"CVD종류" 검색결과 621-640 / 714건

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  Spin coating 법을 사용하여 발광박막의 제조-ZnO

  유기 전계발광 디스플레이는 평판 디스플레이의 한 종류로서 저전압 구동, 박형, 자체발광에 인한 고인식성 및 넓은 시야각, 빠른 응답속도 등의 많은 장점을 갖고 있어 현재 널리 사용되는 ... 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam 증착), sputtering, CVD

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.01.03

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  반도체 공정

  CVD (chemical Vaper Deposition)이 있다.2.1 CVD증착하고 싶은 필름을 개스 형태로 웨이퍼 표면으로 이동시켜 개스의 반응으로 표면에 필름을 증착시키는 방법 ... (1) 장점- 고순도 필름 형성 가능- 재료의 선택에 따라 각종 박막 형성이 가능- 제어하기 쉽다.- 대량처리가 가능(2) 종류APCVD(Atmospheric Pressure Chemical ... Deposition(박막증착기술)- 반도체 소자나 집적회로의 제작에는 많은 종류의 박막(Thin film)이 증착.- 박막을 증착시키기 위한 방법으로는 Evaporation, Sputtering과

  리포트 | 12페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.09.06

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  수술실 케이스 - Total thyroidectomy

  갑상선 암의 종류상피성 암유두암여포암역형성암C 세포수질암림프종갑상선암은 암이 유래된 세포에 따라 세 가지로 나눈다.? ... 흔한 부작용으로는 구역과 구토, 구SSOR MAYO CVD.129SCISSOR MAYO ST.130SCISSOR CUT ST.1LAPA PAD 20장SUCTION TUBE?

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.06

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  [디스플레이] DLP(Digital Light Processing)

  BASE의역할 및 동작신호의 인가하 는 스위칭 소자의 역할 MICRO MIRROR - 광원으로 부터의 빛을 반사하여 화상을 표시하는 역할을 하는 알루미늄 소재의 초소형 거울 - 화학기상증착(CVD ... 화면표시장치를 직접 주시하는 방식을 직시형 디스플레이라 하며 PDP, LCD, CRT 등은 모두 직시형 디스플레이.디스플레이의 종류2. ... LCD와 DLP의 비교디스플레이의 종류직시형 디스플레이 영상기기는 화면표시장치를 직접 주시하는냐 투 시한 영상을 간접적으로 보느냐에 따라 분류.

  리포트 | 30페이지 | 3,000원 | 등록일 2004.11.22

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  진공증착 (Evaporation)

  공정을 말한다.반도체기판상에 박막을 형성시키는 방법인 CVD는 기판표면의 배선.전극 등에 다른 종류의 가스와 고체 또는 가스와 액체의 화학반응에 의해 생성되는 박막 퇴적물질을 부착시키는 ... CVD(화학적 증착법)CVD는 Chemical Vapor Deposition의 약어로 화학적기상성장법을 말하는데 반도체기판상에 화학반응을 이용해 실리콘(SiO⁴) 등의 박막을 형성시키는 ... 공정상의 방법을 말한다.CVD 기술 및 특징 : CVD는 가스상의 화합물을 기판 위에 퇴적시키고, 기상 또는 기판표면 상에서 분해, 산화 등의 화학반응에 의해 박막을 형성하는 기술이며

  리포트 | 11페이지 | 2,500원 | 등록일 2002.04.10

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  [반도체 제조공정] 반도체 제조공정

  이러한 불순물주입은 공온의 전기 로 속에서 불순물입자를 웨이퍼 내 부로 확산시켜 주입하는 DIFFUSION(확산) 공정에 의해서 도 이루어짐.반도체 제조 공정12.화학기상증착 (CVD ... 및 특징1.반도체의 종류 (1) 진성 반도체(purity semiconductor) 4족에 속하는 원소 1종류로만 공유 결합을 하여 결정을 이루는 반도체 (2) 외인성 반도체(impuritysemiconductor ... 반도체 제조공정2조: 남기태,고준혁,손영석 김용태,박성진반도체 제조 공정2조: 남기태,고준혁,손영석 김용태,박성진목차반도체란 반도체의 종류 및 특징 반도체 제조 공정 반도체의 이용반도체란

  리포트 | 28페이지 | 2,500원 | 등록일 2004.05.28

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  [전기전자] 반도체제작법

  원소를 이용한다는 것을 강조하기 위하여 metalorganic이라는 이름을 썼으며 또한 물리적인 성장법과는 구별하기 위한 목적으로 chemical vapor deposition(CVD ... 그러나 CVD라는 이름이 polycrystalline층을 성장하는 방법에 널리 쓰이고 있기 때문에 단결정층을 성장한다는 것을 강조하는 의미에서 epitaxy라는 이름을 사용하여 MOVPE ... 이들에 비하여 MOVPE는 결정성장법에 요구되는 대부분의 조건을 만족시키며 거의 모든 종류의 화합물 반도체결정을 형성한다.

