"스퍼터링" 검색결과 241-260 / 774건

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  분광특성 측정실습

  Al 을 도포한 glass ①,②의 스퍼터링 조건은 모두 같으나 스퍼터링 기기 안에서의 시편 홀더의 위치가 다르다. ... 스퍼터링 시 홀더가 로테이션 할 때 홀더의 위치가 달라 아주 미세한 dopping 정도의 차이가 있을 수 있다. ... 그러나 앞서 말한 금속의 특성으로 미루어 보았을 때 금속은 빛을 흡수, 반사하기 때문에 각도와는 상관없이 투과도가 낮게 나타날 것이다.스퍼터링 시간별로 Al을 동일한 조건으로 도포한

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.07.02 | 수정일 2016.03.14

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  Reactive magnetron sputtering을 이용한 ZnO박막증착

  스퍼터링을 이용한 박막형성의 영향요소142.2.5. RF 스퍼터링152.2.6. Magnetron 스퍼터링182.2.7. RF 마그네트론 스퍼터링192.3. 플라즈마223. ... 스퍼터링82.2.1. 스퍼터링의 원리82.2.2. 스퍼터링의 특징122.2.3. 스퍼터율(sputter yield)132.2.4. ... Magnetron 스퍼터링이 장치는 DC 스퍼터링 장치와 비슷하지만 cathode에는 영구 자석이 장착되어 target 표면과 평행한 방향으로 자장을 인가해 준다.

  리포트 | 57페이지 | 3,500원 | 등록일 2008.12.06

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  세라믹 타겟의 제조

  스퍼터링시 target과 기판의 간격은 2.8㎝, target의 직경은 10㎝였다. ... ⑴ 제목 : 세라믹 타겟 제조⑵ 이론타겟(Target)은 이온도금(Ion plating) 또는 스퍼터링(Spuattering) 등의 건식도금법으로 공구류의 표면경화층 및 생활용품(장식품 ... 이 위에 고순도(99.99%) SiO₂ 타겟을 Ar 95%와 O₂ 5%의 분위기에서 RF(13.56MH₂) 스퍼터링시켜 약 200Å 두께의 정공차단막을 제조하였다.

  리포트 | 7페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.10.06 | 수정일 2023.04.29

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  반도체 공정 금속,metalization에 대한 발표 자료 입니다.

  금속의 증착 방법 (2/6) 물리적 기상 증착법 (Physical Vapor Deposition, PVD) 2) Sputtering( 스퍼터링 ) 원리 - 고진공의 플라즈마 상태에서

  리포트 | 27페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.03.03

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  플라즈마 이온질화 실험 보고서

  처리는 질화처리를 하기 전 시편 표면의 산화피막 또는 C, O2 를 제거하는 효과가 있다.따라서 Ar, H가스 장입 후 전압을 올리면 글로우 방전이 발생하는데 이 상태로 1시간동안 스퍼터링 ... 깨끗해야한다.따라서 질화처리 전 Sand paper #1500이상까지 연마한다.2) Spattering음극 강하에 의해 가속된 ion이 고체에 충돌하여 표면의 분자나 원자가 외부로 방출된다.이 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.12.22

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  건식식각 PPT

  좋 다건식식각의 종류 진공펌프 ~ ~ 진공펌프 Gas 진공실 이온 빔 테이블 웨이퍼 RF 발생기 양극 웨이퍼 음극 이온빔 식각 RF 스퍼터 식각건식식각의 종류 입사각 a 에 따른 스퍼터링

  리포트 | 25페이지 | 3,000원 | 등록일 2017.06.05

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  sputtering

  낮은편이나, 마그네트론을 이용하여 스퍼터링 비를 증가시키는 방법이 개발되었다. ... 박막 증착은 특히 반도체 산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam), 전자 빔(electron-beam) 또는 RF (Radio-Frequency) 스퍼터링(sputtering

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.03.24

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  SIMS( Secondary Ion Mass Spectroscopy )

  스퍼터링(Sputtering) - 고속의 일차이온이 고체시료 표면에 충돌하게 되면 충돌에너지에 의해서 결합된 입자들이 끊어지고 시료에서 방출 - 방출된 입자 중 일부는 이온의 형태인데

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.05.03

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  CIGS 개론

  이러한 교류전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링 법을 교류스퍼터링(RF sputtering)법이라 한다. ... 산화아연은MOCVD와 스퍼터링법이 주로 사용되고 있으나, CIGS 태양전지의 창(window)층인 산화아연 박막 성장에는 스퍼터링 방법이 주로 사용되고 있다.그림 1. ... (DC sputtering)라 하며 일반적으로 전도체의 스퍼터링에 사용된다.

