"포토마스크" 검색결과 201-220 / 245건

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  [공학기술]Bio Chip 과 DNA Chip

  .⒟ 이러한 chip을 씻은 다음 다시 다르게 설계된 photomask를 이용하여 빛을 쏘여 주어 다른 염기들과 결합시킨후 위의 과정을 반복하여 원하는 염기배열을 완성한다.④ Electronic

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.06.19

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  차세대 반도체

  마스크 개발ㆍ초 집적 고속 반도체용 소재 및 응용 기술 개발ㆍ고속 반도체용 소재 및 응용 기술 개발ㆍ차세대 나노 메모리 개발ㆍ차세대 반도체 architechure 개발ㆍ차세대 나노 ... 구현용 ICㆍ오감 시스템용 시스템 IC 개발ㆍ차세대 SoC를 위한 아날로그 RFㆍ차세대 무선 멀티미디어용 SoC 프랫폼 개발℃ㆍ나노 공정용 프라즈마 장치 및 소스 개발ㆍ50 nm 급 포토

  리포트 | 11페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.05.26

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  MEMS 사례발표(DLP)

  metal-3)을 만들기 위한 알루미늄 layer, hinge, yoke 그리고 거울 layer와 두 개의 air gap을 만들기 위한 강화된 photo-resist의 총 6개의 photomask

  리포트 | 26페이지 | 2,000원 | 등록일 2007.07.06

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  국제표준화기구(ISO)및 관세환급에 대하여

  따라서 수출물품의 생산시에 사용되는 기계 및 설비, 공구, 금형, 포토마스크등과 연료, 기름등 에너지 요소는 수출용원재료의 범위에 해당되지 않는다.수출용원재료는 수출물품을 생산할 때

  리포트 | 9페이지 | 1,500원 | 등록일 2007.12.09

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  [반도체] 반도체 시장 정보

  Materials1매출업체명순위89Bonding Wire161Plastic Laminate286Leadframe19Other New Materials43CMPSlurry68Photoresist213Photomask579Silicon ... Targets2,9002,6752,3201,982Gases720689657632Wet Chemicals900830710604Photoresists Ancillaries910824716660Photoresists3,6003,1002,5972,362Photomasks공정

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.01

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  [기업사례연구] 다국적기업 듀폰(Dupont)

  )1993. 7 포토마스크 및 리스톤R ISO 9002 획득1993. 9 이천 센타리R 기술지. ... 듀폰 코리아 전자 주식회사 설립1988. 5 한국듀폰 주식회사 설립1988. 6 듀폰 폴리머 주식회사 설립1988.11 듀폰 코리아 포토마스크 주식회사 설립1989. 1 듀폰 코리아 ... 특수폴리머 주식회사 설립1990.11 이천 포토마스크 공장 준공1991. 1 이천 리스톤R 공장 준공1991. 8 울산 폴리머 공장 준공1992. 3 울산 뷰타사이트R 기술지원센터

  리포트 | 9페이지 | 1,000원 | 등록일 2002.06.13

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  [화학] DNA chip

  이러한 chip을 씻은 다음 다시 다르게 설계된 photomask를 이용하여 빛을 쏘여 주면 그곳에 있는 보조체나 염기들이 활성화되어 다음 염기들과 합성할 수 있게 되는 것이다. ... 하지만 이들 보조체는 평소에 빛에 민감한 화학 물질로 덮여 있어 염기들이 합성될 수 없다.이러한 성질을 이용하여 틀별히 설계 된 photomask를 위에 놓고 빛을 쏘이면 구멍이 나있는

  리포트 | 12페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.12.06

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  [공업화학실험]박막 재료의 표면 처리 및 PR 제거

  이때부터 웨이퍼는 사진의인화지 역할을 한다.(3) 노광 (Exposure) : 포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과시킨다. ... 패턴의 제거 (O2 plasma ashing) - 플라즈마 ashing 장치를 이용하여 산소 플라즈마를 발생시켜서 적절한 조건에서 마스크 패턴을 제거한다.(6) 마스크 패턴을 제거한 ... 사용하고 마스크 아래에 있는 부분과 외부로 노출된 부분 사이의 화학반응이 전혀 다르게 함으로써 마스크로 보호되지 않는 부분들이 공정이 진행됨에 따라 떨어져 나가게 하는 기술을 식각

  리포트 | 10페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.06.25

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  [반도체공정] MASK 제작

  위상 반전 마스크의 원리위상 반전 마스크는 마스크상에서 빛의 위상을 적절히 반전시켜 패턴의 공간주파수를 줄이거나(주기성 패턴), 가장자리 contrast를 증가시키는 간섭효과를 이용 ... 위상 반전 마스크(Phase Shift Mask)4-1. ... Binary Intensity Mask현재 가장 많이 사용되는 마스크는 그림 19와 같이 마스크 구조를 지탱하는 투명한 quartz위에 빛을 차단하는 chrome 막을 입혀 구현하고자

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2005.06.29

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  DNA chip의 종류와 특성 및 전망

  이러한 성질을 이용하여 특별히 설계된 photomask를 위해 놓고 빛을 쏘이면 구멍이 나있는 곳으로 빛이 들어가 그곳에 있는 보조체의 화학 물질들을 제거한다.

