Dry etching(건식 식각) - 대본

소개글

Dry etching(건식 식각)에 관련된 ppt 자료 발표대본입니다.

목차

1. 플라즈마
2. 플라즈마 에칭
3. RIE
4. RIBE
5. Ion milling

본문내용

1. 플라즈마 : 기체 상태의 물질에 계속 열을 가하여 온도를 올려주면, 이온핵과 자유전자로 이루어진 입자들의 집합체가 만들어진다. 물질의 세 가지 형태인 고체, 액체, 기체와 더불어 `제4의 물질상태`로 불리며, 이러한 상태의 물질을 플라즈마라고 한다.-

2. 플라즈마 에칭
: 화학반응만으로 한다. selectivity가 좋으나 anisotropy가 좋지 않다.

3. RIE : RF 전원에 의해 플라즈마가 생성됨(자유전자가 질량이 낮으므로 더 많이 움직이고 그러므로 더 많이 와이퍼에 부딪혀서 흡수된다.(전자는 highly reactive species) 상대적으로 이는 와이퍼에 음전압을 생성한다. 동시에 플라즈마는 전자를 잃어 양의 전압을 띄게 되고 이 사이에 전계가

참고 자료

없음