  리포트 | 18페이지 | 2,500원 | 등록일 2014.02.08 | 수정일 2015.08.24

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  SK하이닉스 공채/공정관리 자기소개서 합격샘플 - 이력서컨설턴트 첨삭/SK하이닉스 채용 합격자소서 지원동기

  그리고 이를 통해 스퍼터링 과정에서 아주 작은 압력차에 따라 결과가 크게 달라질 수 있다는 것을 배울 수 있었습니다. ... 이후에는 무기공업화학 수강 중에 exposure, development, etching과 같은 반도체 제조공정에 대한 기초를 배우게 되었고 더 나아가 공업화학실험을 통해 스퍼터링 장비를

  자기소개서 | 6페이지 | 5,000원 (30%↓) 3500원 | 등록일 2018.07.30 | 수정일 2019.06.13

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  Thermal Evaporation을 이용한 금속 박막 증착

  여기서 PVD에 해당하는 증착 법에는 스퍼터링(Sputtering), 전자빔증착법(E-beam evaporation), 열증착법(Thermal evaporation), 레이저분자빔증착법

  리포트 | 4페이지 | 1,500원 | 등록일 2017.06.30

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  pvd,cvd의 종류와 원인 분석, 펌프와 진공펌프의 종류,원리 분석

  -PVD (Physical vapor deposition)-증착하고자 하는 박막과 같은 재료를 진공 중에서 증발 또는 스퍼터링을 시켜 기판 위에 증착시키는 기술이다. ... 이에는 열증발법(thermal evaporation), 전자빔 증발법(electron-beam evaporation),스퍼터링법(sputterion)이 있다.(1)열증발법(thermal

  리포트 | 21페이지 | 3,500원 | 등록일 2017.01.31

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  신소재공학실험 집적회로실험보고서 반도체 집적회로 IC

  오염한 오염 가능성.(2) 스퍼터링의 종류(가) 직류 인가 스퍼터링(D.C Glow Discharge sputtering)가장 간단한 스퍼터링 구조로서 전도성 물질의 스퍼터링에 사용된다 ... (나) 라디오 주파 스퍼터링(radio frequency-sputtering)직류 인가 스퍼터링의 가장 큰 단점은 절연물질의 증착이 불가능하다는데 있다. ... 전형적인 직류 인가 스퍼터링의 구조를 아래에 나타내었다.

  리포트 | 37페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.06.29

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  AZO, 면저항, FPP, 홀 메저먼트에 대한 조사

  oxide, TCO)로 사용되며 전극을 형성하는 박막은 높은 광투과율과 ~ 정도의 낮은 전기비저항을 가져야 한다.한편 400°C 정도의 수소플라즈마 분위기에 장시간 노출시 열화, 스퍼터링

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2019.07.03

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  ITO Scribing & Cleaning 예비보고서

  ◇ITO 박막 증착=일반적으로 ITO 박막은 스퍼터링(sputtering)에 의하여 형성된다. ... 고진공 스퍼터링 증착 방법을 사용하여 코팅막의 오염원을 최소화함으로서 Total Pitch 16㎛ LCD제품에 사용되고 있다2.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.02.23

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  재공실 실험2 예보 - RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  이러한 교류 전원을 인가전원으로 사용하는 스퍼터링 법을 교류스퍼터링(RF sputterig) 법이라 한다. ... ▶Sputtering그림 1 Sputtering 기술의 모식도 스퍼터링(sputtering)법은 스퍼터링 가스를 진공분위기로 이루어진 chamber 내로 주입하여 형성하고자 하는 target ... (DC sputtering)라 하며 일반적으로 전도체의 스퍼터링에 사용된다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.10.29

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  [반도체 공정 및 실습]Cryo pump

  표준대기압을 760Torr로 정의한다.러프진공고진동초고진동식품생산진공증착냉동건조증류법스퍼터링전기제품(네온등)튜브공정열처리집적회로생산장식용코팅입자가속화학연구E-beam, 용접기상증착이온주입우주개발재료연구금속공학물리연구표면연구MBE2

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2019.09.01 | 수정일 2020.08.10

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  인하대학교 전자공학과 기초실험1 예비보고서 RLC회로

  세라믹 로드에 니크롬, 니켈, 크롬, TiN, TaN 등을 진공증착, 스퍼터링 등의 방법을 이용해 필름 형태로 부착한 후, 홈을 파 저항 값을 조절하는 방법으로 만든다.

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2017.10.15

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  LCD

  수직으로 서있지 않기 때문에 터치를 해도 복원력이 뛰어나 최신 스마트폰에서 가장 많이 사용되는 패널입니다.스퍼터링 기법은 진공상태의 용기 안에서 증착하고자 하는 물질을 무거운 이온으로

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2019.06.14

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  유리 차공 시공법에 대하여

  .@ 로이유리 (low emissivity glass)- 판유리를 사용하여 이온 스퍼터링 공법(ion sputtering process)으로 한쪽 면에 얇은 은막을 코팅하여 에너지를

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.12.13

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