"sputter 박막 증착" 검색결과 1-20 / 438건

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  Negative ion beam sputter 법으로 증착한 DLC 박막의 특성 (I)

  한국재료학회 김대연, 강계원, 최병호

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  혼합기체 sputtering 법으로 증착된 Cu 확산방지막으로의 Ti-Si-N 박막의 특성 연구

  한국재료학회 박상기, 이재갑

  논문 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Ti/Si의 조성비율이 다른 타겟을 이용한 sputtered Ti-Si-N 박막의 증착특성 연구

  한국재료학회 박상기, 강봉주, 양희정, 이원희, 이은구, 김희재, 이재갑

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

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  Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착

  스퍼터율(sputter yield)132.2.4. 스퍼터링을 이용한 박막형성의 영향요소142.2.5. RF 스퍼터링152.2.6. Magnetron 스퍼터링182.2.7. ... Simplified RF sputtering system.2.2.6. ... sputtering지도교수 김 D S이 논문을 학사학위청구논문으로 제출함2008. 12K대학교화학공학부 화학공학전공아 무 개?

  리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06

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  RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착 레포트

  RF Sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착김OO1. 실험 제목 : rf sputter를 이용한 InGaZnO(IGZO) 박막증착2. ... 형성하게 된다.electrodeposition, e-beam 등의 증착법과 달리 sputtering에 의한 박막은 박막의 두께가 균일하고, 큰 면적의 target 또한 이용 할 수 ... 실험 원리a) rf sputteringrf sputtering은 dc sputtering과 달리 금속외에 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의 target에도 sputtering이

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.11.06

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  진공증착레포트

  evaporation, sputtering, thermal evaporation, E-beam evaporationCVD공정에서 사용되는 기본적인 화학반응- 열분해는 보통 산소 없이 ... Ar+와 충돌하면서 시료(target) 물질에 존재하는 원자가 튀어나오게 되고 이 원자들이 기판(substrate)에 증착되면서 박막을 형성하게 됩니다. ... 고체상태의 물질을 기체 상태로 만들어 기판에 직접 증착시키는 박막 제조 방식입니다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2021.04.11

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  [고분자공학실험]박막 태양전지

  투명전극과 Al전극은 sputter를 이용해 증착시킨다. ... 박막 태양전지1. 실험 목적가. CZTSSe 흡수층 구조를 통해서 박막 태양 전지를 이해하고 특성을 평가한다.나. ... 따라서 S/Se 비율을 적절히 조절하여야 한다.버퍼층은 CBD 방법으로 여러 가지 물질을 섞어 Bath 안에서 화학반응을 통해 표면에 증착시킨다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2022.05.21

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  재료공학실험(세라믹) 최종 보고서

  증착 전Cr 박막 증착 후ITO 박막 증착 후모든 웨이퍼들에 ITO와 Chromium 박막이 고르게 증착된 모습을 볼 수 있었다. ... 장치에 가스를 주입할 때 정확한 양 조절을 위한 장치-Chamber: 진공상태로 만들어진 후 Sputtering이 이루어지는 장소-Power: 전원 공급 장치-Substrate: sputtering을 ... 실험 목적Magnetron 스퍼터링을 이용하여 각각의 웨이퍼에 재료를 증착시킨 후 박막 형성 결과에 대한 다양한 특성 평가를 진행한다.2.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2022.09.08

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  [신소재공학실험]박막 실험

  target표면에서 sputtering을 일으키고, 이들 sputtered된 중성의 원자들이 substrate로 날아가 박막을 형성하는 원리로 작동된다. ... Sputter1) sputter물리 기상증착법은 원하는 박막 물질의 기판이나 덩어리에 에너지를 가하 여 운동에너지를 가지는 해당 물질이 물리적으로 분리되어 다른 기판에으로서 Fe, ... 실험 배경현재 magnetron sputter는 반도체, LCD 등을 포함하는 microelectronics 산업에서 박막 형성을 위한 주요 장비로 널리 쓰이고 있으며, 소자의 고집적화

  리포트 | 9페이지 | 3,600원 | 등록일 2022.08.28

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  [물리학과][진공 및 박막실험]진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착

  진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착1. ... 실험목적(1) Sputter를 이용하여 ITO박막을 증착해보자.(2) Sputter 장비의 증착 순서를 익히고, 각각의 부품 역할을 이해하자.(3) ITO 박막의 특성을 결정하는 조건 ... 형성한다.1) 장점막 두께의 균일성, 내화재료 증착, 절연막의 증착, 큰 면적의 Target이용 가능, 박막의 밀착력 우수2) 단점성막 속도가 낮다, 박막이 UV, 전자, 이온등에

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.23

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  실리콘 웨이퍼 표준 세정, Cr증착, photolithography 공정 최종보고서

  두 가지 PVD 장비를 다음의 차이점을 통해 간략히 정리한다.표3. sputter 와 evaporator의 장단점sputterevaporator장점금속, 화합물, 절연체의 박막 형성 ... sputter가 있다. ... 때문에 개발된 sputter를 RF sputter라 하고 교류전원을 걸어주어 계속적으로 이온 플라즈마상태를 유지하면서 sputtring을 할 수가 있다.3.

  리포트 | 17페이지 | 2,000원 | 등록일 2020.04.01 | 수정일 2020.08.17

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  [물리학과][진공 및 박막실험]진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착 결과 보고서

  진공의 형성과 RF Sputter를 이용한 ITO 박막 증착1. ... 실험 목적(1) Sputter를 이용하여 ITO박막을 증착해보자.(2) Sputter 장비의 증착 순서를 익히고, 각각의 부품 역할을 이해하자.(3) ITO 박막의 특성을 결정하는 ... 결론Sputter를 이용하여 ITO박막을 증착을 할 수 있다. Sputter 장비의 증착 순서를 익히고, 각각의 부품 역할을 이해할 수 있었다.

