"광식각" 검색결과 321-340 / 513건

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  스핀트로닉스의 이해

  즉, 현재의 반도체 전자 소자를 조립하는데 필요한 미세가공기술로 사용하고 있는 광식각(photolithography)기술은 빛의 회절과 간섭 현상에 의한 한계 때문에 나노 영역에는 ... 무어의 법칙에 의하면 앞으로 10년 후면 약 20nm의 선폭을 가지는 소자들이 개발되어야 하지만, 현재의 반도체 공정인 광식각으로는 해상도의 한계로 인해 100nm 이하의 패턴을 제조하기는 ... 전자의 스핀현상과 자성에 관한 연구는 오랜 역사와 광범위한 응용에도 불구하고 이에 대한 학문적 이해가 부족하였으나, 1990년대에 들어서면서 초진공 증착기술과 표면과학의 급속한 발전으로

  리포트 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2007.10.08 | 수정일 2018.11.24

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  플라즈마란

  더욱이 플라즈마 공정은 다른 제련 기술 ( 습식, 건식, 전기 화학적 ) 보다 아주 광범위한 응용 범위를 가져, 보다 넓은 압력범위에서 반응이 가능하며, 일반적으로 종래의 어떠한 제련법에 ... 반도체 제조공정의 회로 식각을 위한 lithography 공정은 photoresist(PR)의 도포와 exposure, dry etching, 그리고 잔존 PR을 제거하는 ashing ... 유기물로 이루어진 PR을 연소시켜 기상으로 날려서 제거하는 것으로, 높은 radical density를 갖는 방전특성을 유지하는 것이 중요하다.3) PFC 개스 정화반도체 공정에서 건식식각

  리포트 | 16페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.07.09

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  반도체공정에 관한 작성 문서

  광 리소그라피 방법은 빛을 이용하여 패턴을훼이퍼 표면에 형성하는 기술이다. ... 따라서 여기서는 현재 많이 사용하고 있는 광 리소그라피 기술을 중심으로 기술한다. ... EBL 기술은 전자의 파장을 이용하기 때문에높은 해상도로 패턴을 형성할 수 있지만, 패턴을 형성하여 식각하는데 소요하는시간이 길고 장비가 비싸다는 단점이 있다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.04.30

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  epitaxy 공정

  .- 이러한 성장 방법들에 의해 Si과 GaAs를 포함하는 광범위한 반도체 박막 결정들이 키워지고 있다. ... 모두가 가역 반응이므로 과다한가 공급되면 과다하게 생성된 HCl과 Si 반응에 의해 실리콘 웨이퍼의 식각(ehtching)이 발생할 수 있다. ... -사용는 HCl을 생성하지 않으므로 식각 작용이 나타나지 않고 가역반응이 일어나지 않는다. 장점은때보다 낮은 온도에서 에피층 형성이 가능한 것이다.

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.06.21

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  [특허경영] 특허권 출원 현황과 특허전쟁 심화 PPT자료

  반도체 전공정 핵심장비인 플라즈마화학증착장비(PECVD ACL)와 반도체용 HF건식식각장비 등의 수요가 꾸준히 늘어난 덕분이다테스의 경우에도 특허로 인해 많은 수익을 창출하고 있는 ... 특허 선점 경쟁김주환 R&D특허센터 선임연구원은 "수명을 다한 외국기술 따라잡기 등 추격형 R&D로는 시장을 선점할 수도，글로벌시장에서 생존할 수도 없다"며 "태양광 등 녹색성장산업을 ... 특히 기존에 성장한 시장에 진출하는 것보다 새로운 시장에 진출하게되면서 얻는 이익이 클 것으로 여겨진다.태양광과 같은 신재생에너지 사업의 경우에는 아직까지 우수한 기술력을 확보한 기업이

  리포트 | 22페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.03.01

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  [특허경영] 특허권 출원 현황과 특허전쟁 심화 보고서