  리포트 | 17페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.07.13

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  [공학]반도체 집적소자 제조 단위공정 실험

  유리는 사용범위가 넓고, 어떤 산화물이 들어 가는냐에 따라 수 백가지 종류로 나눠지는데, 우리가 사용할 유리는 Soda-Lime glass이다. ... 상에 올리는 일련의 과정을 지칭하며 이러한 방법으로는 thermal evaporation(열증착), e-beam evaporation(e-beam 증착), sputtering, CVD

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.11.07

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  기계공학실험(복합재료 제작 실험)

  복합재료의 종류1) 금속기지 복합재료금속기지 복합재료는 플라스마 스프페리법, 액상침투법, 물리적 증착, 핫프레스법, 용탕단조법 등에 의해 제조된다. ... 탄소-탄소 복합재료는 CVD방법이나, 우선 탄소섬유 예비성형체에 탄소함량이 높은 수지를 함침한 다음 이를 열분해시켜서 탄소 이외의 원소를 날려 보내는 방법으로 제조한다.3.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.11.06

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  [반도체]반도체 제조 공정

  조사 : 콘텍트, 프로젝션, 다이렉트 스텝, U.V Deep UV, E-Beam, X-ray 에치 : 습식 건식(플라즈마, Ion)웨이퍼 위의 층 선택적 제거패턴형성산화 : 대기압 CVD ... 이 외에 다른 물질이 얹히기도 하는데 이 막은 종류에 따라서 절연체, 도체로 나눈다.3-(1) 막 형성3-(1) 막 형성AlAl Al/Si Al/Cu Ni Au도체에피실리콘 폴리실리콘반도체SiO2

  리포트 | 29페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.01

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  플라즈마 생성과 원리

  원자를 여기/전리시킬 수 있음 - 화학적 반응 용이 : 여기 또는 전리된 분자들이 다른 분자나 원자들과 반응을 쉽게 할 수 있음 - 예 : PECVD(Plasma Enhanced CVD ... DC보다 10배에서 100배까지 빠르게 이온화가 가능 용도 1) 용도 : 부도체에 Voltage Biasing할 때 사용부도체를 Sputtering, Etching, PECVD시킴 종류

  리포트 | 12페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.03.31

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  [식품] 기능성식품

  따라 서 습관적으로 항산화제를 적게 섭취하는 것은 CVD의 원인이 될 수 있다. ... 많은 종류의 동물 을 가지고 한 실험에 의하면, 수명은 필수 영양소를 적절히 섭취하면서 칼로리를 제한했을 때 크게 증가시킬 수 있다고 한다. ... 기능성 소재를 이용한 식품의 종류1> 기능성 쌀상황버석균, 영지버섯균, 표고버섯균, 느타리버섯균, 동충하초균을 쌀에 배양하여 버섯의 균 사체가 함유되며, 현대인의 각종 성인병(만성피로

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.11.24

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  질화규소

  합성법에 대해서 간단히 소개했지만, 현시점에서는 이들 각 방법의 우열을 가리기는 어렵다.(4) 기상 반응법(CVD)1) 기본반응1000℃- 3SiCl4 + 4NH3 -------> ... 강도를 보이는 것으로 보고되어 있다.최근에는 이미드 분해법과 동등하게 우수한 특성을 갖고 더욱이 대폭적인 비용인하가 가능하다는 보고도 있어 금후의 동향이 주목된다.이상 대표적인 2종류의 ... 역사적으로는 실리콘의 직접 질화법에서 시작되었다.그 후 환원질화법, 이미드 분해법 등의 합성법이 개발되어 현재 이들 3종류의 분말이 실용화되고 있다.(1)실리콘 직접 질화법1) 기본공정N2

  리포트 | 18페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.08.29

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  [반도체공학] pn접합의 제작

  원하는 운동에너지로까지 가속한 다음 그 이온은 질량분리기를 통과시켜 원하는 이온의 종류들만 이 확실하게 표동관으로 들어가게 한다. ... CVD 과정은 {SiH_4와 같은 Si을 포함하는 가스를 산소를 포함하는 선구물질과 반응시켜 화학반응을 일으켜서 기판 위에 {SiO_2를 증착시킨다. ... Chemical Vapor Deposition : CVD(화학기상 증착){{SiO_2박막은 저압 LPCVD(화학기상증착)이나 PECVD에 의해 형성될 수 있 다.

