"스퍼터" 검색결과 61-80 / 240건

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  이온주입법이란

  고체들은 특수한 이온 소스로 스퍼터될 수 있고, 이 기술로 불순물을 폭넓게 선택할 수 있습니다.2) 질량분광계질량분광계(=자기 분석기)는 원하는 불순물 이온을 선택하기 위하여 이온빔을

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.10.11

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  결과보고서 2. RF-Magnetron Sputter를 이용한 박막 증착 원리 이해

  타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다. ... 스퍼터 증착한 타겟 물질을 기판 위에 침착시켜서 박막을 형성하는 것을 스퍼터 증착(sputter depostion)이라고 한다. ... ), 스퍼터 가스가 증착막에 혼입하는 것을 막아 순도가 높은 박막을 형성하기 위한 목적에서 기판에 바이어스를 인가하는 바이어스 스퍼터(bias sputtering), 불순물 가스 흡수용

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.07.21

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  [sputter]sputter 종류와 mechanism

  스퍼터 가스로는 보통 Ar이 사용된다. ... 처음에 target 내부로 주입되었던 이온(중성 원자)은 target이 스퍼터되면서 닳게 되기 때문에 결국 target으로부터 스퍼터되어 방출된다. ... 일반적으로 반응성이 없는 불활성 기체(noble gas)가 스퍼터에 이용된다.

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.02.26

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  [기계공학 실험] EWOD 실험 결과 보고서 (2가지)

  이 스퍼터를 이용하여 크롬과 금을 증착시킨다.③PR(Photo Resist) Coating Spin coater를 사용하여 Electrode위에 Photo Resist(감광액)를 ... cleaning작업에선, 피라나 용액이 가지는 강한 산성성질을 이용하여 이물질을 제거하는 작업을 한다. cleaning 작업에는 Wet방법과 Dry방법이 있다.②Electrode 스퍼터

  리포트 | 3페이지 | 2,000원 | 등록일 2013.07.25

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  이온빔스퍼터링 or 스퍼터링

  물질의 일부가 개스에 의해 후방산란 될 수 있다.반응성종의 스퍼터링스퍼터링 수율은 이온의 질량에 따라 증가스퍼터된 종의 성질20보다 큰 원자번호를 가진 금속으로부터의 스퍼터 방출된 ... 이온 빔 스퍼터링 Ion Beam SputteringContents이온 빔 스퍼터링스퍼터링이온 플레이팅요약 및 결론스퍼터 증착 공정스퍼터링 공정 ;강력한 투사입자들의 충격에 의해 고체 ... 타겟 으로부터 입자의 방출스퍼터링의 가장 두드러진 특징은 만능성이다.스퍼터-증착의 응용 ;전자산업 ,공구의 내마모성코팅 , 플라스틱 자동차부품의 금속코팅 등장점/ 신뢰성 ,자동제어가능단점

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.04.08

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  VLSI공정 2장 문제정리

  설명하시오.UBM(Under bumped metallurgy): Al패드와 범프 사이에 접착성 및 젖음성을 좋게 하기 위해 구성하는 금속층으로, Cr, Ti, TiW, Cu, Al등의 금속이 스퍼터

  리포트 | 7페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

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  59스퍼터링02

  All Rights Reserved.TargetSubstrate표적이온스퍼터율하나의 양이온이 음극에서 충돌할때 표면에서 방출되는 원자의 수SPUTTERING스퍼터 Yield***** ... 타겟 소스를 여러 개 놓고 동시 스퍼터가 가능하므로 다성분 박막 증착에 효율적이다Copyright Group 11. ... All Rights Reserved.RF SputteringTargetRF Power Supply진공펌프타겟 홀더Plasma교류 전원을 이용한 스퍼터 방법(13.56MHz)❏ 장 점

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  스퍼터링

  박막을 작제하는 반응성 스퍼터법도 있다. ... 원자의 수를 스퍼터율 S라 한다.Fig 4. ... 그러므로 이온의 입사각도를 제어할 수 있는 이온 빔 스퍼터에서는 이온빔을 타겟에 대하여 비스듬히 입사시키는 일이 많다.일반적으로 타겟과 같은 재료의 박막을 얻는 경우의 스퍼터에서는

  리포트 | 23페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.04.13

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  E-Beam Evaporator를 이용한 박막 증착 원리 이해(결과보고서)

  타겟이 있는 게터 스퍼터(getter sputter), 타겟 자신의 증발 이온으로 타겟을 재차 스퍼터하는 자기 스퍼터(self sputtering)라고 한다. ... 스퍼터 증착한 타겟 물질을 기판 위에 침착시켜서 박막을 형성하는 것을 스퍼터 증착(sputter depostion)이라고 한다. ... ), 스퍼터 가스가 증착막에 혼입하는 것을 막아 순도가 높은 박막을 형성하기 위한 목적에서 기판에 바이어스를 인가하는 바이어스 스퍼터(bias sputtering), 불순물 가스 흡수용

  리포트 | 5페이지 | 1,500원 | 등록일 2011.05.20

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  진공 및 박막의 전제척인 개념 및 박막의 3가지 성장모델, CVD & PVD 비교 정리

  가장 큰 장점은 진공이 반드시 필요치 않고, 액체나 기체상태의 증착재료도 이용할 수 있다는 점이다.DC 스퍼터는 직류전류를 사용하는 구조가 간단하고 표준적인 스퍼터 방식이다. ... RF 스퍼터 보단 저렴하지만 고전압이 필요하여 장비가격이 비싸진다. ... (그림)DC 스퍼터는 여러 종류의 금속에 대해서 증착속도가 일정하다.