  반도체 전공정 핵심장비인 플라즈마화학증착장비(PECVD ACL)와 반도체용 HF건식식각장비 등의 수요가 꾸준히 늘어난 덕분이다테스의 경우에도 특허로 인해 많은 수익을 창출하고 있는 ... 특허 선점 경쟁김주환 R&D특허센터 선임연구원은 "수명을 다한 외국기술 따라잡기 등 추격형 R&D로는 시장을 선점할 수도，글로벌시장에서 생존할 수도 없다"며 "태양광 등 녹색성장산업을 ... 특히 기존에 성장한 시장에 진출하는 것보다 새로운 시장에 진출하게되면서 얻는 이익이 클 것으로 여겨진다.태양광과 같은 신재생에너지 사업의 경우에는 아직까지 우수한 기술력을 확보한 기업이

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.03.01

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  전기도금과 무전해도금

  방법표면처리 기술의 분류 이용분류표면처리기술박막형태전기도금무 전해도금용융도금진공증착(PVD) 진공증착(스퍼터링, 이온플레팅 등)기상도금도장전착도장표면가공양극산화(주로 알리미늄)화성처리식각법습식에칭건식에칭 ... 선택흡수성, 광 반사성 등 열적 특성 내열성, 열전도성, 용접성, 납땜성, 변색 등무전해도금의 일반공정탈지촉매Etching무전해도금의 일반공정반응 촉진제전기도금무전해니켈 도금무전해 ... 내식성, 내약품성, 침 탄/질화 방지, 세척성, 내 변색성, 방청효과, 확산방지 등 전기/자기적 특성 전도율, 접촉저항, 고주파특성, 자성, 전자파차단 등 광학적 특성 반사 방지성, 광

  리포트 | 25페이지 | 3,500원 | 등록일 2010.06.20

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  전기전자공학 - 마이크로, 나노 기계(MICRO,NANO MACHINE , mems)

  천문학, 정찰, 소형화, 광전자공학과 비침투 감지기법은 이러한 첨단 분야로 이익을 얻고 있는 몇 안 되는 연구분야들이다.3.2. ... 수 있다.3차원 구조체의 몰딩이나 기계적 가공 기술의 경우, LIGA로 대표되는 몰딩 기술과 미릴 머시닝으로 일컬어지는 초정밀 가공 기술이 대표적이다.LIGA 는 독일어로 사진 식각 ... MEMS 공정 기술MEMS 기술이 반도체-전기 전자-기계-광-재료-화학 분야 등의 집약 기술인 만큼 MEMS 구조, 부품, 시스템 등을 제조하기 위한 공정 기술도 실로 다양하다.MEMS

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.09.19

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  LED

  이론적설계를 바탕으로 나노형상의 주기적 패턴을 형성하여 적용되고 최적 설계의 PBC 패턴을 형성하기 위해서 주로 LED 소자의 제조공정에 의한 것으로 E-Beam 노광과 ICP/RIE 식각전도도가 ... 주황색과 청록색을 4대 1의 비율로 섰으면 백색광이 되는데, 주황색에서 적색까지의 발광색을 조절할 수 있는 InGaAlP LED는 경우에 성능지수가 100 lm/W를 초과함에 따라서 ... 백색 LED 특성 비교- 하나의 칩에 형광체를 접목시키는 방법은 1993년 후반에 들어서 고휘도 청색 LED의 상용화가 이루어짐에 따라 청색 LED를 여기광원으로 사용하고, 여기광을

  리포트 | 51페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.06.29

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  [나노]마이크로머신

  기술마이크로 머신 제조기술 개요마이크로 머신 가공기술응용분야앞으로의 기술동향..PAGE:4마이크로머신 기술시스템 이외 마이크로 구조물, 센서, 액추에이터, 마이크로 로봇 등을 포함하는 광범위한 ... & 이방성 식각등방성 식각이방성 식각이러한 식각 특성은 고유의 화학적 반응과 반응 부산물의 확산, 그리고 마스크의 모양과 마스크의 종류 등 여러 가지 요인들에 의해 결정..PAGE ... (anisotropic etching)하여 얻어진 다이어프램막 위에 압저항(piezoresist)을 도핑하여 압력센서로 이용하고자 하는 연구로 시작1970년대에는 이방성 식각공정을

