"포토마스크" 검색결과 61-80 / 245건

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  Lithography 및 PR, etchant

  주쇄절단형 PMMA의 radical 반응구조 상용된다.3.포토마스크(Photomask)반도체ㆍLCD에 전자회로 새기는 '필름'반도체ㆍLCD 공정에 필수로 사용되는 핵심 소재인 포토마스크는 ... 그렇기 때문에 포토마스크의 품질은 반도체 집적도와 LCD 해상도 등을 좌우할 만큼 매우 중요합니다.포토마스크에 새겨진 회로선폭은 미크론(㎛, 백만분의 1미터) 단위에서 최근 나노미 ... 피사체가 담긴 필름으로 사진을 현상하는 것과 마찬가지로, 포토마스크는 반도체나 LCD를 제작할 때 필름과도 같은 역할을 하는 것입니다.

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.11.06

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  VLSI공정 6장 문제정리

  단, 포토 마스크 제작시엔 적절한 throughput이다.) ... 단, 포토 마스크 제작시엔 적절한 throughput이다.)근접효과가 발생한다. ... 만약 마스크가 너무 얇아 이온이 뚫고 들어가게 된다면 원하지 않는 부분에 이온주입이 된다.c) Dry Etching용 마스크로 사용시 고려해야 할 점?

  리포트 | 6페이지 | 4,000원 | 등록일 2018.06.05 | 수정일 2020.05.03

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  8. PLED 소자제작(결과-논문)

  이 때 쓰이는 PR에 따라, UV의 파장에 따라 정해질 수 있다. positive는 포토마스크와 같은 모양의 패턴이 남는 형태고 반대로, negative는 포토마스크로 가려지지 않은 ... 다음 포토마스크를 코팅된 ITO기판에 올려 UV노광을 시켜 패턴을 만든다. positive PR을 사용했기 때문에 마스크대로 패턴이 되면, 노광된 PR을 현상액으로 25초간 담궈 제거한다 ... 도포액을 도포한 뒤 포토마스크를 통해 얻고자 하는 모양을 패터닝 할 때에는 positive와 negative가 있다.

  리포트 | 4페이지 | 3,000원 | 등록일 2016.04.06 | 수정일 2016.04.11

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  [고분자재료실험] 5. ITO Scribing & Cleaning. - 예비

  등이 있다.쓰이는 분야로는 웨이퍼-, 포토마스크(photomask), 유리 기판, 광학 부품의 세정 수지 부품의 표면 개질 접착, 도장, 인쇄, 증착, 땜납등의 밀착성의 향상 워크

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2014.12.26

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  포토리소공정

  정의 : 포토리소그래피 공정은 어떤 특정한 화학 약품이 빛을 받으면 화학반응을 일으켜서 성질이 변화하는 원리를 이용한 것이다, 얻고자 하는 패턴의 마스크를 사용하여 빛을 선택적으로 ... 패턴을 내기 위한 포토마스크를 기판 위에 올린다.3. UV를 조사한다.※ 주의사항 : UV는 눈에 좋지 않기 때문에 눈으로 직접 쳐다 보지 않는 것이 좋다⑤ 현상 공정1. ... 효율을 높이기 위함이다.SOLVENTPRITOGLASSSOLVENT 용액을 증발 시킨다.네 번째 노광노광은 빛에 반응 하는 PR을 패터닝을 하기 위한 공정이다.원하는 패턴모양의 포토마스크를

  리포트 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2015.11.15

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  Molecular diagnosis using paper chip 실험 결과보고서

  이 연구진은 감광성 고분자를 종이에 얇게 코팅하여 포토마스크로 종이 표면을 가린 다음, 자외선을 조사하여 원하는 모양으로 종이를 패터닝 하였다.

