의 기본물성32. 산화아연의 제조62.1. 초음파 분무 열분해에 의한 산화아연 입자의 제조62.2. ... As이 도핑 된 p-형 ZnO 박막성장이 보고되었다.10) 그러나 p-형 ZnO 내의 정확한 AS 도핑 기구는 아직 규명되지 않고 있다.

  리포트 | 28페이지 | 3,000원 | 등록일 2010.06.29

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  포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리

  Photolithography 와 금속 배선기술Photolithography and electrochemical deposition techniquesAbstract본 보고서에서는 ... Sputtering의 기본 원리(출처 : www.cstl.nist.gov)박막 증착에서 sputtering이라 하면 target 원자의 방출과 그 원자al, thermal process ... TFT-LCD의 제조 공정의 기초 단계 중 하나인 Photolithography 공정에 대하여 자세히 다루고, 다음으로 금속 전기 배선 기술인 sputtering 기술과 도금법인 무전해

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17

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  스퍼터링 증착

  < 실험 보고서>SPUTTERING- sputtering법에 의한 금속박막의 증착과 밀착력 측정교 과 명 : 재료공정실습학 과 : 신소재공학과교 수 님 : 김상호교수님조 교 님 : ... excitation 등의 특징으로, discharge 내의 구성요소들의 존재는 특성 스펙트럼 파장의 조사로 알 수 있다.3) 스퍼터링 과정타겟(cathode) 쪽에 음전압(dc or rf ... 위의 식은 sputter yield, S와 다음과 같은 관계가 있다.

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.03.26

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  MEMS 개론 정리

  D : 이번 레포트는 일종의 세미나 형식의 보고서이기 때문에 레포트를 보는 사람이 이미 MEMS에 대한 전반적인 지식을 갖추신 교수님이신 점을감안하여 우리의 노력정도와 이해정도를 잘 ... RIE)- A combination of physical/chemical etching- Accomplished by replacing the neutral gas in a r.f. sputtering ... A : 회의에는 참석하지 않았지만 과제 제출.과기부에서 나온 책2권과 MEMS개요 관련 책 1권 준비 & e-book 3권 준비=>Switch와 Filter를 중심으로 RF MEMS에

  리포트 | 46페이지 | 5,000원 | 등록일 2006.11.01

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  [재료공학과] 유도결합형 플라즈마를 이용한 사파이어 식각

  플라즈마의 gas-phase를 관찰함으로써 공정에서의 고려되어야 할 사항을 실시간으로 검토하여 보완해 나갈수 있다.[14-21] 이러한 관계는 식각 분야에서만 아니라 reactive-sputtering을이용하여 ... 적절히 구성된 공진회로의인덕터에는 rf전류가 흐른다. ... 서 론사파이어는 빛의 투과성이 우수하며 세라믹 재료중에서는 드물게 금속과 유사한 열전도도를 지닌다.

  리포트 | 49페이지 | 3,000원 | 등록일 2002.12.07

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