"Sputtering" 검색결과 341-360 / 816건

• 

  [기계공학 실험] EWOD 실험 결과 보고서 (2가지)

  cleaning작업에선, 피라나 용액이 가지는 강한 산성성질을 이용하여 이물질을 제거하는 작업을 한다. cleaning 작업에는 Wet방법과 Dry방법이 있다.②Electrode 스퍼터(Sputter

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.07.25

  다운로드 장바구니
• 

  SIMS( Secondary Ion Mass Spectroscopy )

  Ion Mass Spectroscopy 이차 이온 질량 분석기SIMS의 정의SIMS의 종류Dynamic SIMS Statics SIMSSIMS의 원리일차 이온의 생성과 운반 스퍼터링(Sputtering

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2013.06.24

  다운로드 장바구니
• 

  KLA-Tencor CS 엔지니어 합격자소서, 면접 기출 총망라 (합격 보장)

  중 ‘세라믹 설계 실험’이라는 팀 프로젝트를 진행하며 디스플레이 산업에 TFT 소자의 활성층으로 주로 사용되는 ‘In Ga Zn Oxygen’인 ‘IGZO 산화물 반도체를 DC Sputter

  자기소개서 | 22페이지 | 8,000원 | 등록일 2019.07.09

  다운로드 장바구니
• 

  [금속재료공학]스퍼터링

  이러한 Sputtering 현상을 이용하여 wafer 표면에 금속막, 절연막 등을 형성하게 된다. ... 실험 제목스퍼터링 (SPUTTER)2. 실험 목적? 스퍼터링법을 이용하여 금속(구리)을 증착시킨다.? 밀착력 측정법을 숙지하고 실제로 박막의 밀착력을 측정할 수 있다.? ... 실험 장비RF/DC MAGNETRON SPUTTER 기기 , 기판(GLASS) , 초음파 세척기 ,4 point prove, Target4. 관련 이론(1) 스퍼터링이란?

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.05.15

  다운로드 장바구니
• 

  deposition 방법

  Sputtering의 경우는 이온화된 원자(Ar)를 전기장에 의해 가속시켜 박막재료(source material)에 충돌시켜면, 이 충돌에 의해 박막재료의 원자들이 튀어 나온다. ... 이러한 Sputtering 현상을 이용하여 wafer 표면에 금속막, 절연막 등을 형성하게된다.박막증착은 특히 반도체산업에서 핵심적인 분야인데 그동안 이온 빔(ion-beam), 전자 ... evaporation 증착법- 이온화된 원자(Ar)를 전기장에 의해 가속시켜 박막재료 (source)에 충돌시켜 원자들이 튀어나오고,이 튀어나온 원자들이 날아가서 원하는 표면에 붙게 하는 Sputtering

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.06.05 | 수정일 2013.12.01

  다운로드 장바구니
• 

  무기합성 및 분석화학 실험 결과보고서(제올라이트)

  .- ICP-Sputtering의 특징ICP는 기존의 증착장치에 유도결합식 플라즈마(이하 ICP로 기술)를 추가로 발생시켜 증착막의 특성을 획기적으로 개선시키는 가장 최근에 개발된

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2015.05.11 | 수정일 2022.09.29

  다운로드 장바구니
• 

  반사방지막코팅

  E-beam evaporation 의 장단점22Sputtering 23 장 점 단 점 1. ... 전자 를 target 바깥으로 형성되는 자기장내에 국부적으로 모아 Ar 기체원자와의 충돌 을 촉진시킴으로써 sputter yield 를 높이는 방법 이다 .RF Magnetron Sputtering ... 금속 이외에도 비금속 , 절연체 , 산화물 , 유전체 , 등 의 sputtering 이 가능하며 주로 13.56MHz 의 고주파 전원 을 사용한다 Ar gasRF Magnetron Sputtering

  리포트 | 39페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.12.24 | 수정일 2013.11.17

  다운로드 장바구니
• 

  각종 진공 pump 원리 및 사용 방법

  Sputtering 원리 및 사용 방법⑴. Sputtering 이란? ... Sputtering 증착법: RF Sputtering 증착법v RF sputter의 구조⑺. ... Sputtering 증착법: DC sputtering 증착법v DC sputter의 구조⑹.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.06.03

  다운로드 장바구니
• 

  thin file공정

  CVD은 박막 증착 과정에 기체 성분들간에 화학결합이 수반된다는 점에서 PVD와 Sputtering과 다르다. ... 박막제조공정(Thin film process)2-1 세척(Cleaning)2-2 증착(Deposition)1) Sputtering : DC 또는 RF magnetron을 이용하여 증착하고자 ... polymer 등)을 수십~수천 두께로 특정 기판 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 Thermal evaporation, E-beam evaporation, Sputtering

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.12.04

  다운로드 장바구니
• 

  [A+] LCD 디스플레이 개념, 특성, 분류, 형대, 구동방식 및 동작방식, 제조공정 방법 구조 분석

  PECVD 와 sputtering 방식으로 증착함 PECVD 의 원리 : 플라즈마의 이온 분해 SiNx 와 a- Si:H 박막생성 Sputtering 의 원리 : 금속표면의 원자 이동현상 ... 공정 ( 증착공정 ) Sputtering 은 RF power 나 DC power 에 의해 형성된 plasma 내의 높은 에너지를 갖고 있는 gas ion 이 target 표면과 충돌하여 ... 제조공정 - TFT 공정 방법 및 종류 (1) 노광공정 (2) 시각공정 (3) Dry etch 공정 ( 식각공정 ) (4) Photolithography 공정 ( 현상공정 ) (5) Sputtering