  리포트 | 2페이지 | 2,000원 | 등록일 2018.09.24

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  벤처창업 사례연구 - 에스앤에스텍

  또한 당시 정 사장은 `포토마스크` 국산화에 성공해 피케이엘을 대표적인 반도체부품업체로 성장시킨 상태였다. ... 아무리 위험부담이 적다고 해도 어느 것 하나 보장할 수 없는 거친 사업전선에 뛰어드는 것은 온전히 개인의 역량에 달려있기 때문이다.당시 포토마스크 원재료인 블랭크 마스크는 전량 일본에서 ... 이후 꾸준한 발전을 거쳐 2010년 기준 반도체용 블랭크 마스크 세계시장 점유율 8%, FPD용 블랭크 마스크 세계시장 점유율 22%를 달성, 세계 3대 블랭크마스크 전문기업으로 자리매김했다.회사명

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2011.06.22

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  반도체 공정의 이해

  Photo-Lithography Ecthing Thin film Photomask : customer 의 layout 에서 각 공정에 해당하는 pattern 을 추출해내 실제 공정에서 ... pattern 이 찍혀지도록 만든 판은 mask 로 볼수 있으며 , 각 pattern 마다 인쇄하는 과정은 반도체공정으로 볼수 있다 .process definition(3) Process Photomask

  리포트 | 29페이지 | 3,500원 | 등록일 2011.11.18

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  반도체 제조 공정조사

  다시 말해 포토마스크는 반도체 칩이나 LCD 등을 만들기 위한 사진 원판을 말한다. ... 위에 극히 미세한 형상을 만들어서 사진의 필름과 같은 용도로 사용하며 사진을 찍는 방법과 유사하게 웨이퍼 위에 복잡한 패턴을 형성시켜 수 많은 반도체 소자를 만들게 되는데 특히 포토마스크의 ... 회로가 반도체 웨이퍼 위에 전사되기 전에 최초로 구현되는 반도체 부품으로 이 원리는 사진을 찍는 것과 같아서 사진의 경우 필름이 있으면 수천 장의 같은 사진을 만들 수 있는 것처럼 포토마스크를

  리포트 | 21페이지 | 1,500원 | 등록일 2010.06.03

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  인하대 공업화학실험 패터닝 예비 보고서

  코팅된 표면을 일정온도에서 baking 하여 단단하게 한 후, Photomask를 배치(Align)하고 응축, 투영렌즈를 통해 UV를 광원으로 하여 노광시킨다. ... 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 애싱장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.마스크 패턴을 제거한 산화막의 표면 ... _______________________________________________________________________________________________실험 목적마스크

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.09.25

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  반도체 제작 공정 Team Project

  마스크 제작반도체 및 LCD 제조시 매우 중요한 원재료로 사용되는 포토마스크(Photomask)는 유리기판 위에 반도체의 미세회로를 형상화한 것이다. ... 노광패턴노광은 레티클이라 불리는 마스크 기판에 의해 축소투영 전사시킴으로써 행해지고 있다. ... 마스크 제작 6. 산화 공정 7. 감광액 도포 8. 노광 9. 현상 10. 식각공정11. 이온주입 12. 화학 기상 증착 13. 금속배선 14. 웨이퍼 자동선별 15.

  리포트 | 21페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.07.27

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  패터닝 예비보고서

  도포된 감광 물질을 처리하면 패턴 주위에 마스크 모양이 형성된다.ⓐ 노광(Exposure) : 포토 마스크를 Wafer 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과 시킨다. ... 이 마스크 판을 이용하여 Wafer에 패턴을 전사한다.마스크는 투명 영역(clear field)마스크와 불투명 영역(opaque) 마스크로 구분된다. ... 투명 영역 마스크는 마스크 대부분이 밝아 정의된 패턴 부분을 정확히 식별할 수 있으므로 연속적인 마스크 사이의 정렬이 용이하여 많이 이용되고 있다.반면 불투명영역 마스크는 이와 반대로

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.05.27

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  관세절감 통관기법

  세척제 등 물리적으로 수출물품으로 형성하는데 소요되지 않으며 화학반응 에 직접 사용되어 수출물품을 형성하는데 소요되지 않는 원재료 반도체생산에 장기간 계속 사용되며 소모되지 않는 포토마스크

  리포트 | 51페이지 | 2,000원 | 등록일 2019.07.05

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  한국호야전자 합격자 자기소개서

  저는 이전회사에서 공정을 만들고 생산수출까지 직접경험하면서 품질관리가 제게 가장 적합하다고 생각하여 액정 포토마스크업계에서 세계1위를 차지하고 있는 신뢰받는 기업 호야에서 도전의 땀방울을

  자기소개서 | 2페이지 | 3,000원 | 등록일 2013.07.13

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  고성과작업장과 노사관계(사례연구를 중심으로)