  리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.09

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  [공학]디스플레이 재료및 공정

  식각 공정에 대해 조금 더 설명을 하면 아래와 같다.광 리소그래피 공정에서 마스크로부터 웨이퍼 표면 위의 감광막으로 패턴이 옮겨지고 난 후 식각 공정은 이루어지게 된다. ... 유용한 CVD반응은 광범위한 온도 범위에서 일어난다. ... 식각 공정에는 습식 식각(wet etching)과 건식 식각(dry etching)이 있다.

  리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.02.22

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  대기환경 보전

  식각(蝕刻)시설 등에 대한 배출허용기준을 신설하고, 도장시설의 비연속공정에 대한 탄화수소(THC), 시멘트 소성시설의 염화수소 배출허용기준을 현실에 맞게 조정하였고, 그라비아 인쇄시설을 ... 부식시키고, 식물의 수분흡수를 억제하거나 토양의 유기물 분해를 방해하는 등 토양과 수질을 오염시키고 생태계에 손상을 입힐 수 있다.국제적으로 산성비 문제는 유럽에서 1960년대에 광범위하게 ... 자동차배기가스에 포함되어 있기도 하고 연료의 고온연소시 공기 중 질소와 산소가 결합하여 생성되기도 하는데, 코와 목을 자극하며 호흡기에 나쁜 영향을 미치는 한편, 탄화수소와 함께 광화학스모그를

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.04.15

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  포토마스크 제조공정 및 재료와 제조설비

  유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화한 것 투명한 석영기판 상층에 도포된 크롬 박막을 이용하여 반도체 집적회로와 LCD 패턴을 실제 크기의 1~5 배로 식각 해 놓은 제품 사진의 ... 램프의 빔을 집광 Cold Plane Mirror : 빔 경로 변경 : 자외선 반사 , 열선 투과 Fly-Eye Lens : 조도 분포 향상 Spherical Mirror : 평행광으로 ... 장비 높은 생산성과 낮은 유지 비용이 이 장비의 장점 필름의 셋팅 및 교환이 비교적 손쉽게 설계 HANEX-M301S/R HANEX-A301DT/P Pattern 의 형상을 평행광을

  리포트 | 16페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.10.05

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  반도체 레이저 다이오드

  결정성장기술, 원자층 적층기술, Lidge 형성기술 등 반도체 레이저 개발에서 시작된 기술도 많다.아래의 그림중 BH형 레이저 공정은, 단결정 박막 성장에 의한 각 층의 성장 후에 식각 ... 통신1.3,1.55um대 : 석영계 광섬유 통신0.8-1.6um대 : 반도체 광증폭, 광섬유증폭0.85um대 : 단거리 광통신, 광 디스크0.78um대 : 콤팩트 디스크, 광 디스크 ... 유도방사를 이용한 광발진기를 레이저라 하는데, 넓은 뜻으로는 유도방사에 의한 광증폭 및 광발진을 합쳐 레이저라 한다.

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.10.19

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  [반도체공학]반도체 공정

  공정이라고 한다.이러한 식각공정에 의해 확산이나 이온 주입될 영역이 결정되어지고 또한 도선들의 연결작업이 이루어지는 것이다.■ Deposition- 반도체 공정 중 원하는 재료를 ... 마스크로 사용하고 마스크 아래에 있는부분과 외부로 노출된 부분 사이의 화학반응이 전혀 다르게 함으로써 마스크로 보호되지않는 부분들이 공정이 진행됨에 따라 떨어져 나가게 하는 기술을 식각 ... 증착되어에피층을 형성하고, 분해된 수소가스는 가스 상태로 그대로 남기 때문에 실리콘 성장에 영향을 미치지 않는다.■ Oxidation- 산화층의 특성을 결정짓는 인자로는 밀도, 파괴전압 및 식각비등이며