  리포트 | 33페이지 | 2,000원 | 등록일 2012.04.26

  다운로드 장바구니
• 

  magnetron sputter를 이용한 박막 형성 실험레포트

  그 외에도 렌즈나 안경테 등의 코팅에도 진 공을 이용하고 있으며, 지금도 새로운 산업이나 작업에 진공을 이용한 실험들이 계속되 고 있다.3> Sputter이란? ... ① Sputter : 물리 기상증착법은 원하는 박막 물질의 기판이나 덩어리에 에너지를 가하 여 운동에너지를 가지는 해당 물질이 물리적으로 분리되어 다른 기판에 쌓 이게 함으로 박막층이

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.08.18

  다운로드 장바구니
• 

  ITO

  DC Sputtering시에는 전자의 이동을 용이하게 하기 위해서 진공상태를 만들어줘야 한다.장점으로는 ① 구조가 간단하며, 가장 표준적인 Sputter장치이다. ② 성막속도가 여러 ... Ion plating도 Sputtering과 비슷하게 플라즈마를 사용한 증착공정이지만 Sputtering과는 달리 보통 증착하고자 하는 물질을 증발 법으로 기상화한 뒤 reactive ... 전자와 기체의 충돌을 촉진시킴으로써 낮은 Ar압력하에 Sputter할 수 있게 하거나, magnetron방식을 사용하여 해결할 수 있다.2) RF sputteringDC Sputtering에서는

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.11.05

  다운로드 장바구니
• 

  포토 레지스트 공정/ Photo regist 공정/감광액 코팅/TFT 공정/ 컬러필터 공정

  금속 - Sputtering, 화합물 - PECVD 기법 을 가장 많이 사용3. 세정 과정 : 증착 과정 후 다시 한번 세정 과정을 진행함 . 4.

  리포트 | 15페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.12.22 | 수정일 2015.05.15

  다운로드 장바구니
• 

  절연층인 CeO2박막의 제조 및 Pt/SrBi2Ta2O9/CeO24/Si MFISFET 구조의 전기적 특성

  한국재료학회 박상식

  논문 | 5페이지 | 4,000원 | 등록일 2016.04.02 | 수정일 2023.04.05

  다운로드 장바구니
• 

  ITO 증착에 관한 이론보고서

  장치현재 산업체에서 가장 보편적으로 이용되고 있는 박막제조 장치.Roll SputterFront-door Sputter- Sputter 장치의 종류ㄱ) Roll Sputter- Chamber ... 실험 방법1) ITO Film 제작- Roll Sputter를 이용하여 ITO Film을 제작한다.만드는 순서 : 저진공 → 고진공→ Ar 주입→ Power 공급→ Ar+가 Target ... 다양한 광학적 코팅에 사용.ㄷ) 가스센서ㄹ) 반사방지 코팅ㅁ) 빅셀(Vertical-Cavity Surface-Emitting Laser, VCSEL)ㅂ) 확대 반사경(레이저)4) Sputtering

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.22

  다운로드 장바구니
• 

  12DryEtching

  GAS를 공급해 반응을 일으켜서 증기압이 높은 물질 또는 휘발성 물질을 생성시킴으로써 식각하는 방법.Dry Etchingⅰ) Plasma Etching → chemical ⅱ) Sputter ... 감광막)등방성 에칭 : 모든 방향으로 에칭 되는 속도가 비슷하며 주로 습식에칭에서 나타 난다.이방성에칭 : 특정한 방향으로의 에칭속도가 빠 른 경우이며 주로 건식에칭에서 나 타난다.Sputter

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

  다운로드 장바구니
• 

  DSSC최종 설계 보고서

  증착된 TiO2 층 위의 약간 안쪽으로 Sputtering 할 수 있도록 좀 더 작게 다시 Patterning을 하여 Pt를 약 1분간 Sputtering 한다. ... 마지막 실험에서 45분간 Sputtering 했을 때 16 nm 밖에 증착되지 않았기에 더욱 증착하여 효율을 높이기 위함이다.3. ... 그리고 다시 2차 Patterning 한 것을 떼어내고 1차 Patterning 위에 TiO2를 약 90분간 Sputtering을 한다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.25

  다운로드 장바구니
• 

  DSSC결과보고서

  Screen print에 의한 TiO2는 다공성이어서 Sputtering에 의한 것보다 많은 염료를 흡착시킬 수 있다. ... 그래서 Interlayer로 Sputtering 법을 적용한 이유가 있겠고 또 하나는 Recombination을 줄이기 위함이다. ... 우리는 TiO2를 Sputtering 하면 TiO2가 증착된다는 가정 하에 실험을 하였는데 실제로는 TiOx가 증착될 확률이 더 크다고 한다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.12.25

  다운로드 장바구니
• 

  [기계공학실험] 마이크로 표면 측정

  금속의 증기를 사용하는 증발(evaporation) 증착법과 물질에 물리적인 충격을 주는 방법인 Sputtering 증착 법으로 나뉠 수 있다. ... 종류를 살펴보면 스퍼터링 (Sputtering), 전자빔 증착 법(E-beam evaporation), 열 증착 법 (Thermal evaporation), 레이저 분자 빔 증착 법

  리포트 | 10페이지 | 2,500원 | 등록일 2013.09.06

  다운로드 장바구니
• 

  로이유리

  소프트 로이 유리 (Sputtering 로이 유리)① 정의유리의 표면에 적외선 반사율이 높은 은을 코팅한 유리.단순히 은만을 코팅하는 경우에는 가시광선 영역에서의 반사율이 높아지고

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.06.13 | 수정일 2017.03.09

  다운로드 장바구니