  토판포토마스크(주)의 사례1)개요경기도 이천시 산둔면에 소재한 토판포토마스크는 1989년 11월 듀폰의 계열사인 듀폰코리아 포토마스크(주)로 출범하였다. ... 주요 생산품은 포토마스크로 반도체 핵심 원부자재로 활용되며, 현재 상시근로자는 177명이다. 근로자 대표기구는 노사협의회로 노동조합은 설립되어 있지 않다. ... 모순2.품질의 모순3.몰입의 모순4.모순의 극복방안Ⅴ사례연구·······································P.71.유한킴벌리의 고성과작업관행 도입과정2.토판포토마스크

  리포트 | 15페이지 | 2,000원 | 등록일 2009.05.13

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  [공학]LCD용 부품소재의 종류

  포토마스크{차광재 재료별 분류크기별 분류하드크롬 마스크금속 크롬막TFT/STN초대형마스크20×24in초과TFT/STN에멀젼 마스크할로겐화제막STN/TN대형마스크7in角이상TFT/STN ... /CF필름마스크할로겐화제막TN망상마스크7in角이하TFT/CF포토마스크는 노광장치에 의해 패터닝을 실시하는 경우, Negative가 되어서 반도체, 프린트 기판과 같이 회로 패턴이 그려지게 ... 포토레지스트LCD 제조 프로세스의 포토-리소그래피 공정에 사용되는 포토레지스트를 대상으로 하였다.

  리포트 | 5페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.06.06

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  실리콘 웨이퍼에 패터닝 후 에칭과 P/N type 판정

  오븐의 온도는 60~100℃로 공기나 질소 가스 분위기에서 5~10분 정도 건조시킨다.마스크 배열포토마스크는 한쪽 면이 감광 유제나 금속막으로 패턴이 되어 있는 사각형의 유리판이다.각각의 ... 마스크는 전 공정에 따라 웨이퍼의 패턴에 조심스럽게 배열한다.감광제 노출과 현상배열 후 마스크를 통해 높은 밀도의 높은 자외선을 감광제에 노출한다. ... 300nm = 3000 Å사용할 엣칭 용액 : BOE(7:1)용액의 엣칭 속도 : BOE 1122 Å/min (at 300 K)Etch rate : 160 초에이프런, 안면보호대, 마스크

  리포트 | 8페이지 | 1,000원 | 등록일 2018.08.18

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  Lithography 공정의 이해

  ·light field와 dark field 마스크·reticle: 실제 패턴 사이즈의 5, 10배로 확대한 마스크·포토마스크: 실제 사이즈로 반복되는 패턴3. ... ·포토마스크의 패턴을 PR에 옮긴다.·현상한다.·PR아래에 있는 층을 Etch한다. / PR을 제거한다.2. ... 포토마스크·패턴이 있는 유리 판·패턴은 Cr 박막의 선택적인 etching을 통해서 생성된다.·Cr막은 빛의 통과를 막는다. 반대로 clear한 부분은 빛의 통과가 자유롭다.

  리포트 | 21페이지 | 1,000원 | 등록일 2012.04.21

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  고성과 작업장의 노사관계

  토판포토마스크(주)의 사례(대안적 작업시스템 요소의 발견)1) 소개 및 노사관계 현황우리나라 경기도에 위치한 토판포토마스크(주)는 반도체 핵심 원부자재가 주요생산품이고 현재 근로자가 ... 토판포토마스크의 미션은 “고객이 세상을 변화시키는 데 도움을 주는 미세회로 구현 기술의 선도적 공급자가 되자”로 기술 지향적 성격을 보여주고 있으며, 경영이념은 “고객만족, 팀웍, ... 의사소통의 채널로 삼고 있다.2) 사례에서 보여 지는 노사관계 상의 시사점① 분임조 활동의 활성화제품개발을 위하여 부설연구소를 설립하고, 현재 20여명의 연구 인력으로 전 세계적인 포토마스크

  리포트 | 11페이지 | 2,000원 | 등록일 2010.04.04

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  고성과작업장의 개념과 구체적 사례를 통한 발전방안(사례를 중심으로)

  토판포토마스크㈜P.2~4가) 대안적 시스템나) 고몰입인적자원관리다) 노사파트너쉽2. 델파이 코리아㈜P.5~7가) 대안적 시스템나) 고몰입인적자원관리다) 노사파트너쉽Ⅲ. 결 론마.

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2010.05.07

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