  리포트 | 8페이지 | 6,500원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2022.11.21

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  [초전도체][초전도체 특성][초전도체와 전기전도][초전도체 성형법][초전도체 응용기술]초전도체의 정의, 초전도체의 특성, 초전도체와 전기전도, 초전도체 성형법, 초전도체 응용기술

  물리 증착 중 스퍼터법은 성분 원효인 산화물 소결체나 금속 과녁을 Ar이온으로 스퍼터하여 목적으로 하는 원자를 때려 기판위에 퇴적시키는 방법이다. ... 또 후자에 대하여는 주로 기체상법에 따른 스퍼터법, 진공 증착법 등에 의한 박막 제작법이 연구되어 있다.1. ... 그러나 스퍼터법, 증발법 및 ICB법을 제외하고 지금까지 높은 Tc산화물막의 제작에 성공하였다는 보고는 거의 없다.

  리포트 | 6페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.03.01

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  CdTe Solar Cell의 효율개선 방안

  sulfide nanowire Schottky diodes , 2010 4) Ben Streetman – Solid state electronic devices , 2007 5) 스퍼터

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.12.30 | 수정일 2016.06.11

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  [반도체] 스퍼터링

  ( s p u t t e r y i e l d )스퍼터율(sputter yield)은 “하나의 양이온이 음극에 충돌할 때 표면에서 방출되는 원자의 수”로 정의되며, 이는 target ... intensity 는 target 재료, gas의 종, 압력, excitation 등의 특징으로, discharge 내의 구성요소들의 존재는 특성 스펙트럼 파장의 조사로 알 수 있다.2) 스퍼터율

  리포트 | 17페이지 | 1,500원 | 등록일 2002.12.08

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  15Etching

  Sputter Etching (5)DC 스퍼터링은 도체만 스퍼터 시킬 수 있으나 RF 스퍼터링은 유전체를 포함한 모든 종류의 고체 물질을 스퍼터할 수 있다. ... - 기본과정 - 스퍼터 에칭 - 플라즈마 에칭 - RIE - Dry etching 장단점 #. Wet etching vs Dry etching#. ... 전자가 자기장에 따라 원운동을 함으로써 분자나 원자와의 충돌 횟수가 증가 되어 이온화 효율을 높인다.양극판이 첨가된 반응 스퍼터 식각형 별도 양극판이 없는 벽면 전체 양극형3.

  리포트 | 48페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  12DryEtching

  식각플라즈마RF 스퍼터링은 유전체를 포함 한 모든 종류의 고체물질을 스 퍼터 시킬수 있는 장점이 있다.반도체 공정에서 RF 스퍼터 식 각은 감광막이 두껍고 식각해야 할 박막이 매우 ... 되는 속도가 비슷하며 주로 습식에칭에서 나타 난다.이방성에칭 : 특정한 방향으로의 에칭속도가 빠 른 경우이며 주로 건식에칭에서 나 타난다.Sputter Etching이온빔 식각RF 스퍼터 ... 통과하면서 전하 는 중성을 띠게 되고 (웨이퍼가 전기적으로 중성 을 유지할 수 있게 하기 위 하여, 전자를 방출시키는 가 열 필라멘트로 되어 있다.)웨이퍼 쪽을 향하여 이동RF 스퍼터

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  메모리 반도체 제작 과정 및 이론 설명 ppt

  RF 스퍼터 바이어스 스퍼터 진공증착법 저항가열증착 전자빔증착 고추파가열 증착 이온 플레이팅법RF sputtering ~10 −12 torr 0.5 torr to 10 −4 TorrMagnetron ... vapor depositionLPCVD Working pressure 0.1~10 torrPlasma LPCVDPhysical vapor deposition PVD 스퍼터링법 DC 스퍼터

  리포트 | 72페이지 | 10,000원 | 등록일 2013.04.22 | 수정일 2023.04.24

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  Mass Flow Controller

  스퍼터 장치에서는 필수적인 구성 요소.

  리포트 | 3페이지 | 3,000원 | 등록일 2014.05.31

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  금속 박막증착

  금속 박막의 증착장비 종류 및 특성- 금속박막 증착에는 일반적으로 물리 기상 증착(PVD)을 많이 사용한다.실험장비는 DC 스퍼터, RF 스퍼터, 마그네트론 스퍼터, E-beam evaporator ... RF스퍼터의 비교DC스퍼터RF스퍼터target 재질전도체전도체, 부도체, 절연체target 제조방식진공주조HIP 또는 소결분말체Glow discharge를 위한 Ar10~15mTorr2 ... 인한 빛이 발생하며 이런의미에서 2극 직류 스퍼터를 직류 글로우 방전(DC glow discharge) 라고도 한다.※ DC 스퍼터의 특성① DC 스퍼터링 장치에서 target에 이온이

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.08.24 | 수정일 2015.02.12

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  Cu film의 전기적 특성분석 실험

  산소, 질소등의 반응성 기체를 첨가하여 반응성 스퍼터링을 하여 산화물과 질화물 박막을 제조한다.스퍼터의 종류로는 DC sputtering과 RF sputtering이 있다. ... 일반적으로 1mΩ부터 10㏁Ω까지의 소자저항을 측정할 수 있으며 표준저항으로 측정해 본 결과 1% 이내의 측정정확도를 갖고 있다.2. sputter : 스퍼터(Sputter)는 스퍼터링

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2013.05.12

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  진공증착과 음극스퍼터링

  그런 의미에서 스퍼터 증착은 플라스마 프로세스이다.스퍼터 증착은 반도체 공업 등 첨단 산업 분야에서 널리 이용되고 있다. ... 비율을 스퍼터 수량이라고 부른다. ... 이 이온이 캐소드 표면으로부터 원자를 스퍼터하게 된다.

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.10.11

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