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.04.05

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  [공학]플라즈마와 투명전극, 투명전극 재료

  강력한 EUV를 내는 광소스는 리소그래피에 사용되며 전자빔, 이온빔과 같은 전하입자 빔은 핵융합, 환경산업 등에 사용되고 있으며, 또한 기존의 플라즈마 소스의 약점을 극복하여 새로운 ... 반도체 기술 분야- 건식 식각 장비기술- 박막 증착 장비기술- 반도체 PR 에싱(ashing) 장비 기술? ... 디스플레이 기술 (Display Technology) 분야- 디스플레이 평판 식각장비 기술- 디스플레이 평판 박막증착 장비 기술?

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.03.13

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  폴리싱 Polishing (연마)

  내용Polishing은 뜻이 광범위하여, 연마숫돌에 의한 연삭(硏削)도 이에 포함하기도 한다.이 경우, 연마된 면이나 연마 부스러기도 본래의 재질조직이 그대로 남아 있다. ... Dry etching 기술은 Plasma, Gas, Vacuum 등의 상태를 어떻게 만드느냐에 따라 식각 성능이 달라지며 Damage, Contamination 등을 고려해야 한다. ... Dry etching 두 가지로 나눌 수 있으며, Wet etching은 소자의 최소선 폭이 수백~수십μ대의 LSI 시대에 범용으로 적용되었으나, VLSI, ULSI 소자에는 등방성 식각이

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2008.06.05

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  반도체와 반도체공정

  고체촬상소자 또는 光電변환소자렌즈를 통해 들어온 화상 즉, 빛(광)에너지를 전기적인 신호 즉, 전기에너지로 전환하여 저장하는 반도체소자. ... (일반 사진현상과 동일).식각(ETCHING)회로패턴을 형성시켜 주기 위해 화학물질이나 반응성 GAS를 사용하여 필요 없는 부분을 선택적으로 제거 시키는 공정. ... 반도체) 제어(프로세서 반도체)반도체 제조 공정1.단결정 형성 2.규소봉 절단 3.웨이퍼 표면 연마 4.회로설계 5.MASK제작 6.산화공정 7.감광액 도포 8.노광 9.현상 10.식각11

  리포트 | 46페이지 | 4,000원 | 등록일 2008.06.04

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  [OLED, LED] 투명전극 IZO, ITO, ZnO 박막 특성 분석

  우수하다는 장점이 있어 적극적으로 검토되었고 현재 IZO 박막은 태양전지, 가스 센서, 평판 디스플레이 등의 투명전곡으로, 또한 박막 트랜지스터와 전자발광 디스플레이와 같은 디바이스로 광범위하게 ... .③ IZO(indium zinc oxide)IZO(Indium Zinc Oxide)는 인듐산화물(In2O3)과 아연산화물(ZnO)의 화합물로 ITO에 비해 상온 증착이 가능하고, 식각 ... 또한 ITO 필름도 상온 증착 공정과 표면거칠기 향상, 식각 불량 감소를 위한 공정이 개발되어 IZO 필름의 사용량은 2007년 6.2% 수준이며 향후 증가할 가능성 또한 낮은 것으로

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.19

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  포토리소그래피(photolithogragpy)

  일어나게 되고 다음 현상공정시 화학반응에 의한 패턴 형성-형성된 감광막 패턴은 후속공정인 식각 또는 이온주입시 barrier 역할을 하게 되고 최종적으로 chemical이나 식각용프라즈마에 ... Concept-마스크에 설계된 패턴을 웨이퍼상에 구현하는 기술-패턴이 형성되어 있는 마스크를 통하여 특정한 파장을 갖고 있는 빛을 resist가 도포 되어있는 웨이퍼 상에 노출-광화학반응이

  리포트 | 7페이지 | 3,000원 | 등록일 2007.12.29

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