"포토마스크" 검색결과 181-200 / 245건

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  반도체 집적회로에 대하여

  이때부터 웨이퍼는 사진의 인화지 역할을 하게 된다.③ 노광 (Exposure) : 포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음에 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과시킨다. ... 반도체(실리콘)IC는 단결정제조·웨이퍼처리를 하고, 마스크제조공정을 거쳐 만들어진다. ... 웨이퍼처리공정에서는 미리 만들어두었던 마스크를 웨이퍼에 맞추어 여러 가공을 거쳐 IC칩을 만든다.

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.06.17

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  [바이오나노]바이오 나노칩에 관한 고찰

  특별히 설계된 photomask를 위에 놓고 빛을 쏘이면 구멍이 나 있는 곳으로 빛이 들어가 그곳에 있는 보조체의 화학물질들을 제거한다. ... Affymetrix DNA chip 제작 과정{이러한 chip을 씻은 다음 다시 다르게 설계된 photomask를 이용하여 빛을 쏘여 주면 빛을 받은 부분의 보조체만 제거되어 다음

  리포트 | 6페이지 | 5,000원 | 등록일 2005.11.21

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  나노바이오기술

  예로서 silicon 웨이퍼 위에 SU-8이라는 감광성의 물질을 코팅하고 포토마스크를 이용해서 패턴닝 하게 되면 결과적으로 마스터 (master)가 만들어지며, 이것을 주형으로 하여

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2008.12.25 | 수정일 2017.03.28

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  유리 제조방법

  전자용 특수유리에는 TV 및 모니터 브라운관용 유리와 LCD용 유리가 있으며 고전압 절연용 유리, 전도성 유리, 전극유리, IC용 Photomask 유리등이 있습니다.

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2009.04.30 | 수정일 2020.06.19

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  OLED의 모든것

  inter-diffusion, 화학적 변화에 의한 발광 색좌표의에 걸쳐 균일한 노광이 이루어 질수 있도록 하기 위해 pre-bake를 추가로 실행한 후 cathode separator 형성용으로 설계된 photomask를

  리포트 | 36페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.12.03

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  [전자재료, 반도체, 광학]리소그래피

  노광 기술이라고도 하며, 포토마스크 기판에 그려진 반도체 회로 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 공정으로, 반도체 제조 공정에 있어서, 회로의 미세화와 집적도를 결정짓는 핵심 공정이다. ... 패턴형성 후, 감광막을 마스크로 사용하여 웨이퍼 기판 막을 에칭 혹은 이온주입 작업등을 실시하고, 이후 불필요해진 감광막을 제거하는 공 정을 실시하게 된다. ... 감광재료에 옮겨놓은 패턴들은 다음단계의 식각과정때 웨이퍼 표면과 감광재료 사이에 놓여 있는 공정상의 실질적 마스크 역할을 하는 박막층(ex: SiO₂, Si₃N₄등)에 모형을 형성시키는

  리포트 | 4페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.08.31

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  전자현미경

  용도연구분야생물학: 생물, 미생물, 균류, 박테리아, 곰팡이등의 관찰, 연구의학: 세포, 바이러스, 혈액, 피부조직 연구, 관찰, 검사재료학: 금속, 세라믹, 신소재, 반도체 공정(포토마스크

  리포트 | 35페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.09.22

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  LCD와 PDP의 현재동향

  , 포토 마스크, 배기 튜브와 관련된 기술로서 선진국 대비 국내 수준은 약 60~70% 수준이다.제조 장비기술은 인Lab.에서 제안한PTA(Plasma Tube Array) 기술을 ... 중소형 LCD 패널 생산라인으로 전환하였다.2.4 PDP의 현재동향2.4.1 PDP의 전반적인 동향한국의 기술수준은 선진국 대비 약 50~60% 정도로, 패널 부품 기술은 스크린 마스크

  리포트 | 24페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.12.11

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  OLED 원리 및 구조, 공정

  Full color기법3.5.5 포토프린팅법 ? 더욱 간단한 Full color기법3.6 발광효율 개선3.7 수 명4. OELD의 장? ... Pre-bake된 기판 위의 PR film에 원하는 패턴의 photomask를 통하여 UV광을 선택적으로 투과시키어 노광시키고 PR film에 UV의 선택적인 노광을 거치면서 감광된 ... 백색의 Spectral의 일부만을 사용하게 되는 것이다.구조상으로도 대단히 간단해서 유기EL의 발광층을 RGB로 패터닝할 필요가 없고, 섀도마스크의 열팽창에 의해 어긋나는 문제도 생각하지

  리포트 | 27페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.09.30

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  [공업화학 실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거

  소프트 베이킹 후, 마스크를 배열하고 노출시킨다.㉤ Align masks-포토마스크는 한쪽 면이 감광 유제나 금속막으로 패턴이 되어 있는 사각형의 유리판이다. ... 식각은 지정된 영역에서 선택적으로 물질을 제거하여, 기판 위의 감광제 또는 하드마스크(hard mask)를 통하여 패턴을 전사하는 것인데 포토리소그래피와 습식식각 공정은 오랫동안 인쇄산업과 ... 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한