  리포트 | 5페이지 | 무료 | 등록일 2002.10.25

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  [박막] 진공 증착법에 의한 박막 제작

  나뉘어지며, 이들 두 방법은 다시 기술적 혁신을 불러 플라즈마 CVD 법 또는 반응성 이온 도금법이 개발되어 있다. ... 보통 30%정도의 오차는 염두에 두는 것이 좋다.기체는 그 종류에 따라 이온화 에너지가 다른데 대부분 10~25eV 정도이다. ... 또한 오일을 사용하지 않기 때문에 로터리 펌프보다 훨씬 빠른 속도로 회전할 수 있으나, Vapor Deposition)법, CVD(Chemical vapor deposition)법으로

  리포트 | 15페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.05.15

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  [화학공학] 화학 공업 기술을 사용한 제품 20가지 조사

  SBR은 사용하는 유화제, 안정제, 응고제의 종류, 프로세스유 및 카본블랙의 유무 등에 따라 여러 종류가 있다. ... MOCVD법 : 고온의 기판상에 원료가스를 흘려 기판표면에서 분해반응이 일어나 박막을 형성하는 CVD법의 하나- 플라스마 CVD법 : CV있다. ... 에멀젼을 조제하기 위한 유화제로서는 이와 같은 종류의 유화제는 그다지 이용되지 않는다.

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.06.11 | 수정일 2017.10.24

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  [신광원기술, 신광원재료, 나노, CNT, 탄소]신광원재료 CNT(탄소나노튜브) 기술자료

  Display 종류별 cathod 특징 비교 5. CNT를 이용한 직관형램프 구조 6. CNT의 합성법 7. CNT의 전계방출법 8. ... 균일하고 안정적인 방전 형성■ 열 화학 기상 합성법 (Thermal CVD)Temperature controllerGauge controllerGas flow controllerVacuum ... power lineSubstrateSpaceGridPhosphor-coated ITO anodeCathode power lineGrid power lineGetterDisplay 종류

  리포트 | 16페이지 | 28,000원 | 등록일 2004.10.21

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  [반도체] 박막두께측정

  -종류ellipsometer는 종류가 매우많다. 백가지도 넘는다고 한다. 이렇게 종류가 많은 이유는 완벽한 ellipsometer가 없기 때문이다. ... 고신뢰성박막 등이 요구되고 있으며 진공을 이용한 PVD(Physical Vapor Deposition)법, 고온반응을 사용하는 CVD(Chemical Vapor Deposition) ... 어찌되었건 작동원리와 기능으로 종류를 분류해보자.① 측정 방식에 따른 분류.측정방식으로는 , 그리고 등으로 분류할 수가 있는데 대부분 반사형 및 passive형으로 사용하고 있어

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.09

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  [분체공학] 분체입자의 제조방법

  용액의 조건이 가혹하며 적용 화합물의 종류도 한정된다.가수분해법가수분해에 의해 수산화물, 수화산화물을 침전시키고, 이것을 하소하여 산화물로 만든다. ... 기능성 분체 제조에 적합- 분류·Building up법은 원자, 분자의 확산에 의해 지배되는 process·입자의 생성속도 : 기상법 〉액상법 〉고상법{물리적방법(PVD)화학적방법(CVD ... , 실리콘, 산화물, 탄화물, 질화물, 금속·1차입자는 2nm∼100㎛·2차입자의 응집체는 제어가능·반응온도 〈 2000K·반응시간 1ms∼1s·가스의 체류시간 10ms∼10s- CVD에

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.28

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  FED 전자원의 원리와 구조

  비교적 간단한 프로세스, 자발발광이라는 장점이 있다.그림 PDP의 구조다음 표1은 평판디스플레이의 대표주자인 LCD와 PDP 그리고 차세대 디스플레이 FED의 장단점을 비교한 것이다.종류장 ... 균일하게 정열하지 못하고 누워있기 때문인데 이를 극복하기 위해 고에너지 레이저로 인쇄면을 스캔하여 표면에 보풀이 일게 해서 CNT의 균일성을 높이려는 시도가 이루어지고 있다.그다음 CVD법은

  리포트 | 14페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.12

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