  리포트 | 2페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.09.23

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  반도체 공정 term project

  , 섬유, 세라믹 등의 다양한 소재에 금속 또는 산화물 등을 일정 두께의 균일한 박막으로 코팅하는 진공 박막 증착장비2.개발 업체 현황2.1개발 업체 목록-AP 시스템즈(S/W기반 ... /cm2을 의미), 이를 위해서는 대략 300 ∼ 5000 V의 전압이 필요하다.기체의 압력은 glow discharge의 유지와 박막의 증착에 모두 영향을 미친다. ... ’이라고 부르기도 한다).DC sputtering은 코팅으로 사용될 target material에 이온화 된 가스 분자가 충돌하여 원자가 플라즈마로 sputtering되는 PVD(Thin

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2023.06.22

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  ALD 예비보고서

  , sputtering법이 있다. ... 물리적 기상 증착법이라고도 불리며 증착하고자 하는 박막과 같은 재료를 진공 중에서 증발 또는 sputtering 시켜 기판 위에 증착시키는 기술이다.증착 기법으로는 열증착법, 전자빔증발법 ... 이론 및 배경1) 박막 증착법의 종류① PVDPVD란 물리적인 반응을 통해 시료 기체를 증착하는 증착법이다.

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.12.15

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  학부생 연구프로그램 보고서

  그리고 작업압력과 기판온도는 2.5×10-3torr와 200℃로 고정시켰다.CIGS 박막은 sputtering 밥법을 통해 증착된 Mo 기판 위에 삼원전극을 이용한 electrodeposition ... 업무 수행의 경과 및 결과ExperimentalMo 기판은 RF sputtering 방법으로 소다석회유리 위에 증착하였다. ... 학부생 연구 프로그램 결과보고서실 습 자 : 학번 2011 성명 김OO지도교수명 : 이OO 교수님기 간 : 12. 12. 26 ∼ 13. 02. 08내 용 : CIGS 전착을 위한 sputtering

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.10.31

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  스퍼터링, RIE 실습 레포트

  Pre-sputter가 끝나면 셔터를 열고 스퍼터링 증착을 진행하는데 이 때 균일한 증착을 위해 로테이션을 돌려준다. ... Pre-sputter를 5분 동안 진행한다. ... 진행한다.① 플라즈마 방전이 확인되면 MFC를 이용하여 실험 조건의 Ar/O _{2}가스 유량으로 조절한다.② 3inch의 구리 타겟을 이용하여 Pre-sputter를 5분간 진행한다

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2020.06.28

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  ITO Film 제조 및 특성 평가 결과보고서

  대해 거의 일정하며, 전류량과 박막두께가거의 정비례하므로 조절이 쉽다.RF sputtering에 비해 성막속도가 크고, 박막의 균일도가 크다.또 구조가 간단하며, 성막속도가 여러 ... Power: Sputtering 기계는 DC전원과 RF전원 두 가지가 있다.DC sputter장치구조가 간단하며, 가장 표준적인 sputter 장치이다.성막속도가 여러 종류의 금속에 ... Torr)그리고 기판이 과열되기 쉽다는 단점이 있다.RF sputtering금속 이외에도 비금속, 절연체, 산화물, 유전체 등의sputtering이 가능하며 주로 13.56 MHz의

  리포트 | 20페이지 | 5,000원 | 등록일 2020.03.01 | 수정일 2022.12.03

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  반도체 금속공정

  증착 - 열처리 - 실리사이드 화합물 형성 - 잔여 금속 제거 폴리사이드 ( Polycide ) 다결정 실리콘 위에 실리사이드 sputtering- 고온 소결Materials-Al ... thermal evaporation : 열에너지를 이용하여 입자를 이동시켜 증착 s puttering : 전압으로 비활성기체 ( Ar 등 ) 이온화 시켜 타겟 (-) 에서 기판 ( ... 상태에서도 bulk 와 비슷한 전기전도도 박막 증착 쉬움 산화막 (SiO 2 ) 와 접착성 우수 녹는점 높음 , diffusivity 낮음 - Electromigration 억제

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2020.02.26

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  LG 디스플레이 2021 상반기 합격 자소서 (최합)

  반도체 공정실습에 참여하여 DC sputtering으로 Cu 증착 및 i-line UV exposure로 회로를 새기는 공정을 진행했습니다. ... 따라서 저는 각 팀의 DC sputtering의 조건을 분석하였고, 동일 조건에서 DC current를 증가함에 따라 가속전압으로 인해 박막의 두께가 두꺼워진 것을 분석할 수 있었습니다 ... 총 5팀으로 진행된 실습은 a-step으로 박막의 두께를 측정했을 때 각기 다른 Cu 박막의 두께를 가져왔습니다.

  자기소개서 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2022.10.15 | 수정일 2023.02.05

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  반도체공정공학 과제

  1) 실리콘 wafer 제조2) Lay out 에 의해 박막 선택 및 실리콘 wafer 위에 박막 증착3) Lithography 에 의해 박막 위에 patterning4) Ethching ... Lithography5) Etching6) Chemical vapor deposition (CVD)7) Diffusion8) Ion implantation9) Metallization (sputtering ... 에 의해 노출된 박막 제거5) 위 과정을 반복하여 반도체 소자 제작6) 작동되는 cell 과 작동되지 않는 cell 을 test7) Dicing 에 의해 개별 소자로 잘라짐8) Die

  리포트 | 1페이지 | 1,000원 | 등록일 2020.04.27

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