  리포트 | 13페이지 | 2,500원 | 등록일 2008.01.28

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  반도체 이야기 감상문[매일경제신문 산업부]

  이때부터 웨이퍼는 사진의 인화지 역할을 한다.i 노광 (Exposure) : 포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과 시킨다.자외선 빛은 마스크 위의

  리포트 | 6페이지 | 2,000원 | 등록일 2008.01.17

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  DNA칩 (바이오칩)

  이러한 성질을 이용하여 특별히 설계된 photomask를 위에 놓고 빛을 쏘이면 구멍이 나 있다

  리포트 | 14페이지 | 3,500원 | 등록일 2007.11.27

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  현미경을 이용한 사물 관찰

  생물학: 생물, 미생물, 균류, 박테리아, 곰팡이 등의 관찰, 연구▣ 의학: 세포, 바이러스, 혈액, 피부조직 연구, 관찰, 검사▣ 재료학: 금속, 세라믹, 신소재, 반도체 공정(포토마스크

  리포트 | 8페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.10.26

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  포토리소그라피(photolithograpy)공정의 기본과 금속배선공정인 무전해, 전해도금의 기초 및 원리

  포토리소그래프는 매우 개량된 사진인쇄술로써 패턴은 마스크로부터 감광제라 불리는 빛에 민감한 물질로 전사된다. ... 또한 불순물 침투나 접합이 필요한 곳 어디나 이런 장벽 물질에 구멍이나 창을 뚫게 된다.패턴 창을 가지는 마스크는 포토리소그래피라 불리는 과정을 통하여 실리콘 웨이퍼 표면에 전사된다 ... 배열- 포토마스크는 한쪽 면이 감광 유제나 금속막으로 패턴이 되어 있는 사각형의 유리 판으로 웨이퍼의 패턴에 조심스럽게 배열되어야 한다.2.6 감광제 노출과 현상- 감광제 노출,

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.17

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  FED(Field Emitter Display)를 위한 형광체

  수평형 에미터인 모서리 에미터(Edge emitter)들도 평면 박막과 포토마스크 작업으로 간단히 만들 수 있기 때문에 연구되어 왔다.에미터의 구조가 결정되면 공간적인 전자 분포의

  리포트 | 10페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.05.17

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  전자부품 및 반도체 조사

  피케이엘 대표이사 정수홍입니다.새롭게 개편한 홈페이지를 통해 고객과 주주 여러분을 만나뵙게 되어 참으로 반갑습 니다.피케이엘은 반도체와 TFT-LCD의 선공정 재료로 쓰이는 포토마스크를

  리포트 | 111페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.16

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  반도체공정 (Metallization)

  Aluminum의 reliability를 개선시키기 위해서 1%의 구리를 첨가한다.3.Titanium nitrideDeposition (CVD)TiN은 다음 photomasking

  리포트 | 18페이지 | 4,500원 | 등록일 2007.01.27

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  박막재료의 표면 처리 및 PR제거

  이 기술의 기본은 미세한 회로 패턴을 새기는 리소그래피 기술이다.이제까지는 포토마스크를 통해 빛으로 감광재료에 노광하는 광리소그래피 방식이 이용되었으나, 점차 고밀도 패턴을 작성하는 ... 입자의 농도차에 의해 그 입자의 농도가 낮은 쪽으로 퍼지게한다.3) 감광액도포 과정- 포토 레지스터를 웨이퍼위에 원하는 두께로 균일하게 도포 한다.4) 노광과정- 설계된 마스크이 패턴에 ... 패턴의 제거(O2 plasma aching) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크패턴을 제거한

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2007.10.20

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  [에너지 공학 ] 연료전지와 마이크로 채널

  실험방법(1) 마스크 제작CAD를 이용하여 마스크를 디자하여 그것을 바탕으로 포토마스크를 제작하 고 OHP를 사용하여 레이저프린터로 출력함(2) 실리콘 웨이퍼 위에 PR 코팅실리콘 ... 웨이퍼 위에 PR(photoresist)를 코팅하는데 스핀 코터의 회전속도로코팅의 두께를 조절할 수 있음.(3) 노 광PR이 코팅된 Si wafer위에 채널이 디자인된 포토마스크를

  리포트 | 22페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.11.26

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  정보처리기사 신기술 동향 용어 정리

  신기술 동향 용어 정리(최신)━━━━━━━━━━━━━. IP 카메라(IP camera)유무선 인터넷에 연결하여 사용하는 카메라. 카메라 모듈, 디코더, 영상 압축칩, CPU, 네트워크 전송 칩 등으로 구성된다. 카메라 모듈로부터 받은 아날로그 신호는 디코더를 통해 디지..

  시험자료 | 6페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.11.02

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