  리포트 | 7페이지 | 1,000원 | 등록일 2006.12.22

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  반도체

  .ⓘ 노광 (Exposure) : 포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과 시킨다. ... 자외선 빛은 마스크 위의 회로 패턴을 웨이퍼에 그려준다.ⓙ 현상 (Development) : 일반 사진 현상과 동일하다.

  리포트 | 9페이지 | 2,000원 | 등록일 2006.09.12

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  [반도체] 반도체 재료 및 공정

  포토 마스크라고도 하는데 사진용 원판의 구실을 한다.현상 공정에서 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음 강한 자외선을 비추면 유리 위에 그려진 회로가 웨이퍼에도 똑같이 그려진다. ... 이때부터 웨이퍼는 사진의 인화지 역할을 한다.i 노광 (Exposure) : 포토 마스크를 웨이퍼 위에 얹은 다음, 조준을 맞추고 강한 자외선을 통과 시킨다. ... 이것이 마스크다.

  리포트 | 6페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.09.23

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  [전자회로] 반도체 공정

  -조준정렬(Align) : 사진용 원판(포토 마스크)을 웨이퍼 위에 얹은 다음 이미 만들어진 앞과 정에서의 모양과 맞춘다.

  리포트 | 3페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.03.26

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  LG 마이크론의 품질경영

  조 사장은 “지금은 섀도마스크만 1등이지만 앞으로는 포토마스크와 PDP후면판 등 모든 품목에서 세계 1위가 목표”라고 말했다.? 높은 배려와 높은 업무 중심의 리더이다.?

  리포트 | 15페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.12.03 | 수정일 2015.02.27

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  [마케팅관리론] 제품 계획과 개발-대체품,모방품,혁신 제품,제품 혁신

  Employees: 55,000 worldwide Global: Operating in more than 70 countries worldwide 한국에는 1977년 진출 유한회사 듀폰, 듀폰포토마스크

  리포트 | 40페이지 | 1,500원 | 등록일 2005.05.28

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  [기계공학]노광기

  리소그래피노광 기술이라고도 하며, 포토마스크 기판에 그려진 반도체 회로 패턴을 웨이퍼 상에 전사하는 공정으로, 반도체 제조 공정에 있어서, 회로의 미세화와 집적도를 결정짓는 핵심 공정이다 ... 반사형 마스크 사용(EUV 파장 대에서 투과될 수 있는 마스크 물질 없음)? 마스크의 반사도 중요⇒ 공정의 throughput 과 관계? ... 4× 마스크를 사용함으로써 리소그래피를 하기 쉽다.?

  리포트 | 7페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.05.26

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  [유전학] DNA칩에 대해서

  이러한 성질을 이용하여 특별히 설계된 photomask를 위에 놓고 빛을 쏘이면 구멍이 나있는 곳으로 빛이 들어가 그곳에 있는 보조체의 화학물질들을 제거한다. ... 물론 각각의 염기들도 빛에 민감한 화학물질로 덮여 있어 한 개씩밖에 합성이 안된다.이러한 chip을 씻은 다음 다시 다르게 설계된 photomask를 이용하여 빛을 쏘여 주면 그곳에

  리포트 | 14페이지 | 1,000원 | 등록일 2003.05.24

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  바이오센서개론및효소면역센서특론

  영역을 구분하여 자외선을 노광시킴 노광된 부분과 노광되지 않은 부분의 효소활성의 차이를 ENFET과 REFET으로 구분함 광가교법 수용성 포토레지스트와 효소를 혼합 도포 포토마스크로 ... 특성에 따라 Na+, K+, Ca2+, Cl- 등을 검출효소 FET차동형 효소 FET 2개의 FET으로 (ENFET/REFET)구성 두 ISF면 도포하여 고정된 효소막에 사진식각 마스크로 ... 광 조사하여 필요 부분만 가교형성 현상 세척 후 타 효소막을 형성할 수 있어 멀티 효소센서 리프트 오프 (lift off)법 포토레지스터 도포하여 패턴형성후 효소고정액 도포 아세톤

  리포트 | 68페이지 | 1,500원 | 등록일 2006.11.20

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  [공학]디스플레이 재료및 공정

  금속을 음극타겟트로 사용하여 아크방전에 의핸 냉각된 금속을 국부적으로 녹여 동시에 이온화하는 아크방전법 등이 있다.리소그래피공정(Lithography Process)리소그래피는 포토마스크 ... 기판막을 에칭할 목적이 아닌, 이온 주입의 마스크로서 포토레지스트의 패턴을 형성하게 되는 경우도 있다. ... 식각 공정에 대해 조금 더 설명을 하면 아래와 같다.광 리소그래피 공정에서 마스크로부터 웨이퍼 표면 위의 감광막으로 패턴이 옮겨지고 난 후 식각 공정은 이루어지게 된다.

  리포트 | 33페이지 | 2,500원 | 등록일 2006.02.22

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  [나노테크놀로지] The Study of Soft Lithography

  , easy to use 30nm ~ 500μm Apply nonplanar surface 2-D, 3-D structure Use variety of materialsRigid photomask

  리포트 | 28페이지 | 1,000원 | 등록일 2004.09.14

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