"스퍼터" 검색결과 81-100 / 240건

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  [반도체공정] 스퍼터링

  Triode 스퍼터링 Magneteon 스퍼터링스퍼터링의 원리Sputtering 이론(2)Sputtering 이론(3)웨 이 퍼초 기 세 척로 드(Load)5X10-6 Torr의 진공스퍼터

  리포트 | 24페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.06.22

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  열화학기상증착법(Thermal-CVD)과 수열합성법(Hydrothermal solution)을 이용하여 각 기판위에 나노와이어 성장

  스퍼터링 공정을 진행하는 장비를 스퍼터 혹은 스퍼터링 시스템이라 한다.원리는 먼저 챔버 내부를 진공에 가깝게 만든 후에 낮은 압력의 Ar(아르곤)gas 또는 O2(산소)gas를 챔버

  리포트 | 11페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.05.14 | 수정일 2017.05.29

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  OMO구조의 Metal층 두께에 따른 특성평가 예비보고서

  /금속/산화물 투명 전도막은 총 두께 100 nm 이하의 얇은 두께와 삽입된 금속의 우수한 strain failure 특성으로 인해 우수한 유연성을 가지고 있으며 연속적인 롤투롤 스퍼터

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2016.06.18

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  이온플레이팅

  아래 그림3에 몇몇 가능한 형태를 나타내었다.- 진공 시스템이 시스템은 스퍼터 증착 장비와 유사하다. ... 잘 맞춰진 압력과 약간의 오염물의 탈착이 플라즈마에서 오염 농도를 낮게 유지하기 위해 요구 된다.- 개스취급시스템이 장비도 역시 스퍼터 증착과 유사하다. ... Ion Plating 시스템의 필요조건일반적으로 이온 플레이팅에 사용되는 장비는 스퍼터 증착을 위한 장비와 같다. 그러나 기판은 스퍼터링 타겟이고 다른 증발 소스가 첨가된다.

  리포트 | 19페이지 | 3,000원 | 등록일 2011.07.03

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  [특허청구범위해석][특허청구범위][특허청구][특허]특허청구범위해석의 과정, 특허청구범위해석의 실무, 특허청구범위해석의 사례, 특허청구범위해석의 방법 분석(특허청구범위해석, 특허)

  -“출원인의 발명에 대해 신규하고 비자명한 것은 이온 빔 스퍼터 기술의 사용이며, 특히 Kaufman gun ion beam 기술들의 사용이다.” ... .-82건 각각에 대해 구별됨을 주장, 가끔 “출원인의 청구된 이온 빔 스퍼터기술이 개시되고 있지 않음”라고 설명함.3) 1985. 10월-Litton의 경쟁사가 protest를 제출

  리포트 | 11페이지 | 5,000원 | 등록일 2013.07.23

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  Flexible Display 정의(개요), 핵심 기술, 기술별 국내외 기술 개발 현황, 특허분석, 향후 시장성과 경쟁력 분석

  스퍼터 건 유닛은 서로 대향되는 1쌍의 스퍼터 건을 구비하여 자기장에 의해 플라즈마를 형성하며, 형성된 플라즈마를 1쌍의 스퍼터 건 사이에 구속하여 타겟을 스퍼터링 한다. ... 건 유닛은 서로 대향되는 1쌍의 스퍼터 건을 구비하여 자기장에 의해 플라즈마를 형성하며, 형성된 상기 플라즈마를 상기 1쌍의 스퍼터 건 사이에 구속하여 타겟을 스퍼터링한다.가스분사 ... 저온 공정을 통해 플렉시블 기판의 변형을 최소화 할 수 있다.본 발명에 따른 Roll-to-Roll 스퍼터 장치는 스퍼터 건의 효과에 의해 플라즈마 노출에 의한 플렉시블 기판의 온도

  리포트 | 20페이지 | 2,500원 | 등록일 2010.02.06

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  3편 토양오염공정 시험법

  비불꽃 원자화 장치-불꽃 원자화 장치: 일반적으로 이용(용액상태 시료를 불꽃 중에 분무)-플라즈마 제트 불꽃 이용-방전 이용/-고체시료를 흑연도가니에 넣어 증발하는 방법/-음극 스퍼터에

  시험자료 | 25페이지 | 10,000원 | 등록일 2017.05.08 | 수정일 2023.01.16

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  [발광디스플레이 실험] CNT 성장을 위한 기본 기판 만들기

  이온이 많이 생겨 discharge 전류가 증가하고 스퍼터 속도가 향상된다. ... 따라서 기판에 대한 전자의 층돌이 줄어들고, 결국 증착속도가 향상되며 스퍼터 가능 압력도 낮출 수 있다. ... RF스퍼터링을 이용하면 금속, 합금, 산화물, 질화물, 탄화물 등 거의 모든 종류의 물질을 스퍼터 증착할 수 있지만, 생성된 막이 target의 조성과 반드시 일치하지 않기 때문에

  리포트 | 9페이지 | 5,000원 | 등록일 2012.01.01

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  EWOD 결과레포트

  EEEGlass(cleaning)EEEDielectricHydrophobicHydrophobicITO GlassGlass(cleaning)EEE#사용하는 장비 및 방법Sputter(스퍼터

  리포트 | 3페이지 | 1,500원 | 등록일 2014.06.06

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  [반도체]기판과 열처리에 따른 Co 박막의 비저항 및 내부조직 변화 관찰

  Entrapment 펌프Chamber 속에 장착된 장치 표면에 가스 분자를 응집되게 하거나 화학적 반응에 의해 달라 붙게 해서 시스템의 압력을 낮춤.흡착 (adsorption), 스퍼터 ... sec, Po : 10-10 torr- 크라이오 펌프 (cryopump)120 K 이하로 냉각된 표면에 가스 분자를 응축시킴으로써 압력을 10-3 ~ 10-10 torr로 낮춤.- 스퍼터

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.04.10

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  진공 펌프 조사

  이므로 일정 사용시간이 지나면 펌프가 차게되어 배기속도가 심하게 떨어진다.이 때가 되면 배기능력을 회복하여야 하는데 이 과정을 '재생(regeneration)'이라 부른다.2.이온스퍼터펌프이름에서

  리포트 | 12페이지 | 2,500원 | 등록일 2015.12.03

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  반도체 클리닝 공정에 대한 레포트

  오염물에 따른 건식세정 방법① 스퍼터를 시킨다② 오염 물질들을 휘발성 물질로 변화시킨다.③ 오염물질이 놓여 있는 아래층의 물질이 함께 제거된다.

  리포트 | 8페이지 | 2,000원 | 등록일 2015.05.30

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  SEM image의 생성원리, charging 현상 해결방안, OM vs SEM 의 image 비교

  스퍼터 코팅의 경우 진공도는 이온이 타겟 금속을 효율적으로 튀어나오게 하기에 충분한 가속도와 이온량이 얻어질 수 있는 가스량으로 정해진다. ... 스팟터 코팅은 장치와 조작법이 단순하고 능률적이어서 널리 이용되고 있다.스퍼터 코팅의 원코팅의진공도 체크에 쓰이팅의가스관과 같은데, 잔류의가스를 에 쓰전압에서 전리시켜 이온을 만들어 ... 이온을 만시키는 타겟 금속으로서는 스퍼트링의 효율이 좋고 화학적으로도 안정한 Au, Pt 혹은 이들의 합금이 극판으로 쓰인겟 금속으밖에는 Ag, Cu, Ni 등도 스퍼터 코팅을 할

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2011.11.16

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  반도체 클리닝 공정 (반도체 클리닝 공정에 대한 조사 레포트)

  오염물에 따른 건식세정 방법① 스퍼터를 시킨다② 오염 물질들을 휘발성 물질로 변화시킨다.③ 오염물질이 놓여 있는 아래층의 물질이 함께 제거된다.

  리포트 | 8페이지 | 3,000원 | 등록일 2015.06.12 | 수정일 2017.01.09

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  PECVD / SPUTTER

  이 이온이 캐소드 표면으로부터 원자를 스퍼터하게 된다.이러한 형식의 스퍼터는 기판을 자유롭게 놓을 수 있는 공간을 확보할 수 있을 뿐만아니라 넓은 면적의 전극으로부터 스퍼터 증착이 ... 비율을 스퍼터 수량이라고 부른다. ... 이러한 문제에 대해서 스퍼터 증착은 진공 증착에 비해 뛰어나다,스퍼터 성막(成膜)의 주류는 2극 스퍼터링이었다. 5cm 쯤의 거리를 두고 평행으로 놓은 음극과 양극 사이에 글로 방전

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.05.12

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  각종 진공 펌프 원리 사용 방법 sputter 1

  스퍼터링에 의한 증착과정2) 스퍼터 장비의 구성그림 6. 스퍼터장비의 구성1. ... Roughing valve : mechanical pump로 증착용기(chamber)의 진공을 형성할 때 사용.3)스퍼터 조작방법 - 공정순서ⅰ)장비켜기냉각수 원수를 연다.공압 밸브를

  리포트 | 7페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.03

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  [실험레포트] ICP, AAS

  또 고체 시료를 흑연 도가니 중에 넣어서 증발시키거나 음극 스퍼터(Sputtering)에 의하여 원자와 시키는 방법도 있다.

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.12.05

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  09Dry_Etching_&_ECR-RIE

  스퍼터 효과에 의해 전극 배선용 Al 합금막의 식각이 가능하다 . 조절이 매우 쉽고 생산성이 높다 . ... 식각이 진행 식각에 관여하는 반응종은 래디컬뿐만 아니라 이온으로서 , F⁺, CF₃⁺ 등이 화학 반응 및 웨이퍼의 충돌에 의해 식각이 이루어지기 때문에 반응성 이온 또는 반응성 스퍼터

  리포트 | 25페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.02.18

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  [박막공학] Sputtering

  타겟 표면의 조성은 스퍼터 중에 합금성분 원자의 스퍼터율에 따라서 변화하지만 평상 상태에서는 스퍼터 증착막의 화학 조성은 타겟의 초기 조성과 일치 한다.Fig 6. ... 스퍼터링 - 당구 게임타겟에 대한 입사 이온 1개댱에 스퍼터된 원자의 수를 스퍼터율 S라 한다. ... 이에 대하여 성막실에 비활성 가스와 산소 등의 활성 가스를 도입하여 타겟 물질과 스퍼터 가스성분의 화합물 박막을 작제하는 반응성 스퍼터법도 있다.

  리포트 | 13페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.22

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  스퍼터링(sputtering)

  그런 의미에서 스퍼터 증착은 플라wm마 프로세스이다스퍼터 증착은 반도체 공업 등 첨단 산업 분야에서 널리 이용되고 있다. ... 이러한 문제에 대해서 스퍼터 증착은진공 증착에 비해 뛰어나다,스퍼터 성막(成膜)의 주류는 2극 스퍼터링이었다. 5cm 쯤의 거리를 두고 평행으로놓은 음극과 양극 사이에 글로 방전(glow ... thermal process이 아니라 physical momentum exchange process이므로 거의 모든 물질을 target으로 쓸 수쉽게 만들어 질 수 있을 것 같다.스퍼터

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2009.11.18

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